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1:
[发明]
压力装置
申请号:
03154394.4
公开号:CN1485191 主分类号:B29C43/18
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2003.08.21 公开日:2004.03.31
发明人:
三宅健
摘要:一种压力装置,该压力装置具有下侧加压块(30)与上侧加压块(16)。在下侧加压块(30)与上侧加压块(16)之间搬入表面保持有薄膜状材料(12)的基板(11)。第1驱动装置(35)使下侧加压块(30)移动、向上侧加压块(16)上升,在双方的加压块之间对基板(11)及薄膜状材料(12)加压而使其紧密层压。具有驱动缸(25)、缸杆(26)及杠杆(27)的第2驱动装置(24)被设在基座部件(13)与支撑上侧加压块(16)的上侧支撑部件(17)之间。通过使第2驱动装置(24)动作来使上侧加压块(16)产生转动,从而可扩大下侧加压块(30)与上侧加压块(16)之间的空间,使维护保养变得容易。
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2:
[发明]
压力装置及方法
申请号:
200310101498.2
公开号:CN1498062 主分类号:H05K3/00
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2003.10.21 公开日:2004.05.19
发明人:
三宅健
摘要:一种压力装置及方法,该压力装置,具有由上侧及下侧壳体部件(2、3)构成的真空腔1。在真空腔(1)内配置具有加热板(14、17)的上侧及下侧加压块(12、13)。表面支撑有薄膜状材料的基板(10)被在上侧及下侧加压块之间进行加压。在上侧及下侧加压块(12、13)中至少一方设有加压体(20)。加压体(20)通过向其内部空间内导入加压流体而其上下面可以沿上下方向移动。基板(10)的加压通过加压体(20)的上下面的移动进行。由设成刚性结构状态的、上侧及下侧加压块(12、13)的驱动机构(1)支撑加压力的反力。其使薄膜状材料不会残留气泡地嵌入并密着在基板表面的较深的凹部或孔内,且使薄膜材料平坦化。
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3:
[发明]
层压装置以及层压方法
申请号:
200410007073.X
公开号:CN1526534 主分类号:B29C43/30
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2004.02.27 公开日:2004.09.08
发明人:
三宅荣一
;
三宅健
摘要:一种层压装置以及层压方法,层压装置包括基板运送机构。基板运送机构具有上下一对薄膜传送带(7、8)。一对薄膜传送带(7、8),将在表面保持有薄膜状材料的基板8保持在其间并可沿长方向移动。一对薄膜传送带(7、8),通过边受到延长方向的张力边移动,而将基板8相对于压制部运入以及运出。层压装置,包括用于在压制部挟持基板并加压的上侧以及下侧加压块(10、11)。在各上侧以及下侧加压块(10、11)上,具有用于向一对薄膜传送带(7、8)施加沿横方向的张力的张力施加机构(24、25)。这种层压装置,使运送基板的薄膜传送带的纵向皱折不妨碍基板上的薄膜状材料的平整度。
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4:
[发明]
曝光装置
申请号:
200510078325.2
公开号:CN1703137 主分类号:H05K3/06
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2005.05.12 公开日:2005.11.30
发明人:
三宅健
;
今西贤
摘要:一种通过消除曝光时带状基板因自重向下弯曲而产生的不良,对带状基板和光掩模高精度地进行位置对准,从而提供均匀品质的产品的曝光装置。该曝光装置沿带状基板(1)的长度方向一边间歇地送给带状基板(1)、一边每隔规定长度区域进行曝光。通过驱动装置(19),使具有附着感光材料的曝光面的柔性带状基板1在抽出用卷盘(14)和卷绕用卷盘(15)之间移动。在抽出用卷盘(14)和卷绕用卷盘(15)之间形成带状基板(1)成为垂直状态的垂直路径。在垂直路径设置曝光部。曝光部具有光掩模(21、22)。通过来自光源的光将光掩模(21、22)上绘制的图形转印到带状基板(1)的曝光面上。
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5:
[发明]
曝光方法及曝光装置
申请号:
03138108.1
公开号:CN1461975 主分类号:G03F7/20
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2003.05.27 公开日:2003.12.17
发明人:
三宅荣一
摘要:一种曝光装置,具有用于支持基板(1)的基板支持台(2)和延伸包围基板(2)的周围的中空的密封部件(13)。光掩膜(6)被载持于密封部件(13)上。由基板支持台(2)、基板(1)、密封部件(13)和光掩膜(6)包围形成第1空间(27)。密封部件(13)的中空内部形成第2空间(28)。将有关于基板(1)尺寸的信息被输入于控制机构(22、29)后,根据该信息向第1空间(27)及第2空间(28)提供压力。该压力值是为了使光掩膜(6)均匀密接于基板(1)的整个表面上而适当设定的压力值。根据本发明,在曝光时可以不使用垫片,且可以用简单的操作使光掩膜(6)均匀密接于基板(1)的整个表面上。
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6:
[发明]
扫描型曝光用光源单元
申请号:
200510128663.2
公开号:CN1782885 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2005.11.23 公开日:2006.06.07
发明人:
三宅荣一
摘要:提供一种小型轻量、高可靠性的扫描型曝光用光源单元。本发明的扫描型曝光用光源单元,在对于基板上的曝光面平行地相对移动的同时对曝光面进行光照射。光源单元,具备多个光源。多个光源,沿横切相对移动的方向而排列。每一个的光源,包括发光单元(1)。发光单元(1),至少具有一个半导体面发光元件(5)。使多个半导体面发光元件(5)集合为六角形,如果使发出的光朝光学六角柱(6)入射,则在曝光面上可获得照度均匀的六角形的照射区域。
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7:
[发明]
曝光中使用的光掩膜
申请号:
200910002649.6
公开号:CN101482695 主分类号:G03F1/00(2006.01)I
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2009.01.09 公开日:2009.07.15
发明人:
高木俊博
摘要:本发明涉及一种光掩膜,将光掩膜分为描绘有图案的中央部分和其周围的力传递部分而制成,然后,进行接合,从而能够降低材料费用及避免新设备投资。光掩膜(1)分为包括图案显示区域(5)的中央部分(3)和包围中央部分(3)的外周缘部的力传递部分(4)而制成。两者由粘附胶带(7)相互接合。力传递部分(4)具有用于与力赋予机构连结的连结部(孔)(8),该力赋予机构用于使中央部分(3)弹性变形。
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8:
[发明]
光源
申请号:
201010176036.7
公开号:CN101881386A 主分类号:F21S2/00(2006.01)I
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2010.05.05 公开日:2010.11.10
发明人:
三宅健
摘要:本发明利用多个面发光元件而提供一种以廉价的配线来高效率发光的光源。光源含有集合排列在平面内的多个发光模块(1a、1b、1c)而构成。各个发光模块(1a、1b、1c)具备:集合排列在平面内的多个面发光元件、和将该发光元件收容在内部的壳体。壳体与面发光元件电连接并形成用于向该面发光元件提供电力的电气路径。多个发光模块(1a、1b、1c)被分为多个组,属于各组的多个发光模块(1a、1b、1c)相互串联电连接而被提供电力。
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9:
[发明]
曝光装置
申请号:
201010176146.3
公开号:CN101887217A 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2010.05.05 公开日:2010.11.17
发明人:
三宅健
;
高木俊博
摘要:本发明提供一种能够维持高生产性且减少设备费的曝光装置。曝光装置包括:相互相邻且平行配置的一对曝光单元(1、2);该一对曝光单元(1、2)分别共用的光源机构(3)。曝光单元(1、2)分别具备:用于将带状基板(4)沿其长度方向间歇性地传送的传送机构(5、6、7、8);成为配置在带状基板(4)的传送路径上的曝光部(9),并至少具有一个光掩膜(10)的曝光部(9)。为了将绘制在光掩膜(10)上的图案向带状基板(4)的曝光面上转印,光源机构(3)形成为能够向一对曝光单元(1、2)中的各曝光部(9)交替地照射光。
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10:
[发明]
曝光方法及曝光装置
申请号:
200780052925.9
公开号:CN101663619 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:
三荣技研股份有限公司
申请日:2007.08.10 公开日:2010.03.03
发明人:
三宅健
;
高木俊博
摘要:本发明提供一种曝光方法及曝光装置。使基板(1)固定支承于四边基板支承构件(11)。将绘有图形的光掩模(2)配置于基板(1)的覆盖感光层的位置。通过光掩模(2)将光照射到基板(1)的感光层从而将图形转印到基板上。曝光时,光掩模(2)和基板(1)互相均匀地接触,并且使基板支承构件(11)及基板(1)变形为期望的弯曲形状的状态。基板支承构件(11)以沿与互相对置的第一对侧缘部相同的方向上延伸的第一轴,和沿与互相对置的第二对侧缘部相同的方向上延伸的第二轴为中心,一边分别控制弯曲量,基板支承构件(11)一边与基板(1)共同弯曲。由此,图形的尺寸实质地变化而转印到基板(1)上。
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