摘要：本发明公开了一种多重复合式净化高真空提纯系统，5层金属网材质为304，孔目为40目，两级冷凝其作用是液氮在常温下挥发带走管道内的热量，使管内气体冷却，有机小分子电致发光材料的纯度对OLED器件的工作寿命、效率有重要的影响；本装置解决了传统设备冷却周期长，从而降低了升华提纯效率，现使用电动推杆作为动力装置，可对安装在直线导轨上的分体式炉体进行开合，后由正对炉管下部安装的散热风扇向上吹风实现迅速降温。

摘要：本发明公开了一种小型箱式旋转高温加热炉，它涉及新材料及新能源设备技术领域。它包括高温加热炉，所述高温加热炉呈箱体式，内设腔体加热区；所述高温加热炉腔体加热区内设有用于盛放样品旋转平台；所述旋转平台下部设有一个旋转驱动结构；所述旋转驱动结构放置在腔体加热区外。本发明不仅结构简单，而且通过旋转使得高温加热炉内腔体加热区温场更均匀，材料热反应更充分，使得生产出的材料品质大为提高，经济效益显著增加。

摘要：本发明公开了一种可实现连续生长石墨烯装置，它涉及石墨烯技术领域。它包括高温炉、石英腔体、高真空机组、气路系统、液氮冷却箱和滑轨架；所述石英腔体垂直固定在滑轨架中端；所述高温炉和液氮冷却箱分别安装在滑轨架左右两端，两者均与滑轨架上导轨滑动连接，所述高温炉采用立式可对半打开结构。本发明它可实现快速升温和快速冷却的一体化及自动化，解决了石墨烯材料高温处理后的快速冷却；其立式可移动炉体结构使得真空石英腔体更短，结构紧凑，并能实现垂直更换生长腔体实现连续生长。

摘要：本发明公开了一种快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉，它涉及石墨烯生长CVD设备技术领域。它包括有CVD管式炉，所述CVD管式炉的炉管两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室，所述真空腔室内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所述进料进气腔室与炉体之间安装有射频等离子体发生器，所述出料排气腔体与炉体之间安装有液氮冷阱。本发明用来制备石墨烯，相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点，可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。

摘要：本发明公开了一种卷对卷连续石墨烯薄膜生长设备及其生长工艺，它包括有机体，工作台两端分别设有真空腔，真空腔室上连接有真空管，真空腔室一侧依次设有射频等离子发生器、加热炉、液氮冷阱；通过在真空腔室内设有卷状铜箔对石墨烯进行卷对卷连续制备大面积、高质量石墨烯的设备。采用该设备制备石墨烯，相对于现有方法具有快速、连续的优点，可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。

摘要：本发明公开了一种卷对卷连续石墨烯薄膜生长设备，它包括有机体，工作台两端分别设有真空腔，真空腔室上连接有真空管，真空腔室一侧依次设有射频等离子发生器、加热炉、液氮冷阱；通过在真空腔室内设有卷状铜箔对石墨烯进行卷对卷连续制备大面积、高质量石墨烯的设备。采用该设备制备石墨烯，相对于现有方法具有快速、连续的优点，可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。

摘要：本发明公开了一种石墨烯卷对卷连续生长设备电气控制系统，包括人机交互界面、PLC中央处理器、控制系统、密封腔体；控制系统包括气体流量控制单元、进料舱控制单元、加热控制单元、收集舱控制单元、真空检测单元；密封腔体包括气体质量流量控制器、混气罐、进料舱、温控仪、三段加热区、收集舱、真空泵、挡板阀。本发明通过人机交互界面、PLC中央处理器、控制系统、密封腔体相互之间的配合控制连接，将一个密封的腔体集成了包括加热、真空检测、混合气体供给、进料和收集装置、和张力检测五大实用性功能，并均可在触摸显示屏上完成，各控制单元相互独立，操作简单，用户能够轻松上手，自动化程度高。

摘要：本发明公开了一种坩埚升降法单晶金属生长炉，包括炉体，所述炉体内部一侧顶端固定有步进电机，所述步进电机底端与丝杆进行传动连接，所述丝杆上安装有滑块；所述炉体内部另一侧固定有加热炉，所述加热炉中间贯穿设置有炉管，所述炉管与滑块相互固定连接，所述炉管顶端连接有法兰，所述炉管底端连接有真空计；所述炉体内部底端还固定有变压器。本发明通过升降机构实现加热炉匀速起落，能够通过调节电机转速，自由控制升降速度，满足晶体结晶点的变化要求，整套设备结构设计简洁合理，科学实用，适合推广和使用。

摘要：本发明公开了一种立式真空管式热压炉，包括加热炉，还包括控制系统、制冷系统、安装架；安装架包括一对支撑杆，支撑杆中间固定有加热炉，炉膛内设有石墨模具，石墨模具两端均设有制冷系统，制冷系统包括分别分布在石墨模具两端的水冷上法兰和水冷下法兰，水冷上法兰和水冷下法兰另一端均连接有风冷箱；安装架边侧设有控制系统，控制系统包括触摸屏控制面板和升降操作台，安装架顶部安装有手轮。本发明结构简单，操作方便，不仅可以实现普通管式炉的功能，同时也能实现高温、高压工作，方便客户对特殊材料的装载，烧制和观察，能够在真空高压下制备致密化合物材料，并随时观察本系统的工作状态，具有良好的实用价值与经济效益。

摘要：本发明公开了一种转动PECVD系统，包括安装台，安装台上安装有管式炉，管式炉中间安装有石英管，石英管中间设有螺旋送料器，石英管进料端依次设有供气系统和进料料斗，进料料斗与管式炉之间设有与石英管固定连接的转动齿轮，转动齿轮与直流电机进行传动连接，石英管出料端依次固定有出料料斗和真空机组。本发明使质量和热量的传递更加有利，改善了包覆均匀性，通过回转炉体的不断旋转，颗粒不断改变位置和翻动，实现于与反应气体的良好接触；回转炉的转速可调,从而可以改变炉内粒子运动状态，调节气固接触状况；最终实现可控、高效且均匀的涂层包覆；通过在回转炉的两侧安装进出料的密封料斗实现连续化作业。