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发明专利:440实用新型: 400外观设计: 33
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申请号:201410260751.7 公开号:CN104571149A 主分类号:
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2014.06.12 公开日:2015.04.29
摘要:本发明公开了一种适用于集成气体输送系统的质量流量控制装置,包括输入端、传感器单元、电磁阀以及控制单元。控制单元包括A/D转换器、微处理器和阀控制电路。微处理器接收第一数字信号及第二数字信号,第一数字信号为流量设定信号或其经A/D转换的信号,第二数字信号为流量检测信号经A/D转换的信号。微处理器包括存储模块和计算模块。控制模块根据第一数字信号生成对应的第一控制信号并输出,计算模块用于当A/D转换器输出第二数字信号时对第一数字信号及第二数字信号的偏差进行运算以输出第二控制信号。阀控制电路用于仅根据第一控制信号开启电磁阀或根据第一和第二控制信号控制电磁阀的开度。本发明能够提高质量流量控制器的响应速度,提高控制品质。
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申请号:201510009547.2 公开号:CN104555409A 主分类号:
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2015.01.08 公开日:2015.04.29
摘要:本发明涉及晶硅太阳能自动系统物流传输技术领域,尤其涉及一种可以在三轴方向安全、平稳、精确搬运料架的多向移栽机构,该多向移栽机构包括主体支撑框架系统、X轴直线移动系统、Z轴升降系统、Y轴进给系统和前端抓取系统,使抓取装置能够精确、平稳完成抓取、移载、放置动作,完成三轴向直线往复运动;性能稳定,安全可靠,装卸容易;可以提高生产效率以及最终产品质量;同时最大可能降低硅片损坏率。
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申请号:201610444470.6 公开号:CN106098592A 主分类号:H01L21/67(2006.01)I
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.06.20 公开日:2016.11.09
发明人:刘效岩
摘要:本发明提供了一种微纳米气泡清洗晶圆的系统及方法,包括:液体管道,气体管道,气液混合泵,超纯水管道,与超纯水管道相连接的超纯水喷头,曝气装置;超纯水经超纯水管道和超纯水喷头后喷射在晶圆上,在晶圆表面形成超纯水膜;清洗液体通过液体管道进入气液混合泵;用于产生微纳米气泡的气体通过气体管道进入气液混合泵;气液混合泵将从液体管道出来的清洗液体和从气体管道出来的气体充分混合,且使该气体充分溶解于清洗液体中;曝气装置与气体混合泵相连通,充分混合的所述清洗液体和所述气体从气液混合泵出来后,经曝气装置释放后形成微纳米气泡喷射在晶圆表面的超纯水膜上,从而实现在不损伤晶圆表面图案的同时提高对晶圆表面颗粒的去除效果。
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申请号:201610444682.4 公开号:CN106076926A 主分类号:B08B3/02(2006.01)I
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.06.20 公开日:2016.11.09
发明人:刘效岩
摘要:本发明提供了一种气泡清洗系统及方法,通过采用用于增压的气体通入清洗液容器中,从而实现对清洗液容器内加压的目的,通过采用调节PH值的气体通入清洗液溶液中,来调节清洗液溶液中清洗液的PH值,避免晶圆表面在清洗过程中产生的静电对晶圆造成的损伤,也即是调节PH值的气体具有中和晶圆表面在清洗过程中产生的静电的作用;并且,用于增压的气体进入清洗液中,使清洗液中充满气泡,这样从出水管道出来的充满气泡的清洗液喷射在晶圆上,既可以减少对晶圆表面图案的损伤,又可以提高颗粒去除效率。
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申请号:201611092596.8 公开号:CN106694443A 主分类号:B08B3/08(2006.01)I
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.11.30 公开日:2017.05.24
发明人:朱金恒;郭训容
摘要:本发明公开了一种硅片清洗的调度方法,用于调度两个承载硅片的硅片载片盒在硅片清洗设备中同时进行硅片清洗工艺,包括当在非化学药液槽中的硅片载片盒完成工艺时,判断其下一工艺单元以及机械手是否均为空闲;若是,则判断如果机械手将该硅片载片盒取出并放入下一工艺单元,该硅片载片盒是否会与另一硅片载片盒同时处于不同的化学药液槽中或该另一硅片载片盒是否会无法在工艺完成后立即从化学药液槽中取出。当判断结果均为否时才将硅片载片盒取出并放入下一工艺单元。本发明还提供了一种调度系统,能够确保两个硅片载片盒不会同时处于化学药液槽中,且工艺完成后能及时从化学药液槽中取出。
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申请号:201611149366.0 公开号:CN106856161A 主分类号:H01L21/02(2006.01)I
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.12.14 公开日:2017.06.16
发明人:滕宇;惠世鹏
摘要:本发明公开了一种采用二相流雾化清洗晶圆表面污染物的方法,通过对清洗工艺的步骤过程和各个步骤所采用的工艺参数进行优化,合理选定二相流雾化清洗晶圆表面颗粒污染物的工艺条件,明确清洗工艺窗口,实现对晶圆表面的有效清洗,在保证颗粒污染物高效去除效率的同时,对晶圆表面的图形结构不会造成损伤,从而获得综合的最优化的清洗效果。
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申请号:201611149367.5 公开号:CN106684019A 主分类号:H01L21/67(2006.01)I
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.12.14 公开日:2017.05.17
发明人:滕宇;许璐
摘要:本发明公开了一种二相流雾化清洗装置,包括可移动固定支架及与其相连的二相流雾化喷嘴主体,主体内设有清洗介质混合腔,用于使通入的气体、液体清洗介质充分混合,并形成尺寸均匀的雾化颗粒,主体下端设有雾化颗粒出口,其通过拉瓦尔喷管连接至清洗介质混合腔,可通过拉瓦尔喷管缩小雾化颗粒的尺寸,增加雾化颗粒的运动速度和其具有的动能,并调整雾化颗粒从雾化颗粒出口喷出以后的运动轨迹,以使雾化颗粒具有垂直于晶圆表面的运动方向,防止雾化颗粒产生在水平方向上的动能分量,以避免对晶圆表面图形结构造成损伤。
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申请号:201611188564.8 公开号:CN106799381A 主分类号:B08B9/02(2006.01)I
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.12.21 公开日:2017.06.06
摘要:本发明公开了一种石英管清洗机的分类回收管线系统及分类回收方法,通过在超纯水工艺槽外设置超纯水工艺外槽及在第一、第二化学工艺槽外设置化学工艺外槽,可分别通过排液管对超纯水工艺外槽及化学工艺外槽内的溢流或外漏废液进行分类回收;并针对超纯水工艺槽及第一、第二化学工艺槽所处的不同工艺状态,通过控制分别设置的第一‑第七气动阀择一开启,并通过对应排液管线对超纯水工艺槽、第一、第二化学工艺槽内不同工艺后状态的废液进行分类回收,从而减少了废液处理过程中的大量浪费,并有效降低了回收系统的负荷,因此节省了回收成本。
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申请号:201611242115.7 公开号:CN106813737A 主分类号:G01F1/76(2006.01)I
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.12.29 公开日:2017.06.09
发明人:赵迪;李甲;李秋茜
摘要:本发明公开了一种流量测量装置,包括产品单元和标定单元。所述产品单元包括流量传感器、传感器驱动电路、传感器信号放大电路以及流量信号加速电路。其中所述流量信号加速电路与所述传感器信号放大电路相连,包括:一阶低通滤波电路,用于滤除所述流量信号加速电路的输入信号中的高频信号;传递函数为三阶且包括第一和第二数字电位器的三阶电路。所述标定单元与所述产品单元相连,用于设置所述第一和第二数字电位器的电阻值。本发明还公开了一种获取流量测量装置最佳响应时间的方法及响应时间测试系统。
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申请号:201611257308.X 公开号:CN106802170A 主分类号:G01F1/69
申请人:北京七星华创电子股份有限公司 申请日:2016.12.30 公开日:2017.06.06
发明人:吴薇;牟昌华;王瑞
摘要:本发明公开了一种流量传感器,包括:惠斯通电桥,其包括第一热敏电阻、第二热敏电阻、第一固定电阻和第二固定电阻;第一数字电位器,串联在所述第一固定电阻和第二固定电阻之间;第二数字电位器,与所述第一热敏电阻并联;以及第三数字电位器,与所述第二热敏电阻并联。本发明还公开了一种具有该流量传感器的质量流量输送测控装置以及质量流量输送测控装置的温漂抑制方法,可显著改善温度漂移。
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