摘要：本发明公开了一种以钠钙玻璃为衬底的光掩模及制造方法，该光掩模包括钠钙玻璃基片、铬氮化物遮光膜层、铬氮氧化物减反射膜层，还包括铬氧化物或硅氧化物阻挡层，所述阻挡层、遮光膜层、减反射膜层用真空磁控溅射方法依次镀在所述钠钙玻璃基片上。本发明显著减少了制版过程中，因钠离子导致的刻蚀图形线条边缘产生的“凹陷”缺陷，从而大幅度延长了铬掩模板在加工成光刻掩模版前的存放期限，有效改善了铬掩模板的品质。

摘要：本发明公开了一种铬版表面膜层微小缺陷针孔的检测方法，该方法包括如下步骤：建立标准样图；确定待测铬版的有效区；用智能工业摄像机以微米级精度准确移动并逐一连续不断地拍摄到所述有效区的每个部分；用智能工业摄像机将图片分成以每8平方毫米不少于200万像素，并将每份像素分成256个亮度等级，得到高精度拍摄图片；将所获得的高精度拍摄图片与标准样图进行比较；对在测铬版的缺陷位置、个数、大小予以显示。本发明这种检测方法速度相当快，并且没有人眼视觉误差，非常准确并且对铬版没有污染，适用于大面积铬版表面膜层微小缺陷的检测。

摘要：本发明公开了一种涂胶台，包括用于放置基板的涂胶平台，马达和排风扇；所述马达与所述涂胶平台固定连接，且所述马达用于驱动所述涂胶平台沿所述涂胶平台的周向方向旋转；所述排风扇位于所述涂胶平台上方，且所述排风扇的出风口朝向所述涂胶平台。上述马达会带动涂胶平台沿周向旋转，而风扇在铺展光刻胶时会向基板吹风，从而在基板表面形成具有一定风向的气流，该气流会给予光刻胶一个额外的推力，帮助光刻胶铺展，从而减少在涂布光刻胶时由于光刻胶堆积所形成的边框的宽度。

摘要：本发明公开了一种掩膜版玻璃基板的清洗方法，首先通过将玻璃基板浸入浓硫酸与过氧化氢的比例的取值范围为4:1至6:1的第一SPM洗剂中去除有机物类沾污；再通过将玻璃基板浸入中性无机洗剂与碱性无机洗剂的比例的取值范围为1:4至1:6的混合液中进行超声清洗可以去除玻璃基板表面较大的颗粒以及沾污；之后通过将所述玻璃基板浸入纯水中进行超声清洗可以去除玻璃基板表面较小的颗粒；最终将玻璃基板提拉出纯水以完成干燥脱水，从而全方面的清除玻璃基板表面的各种颗粒以及沾污。

摘要：本发明公开了一种激光防伪用掩膜版的制作方法，通过提供透明基板；在所述透明基板表面设置氮氧化铬层；在所述氮氧化铬层表面涂覆光刻胶，所述光刻胶的粘度大于等于50厘泊；对涂覆光刻胶后的透明基板进行前烘处理，所述前烘处理为烘烤温度持续上升的前烘处理，以得到光刻胶层的厚度为100000埃米至300000埃米，包括端点值的激光防伪用掩膜版。本发明通过使前烘处理中的温度逐渐上升，使光刻胶内部的热量有时间扩散到光刻胶外部，确保了烘烤中光刻胶各层溶剂挥发均匀，避免了现有技术中温度直接升至前烘温度导致光刻胶最外层最先干燥成壳，阻碍光刻胶内部溶剂挥发的问题。本发明还提供了一种具有上述有益效果的激光防伪用掩膜版。

摘要：本发明提供了一种衰减型高均匀的相移光掩膜坯料，包括：玻璃基片；复合在所述玻璃基片上的相移层；复合在所述相移层上的铬氮化物遮光膜层；复合在所述铬氮化物遮光膜层上的铬氮氧化物减反射膜层；所述相移层为硅氧化物薄膜。与现有技术相比，本发明提供的衰减型高均匀的相移光掩膜坯料采用特定膜结构，实现较好的整体相互作用，从而使该相移光掩膜坯料兼具高均匀性和良好的显示效果，并且具有强的耐氢氟酸性，应用范围广。

摘要：本发明提供了一种光掩模胚料，包括：基底；设置在所述基底上的相移层；设置在所述相移层上的遮光膜层；所述遮光膜层包括铬元素、氧元素与碳元素；设置在所述遮光膜层上的低反射膜层；所述低反射膜层包括铬元素、碳元素、氮元素与氧元素。与现有技术相比，本发明通过在遮光膜层及低反射膜层中引入铬碳化合物，可更好地稳定刻蚀均匀性从而得到更好地刻蚀剖面，同时还可在降低薄膜厚度的同时保持其光密度，提高曝光效果；并且薄膜均匀，方阻较小，可有效防止出现静电击穿和静电累积现象。进一步，本发明通过溅射沉积工艺连续堆叠相移膜、遮光膜与低反射膜，使薄膜降低厚度的同时保持光密度不变。

摘要：本发明公开了本发明提供了一种光掩膜基板加工方法，光掩膜基板原材料为玻璃基板，加工方法包括：对玻璃基板进行磨边、磨棱、倒角、喷淋清洗，获得玻璃基板加工用测量数据，根据测量数据确定加工方案，使用不同精度金刚石砂轮依次进行不同精度磨削；磨削后使用抛光设备对玻璃基板依次进行粗抛与精抛，通过使用不同精度金刚石砂轮依次进行不同精度磨削，在快速改善原材料平面度的同时，逐步去除上一次磨削后玻璃基板表面的损伤层，在原材料沿X轴方向往复运动时，金刚石砂轮沿Y轴连续进刀，在玻璃基板行进轨迹类似W型，磨削后可以获得无走刀痕迹和台阶的均匀磨砂表面，对原材料要求不高，工艺流程简便，加工效率高，生产成本低，经济效用高。

摘要：本发明公开了一种掩膜版玻璃基底的清洗方法，包括对玻璃基底表面进行SPM清洗；对玻璃基底持续进行热纯水冲洗；对玻璃基底进行冷纯水冲洗；对玻璃基底进行毛刷洗剂刷洗，毛刷以顺时针旋转方式和逆时针旋转方式交替旋转；对玻璃基底再次进行冷纯水冲洗；对玻璃基底进行甩干，包括采用阶梯转速对玻璃基底进行甩干，再将玻璃基底的旋转方向逆转，提高玻璃基底的转速，直至玻璃基底上的水膜被甩干。本发明提供的掩膜版玻璃基底的清洗方法，利用热纯水冲洗，能够更有效去除SPM溶剂的残留，并采用阶梯转速甩干的方式去除玻璃基底上的水膜，提高了玻璃基底的清洗质量，增加玻璃基底与铬膜层的粘附力。

摘要：本发明公开了一种夹具污染程度的检测控制方法，包括以下步骤：从清洗篮上取下夹具，用纯水进行冲洗；将清洗后的夹具，放入纯水超声波中进行超声处理，所述超声波的音压强度范围为0.1‑0.2mv；取样清洗后的纯水废液，在培养箱中进行细菌培养；根据培养后的细菌团聚数量判断夹具的污染情况；若判断夹具受污染则对对应受污染的夹具进行浸泡处理或高温烘烤处理；对处理过后的夹具进行冲洗，完成洁净度控制。本发明提供的夹具污染程度的检测控制方法，能够定量确认夹具有无异常，为精细化的管理提供决策依据。