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专利名称:平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出
专利申请号 | 202080052855.2 |
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申请日 | 2020.07.21 |
公开(公告)号 | CN114402411A |
公开(公告)日 | 2022.04.26 |
主分类号 | H01J35/14 |
分案原申请号 | |
分类号 | H01J35/14 A61B6/00 H05G1/58 |
优先权 | 19187558.2 2019.07.22 EP |
申请(专利权)人 | 皇家飞利浦有限公司 |
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |
发明(设计)人 | R·K·O·贝林;S·霍尔茨阿普费尔 |
国际申请 | PCT/EP2020/070591 2020.07.21 |
国际公布 | WO2021/013853EN 2021.01.28 |
进入国家阶段日期 | 2022.01.21 |
专利代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 | 刘兆君 |
专利类型 | 发明专利 |
摘要 | 提出了一种用于生成第一能谱和第二能谱的X射线辐射的X射线源(100),其中,与常规的X射线源相比,所述第一能谱与所述第二能谱之间的X射线强度不平衡被减小。与当施加较低的管电压时相比,通过在施加较高的管电压时配置较小的撞击到阳极(102)上的电子撞击角度(141)来实现对所述X射线强度不平衡的所述减小。 |
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