| 专利申请号 | 202410654385.7 |
|---|---|
| 申请日 | 2016.07.04 |
| 公开(公告)号 | CN118915394A |
| 公开(公告)日 | 2024.11.08 |
| 主分类号 | G03F7/20 |
| 分案原申请号 | |
| 分类号 | G03F7/20 H01L21/02 G03F1/62 G03F1/80 H01L21/027 G03F1/66 G03F1/64 |
| 优先权 | 15177332.2 2015.07.17 EP |
| 申请(专利权)人 | ASML荷兰有限公司 |
| 地址 | 荷兰 |
| 发明(设计)人 | J·H·克洛特韦克;W·T·A·J·范登艾登 |
| 国际申请 | |
| 国际公布 | |
| 进入国家阶段日期 | |
| 专利代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
| 代理人 | 王益 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。 |
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