摘要：本发明公开了一种等离子体显示板的后板。在后板中，支撑后蚀刻形成间隔壁，这样完成的间隔壁不变形。因此，每个电极可以准确地定位在间隔壁之间的中心部位上。当具有相互粘合的前板和后板的PDP完成时，PDP的光学特性例如白场亮度、色温和对比度以及PDP的电学特性例如电压余量、能耗和电效率得到了改进，因此可靠性得到了改进。

摘要：本发明公开了一种等离子体显示板的后板。在该后板中，通过形成生坯片形状的浆料，然后将该生坯片粘合到电极和玻璃基板的上表面上形成绝缘层或间隔壁层。因此使用本发明后板的PDP具有优异的电学和光学特性。

摘要：本发明公开了一种等离子体显示板的后板。在后板中，通过蚀刻经焙烧的间隔壁层形成间隔壁，因此这样完成的焙烧的间隔壁层没有变形，电极精确地定位在间隔壁之间的中心部位上。在具有相互粘合的前板和后板的PDP中，PDP在光学特性例如平均亮度、色温和对比度以及电学特性例如电压余量、能耗和效率两方面上都表现出了改进。

摘要：具有透明基板、半透光层和光屏蔽层的半色调掩模，用于制造它的方法，以及利用它的平板显示器。该半色调掩模被应用到多个光刻工艺循环中，由此缩短用以制造掩模所占用的时间和减少掩模生产成本。由于所需图案根据氧化铬(Cr_xO_y)膜的均匀性即在溅射中的均匀性、经过本发明的半色调掩模的半透光层来均匀地形成，所以半色调掩模在尺寸上不受限制。

摘要：本发明公开了一种引线框架，该引线框架包括：多条引线，电连接于一个半导体芯片；引线锁，包括设置于多条引线上的并由一种具有与内部引线相近的热膨胀系数的材料制成的基层，和设置于基层与多条引线之间的以固定多条引线并将基层粘合于引线的粘合层；以及至少一条配线，将半导体芯片与引线锁的基层电连接。由于导电条的区域由引线锁代替而被取消了，因此可将引线框架小型化并且使引线框架具有出众的热稳定性和结构稳定性。

摘要：一种使用各向同性蚀刻来形成精细图案的方法包括以下步骤：在半导体基片上形成蚀刻层，并且在所述蚀刻层上涂覆光致抗蚀剂层；对涂覆有所述光致抗蚀剂层的所述蚀刻层进行光刻工艺，并且对包括通过所述光刻工艺形成饿光致抗蚀剂图案的所述蚀刻层进行第一各向同性蚀刻工艺；在包括所述光致抗蚀剂图案的所述蚀刻层上沉积钝化层；以及对所述钝化层进行第二各向同性蚀刻工艺。在不去除所述钝化层的所述预定部分的情况下直接进行所述第二各向同性蚀刻工艺。

摘要：本发明公开一种有多个半透射部分的半色调掩膜及其制造方法，使该掩膜具有至少两个或更多个其光透射互不相同的半透射部分，利用该一个掩膜可以对多个层进行图案化。所述有多个半透射部分的半色调掩膜包括：透明基板，在透明基板上形成的以透射预定波段的辐射光的光透射部分，在透明基板上形成以遮蔽预定波段的辐射光的遮光部分，以及通过将半透射材料沉积在所述透明基板上形成的用于以不同的光透射使所述预定波段的辐射光穿过的至少两个或更多个半透射部分。

摘要：在此公开的是具有黑矩阵的显微透镜阵列薄片及其制造方法。该制造方法包括步骤：a)通过一层接一层地顺序铺设显微透镜阵列层、透明支撑基底或薄膜层和负型光敏树脂层之后辐射和会聚平行光，在负型光敏树脂层中形成会聚光穿过的光孔的区域；和b)去除除了在光敏树脂层中形成的光孔的区域之外的部分，并且在已去除的部分的区域中形成黑矩阵层。

摘要：这里公开了一种其具有微透镜阵列的投影屏。该投影屏包括衬底、光阻挡层、光漫射层、以及保护层。将该衬底构造成用于将多个微透镜装在其上。该微透镜阵列是由排列并形成于衬底整个表面上的微透镜形成的。该光阻挡层形成于其上形成有衬底的微透镜阵列的表面的背面。该光漫射层形成于光阻挡层的底部。该保护层形成于光漫射层的底部。

摘要：本发明公开一种微透镜阵列片及其制造方法。该微透镜阵列片包括：透明衬底，其被排列有微透镜；基部，其被在该透明衬底上形成至由用户所定的高度，该基部被形成在与后来要形成微透镜的相同的位置上；微透镜，其被形成在基部上；以及填隙薄膜，其被加在产生的微结构上，其中作为对该基部的上部进行平坦化的结果，该基部具有相同的高度。该方法包括步骤：(a)在透明支承衬底或薄膜上淀积具有用户所需的形状和厚度的基部成形模，并在该基部成形模间装入要用作基部的材料；(b)对要用作基部的材料的上部进行抛光，使得形成具有相同水平面的基部，并去除该基部成形模；(c)在形成的基部上淀积微透镜；以及(d)在产生的结构上淀积填隙薄膜。