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专利名称:平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出

专利申请号202080052855.2
申请日2020.07.21
公开(公告)号CN114402411A
公开(公告)日2022.04.26
主分类号H01J35/14
分案原申请号
分类号H01J35/14 A61B6/00 H05G1/58
优先权19187558.2 2019.07.22 EP
申请(专利权)人皇家飞利浦有限公司
地址荷兰艾恩德霍芬
发明(设计)人R·K·O·贝林;S·霍尔茨阿普费尔
国际申请PCT/EP2020/070591 2020.07.21
国际公布WO2021/013853EN 2021.01.28
进入国家阶段日期2022.01.21
专利代理机构永新专利商标代理有限公司 72002
代理人刘兆君
专利类型发明专利
摘要提出了一种用于生成第一能谱和第二能谱的X射线辐射的X射线源(100),其中,与常规的X射线源相比,所述第一能谱与所述第二能谱之间的X射线强度不平衡被减小。与当施加较低的管电压时相比,通过在施加较高的管电压时配置较小的撞击到阳极(102)上的电子撞击角度(141)来实现对所述X射线强度不平衡的所述减小。
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