摘要：一种游戏机包括：读取装置，用于从游戏装备读取关于游戏的游戏信息，该游戏装备包括：主体部分，具有用于使从外部入射光照射内部的入射部分以及用于使从入射部分入射的并通过内部的光发出外部的发光部分；以及存储部分，用于存储关于游戏的游戏信息；发光模式确定装置，用于根据通过读取装置读取的游戏信息，确定发光体的发光模式，以对游戏装备的入射部分发光；以及发光控制装置，用于根据发光模式确定装置确定的发光模式，控制发光体的发光。

摘要：本发明的电子机器（1）包括：发电机（10）；电源部（二次电池）（20），积蓄通过发电机（10）而产生的电力；及处理部（负载电路）（30），由从电源部（20）供给的电力驱动。发电机（10）包括发条部（12）、使用磁致伸缩材料而形成的发电部（14）、及电容器（16）。发条部（12）通过振动、操作者的操作、或风力而积蓄力。发电部（14）在未对磁致伸缩材料施加力时，通过积蓄在发条部（12）中的力而发电。

摘要：本发明提供一种伯胺和仲胺的制造方法，其特征在于，在第IIA族元素的有机金属卤化物和还原剂的存在下，对伯酰胺或仲酰胺进行还原。

摘要：本发明提供能够发挥优异的冰上转弯性能的轮胎。轮胎具有胎面部(2)。胎面部(2)包括由周向沟(3)划分出的第1陆地部(11)、和横穿第1陆地部(11)的多条第1横沟(16)。第1陆地部(11)包括由第1横沟(16)划分出的多个第1花纹块(18)。在至少一个第1花纹块(18)形成有刀槽花纹(25)、和将第1花纹块(18)在轮胎周向上断开的第2横沟(20)。第2横沟(20)包括相对于轮胎轴向朝第1方向倾斜的一对两端部(21)、和位于两端部(21)之间并且朝与第1方向相反的第2方向倾斜的中央部(22)。

摘要：本发明提供一种收纳器具，所述收纳器具能够抑制在包装体内收纳医疗用长条体的管体向卷绕方向的旋转，且能够抑制医疗用长条体的前端部的变形。所述收纳器具具有用于收纳导丝的卷绕成环状的管状保持件(20)、将卷绕并相邻的上述保持件(20)固定的固定构件(40)、和台构件(60)。所述台构件具备与上述固定构件(40)卡合的卡合部(61A)、(61B)，同时达到卷绕成环状的保持件(20)的环的外侧，并覆盖导出上述医疗用长条体的上述管体的端部。

摘要：本发明提供一种具有多个在波长1460nm时色散为-8ps/nm/km以下的玻璃层的光纤，其特征在于：由成为折射率曲线的基准的基准层，和存在于所述基准层内侧的至少三个玻璃层构成；当所述至少三层的玻璃层中在最内侧形成的第一玻璃层对于所述基准层的最大比折射率差为Δ1，从内侧开始第二层形成的第二玻璃层对于所述基准层的比折射率差为Δ2，从内侧开始第三层形成的第三玻璃层对于所述基准层的比折射率差为Δ3，所述基准层对于纯石英的比折射率差为ΔC的时候，满足Δ1＞Δ2＞Δ3，Δ1≥1.0％，和ΔC＜0，提供使用该光纤的光模块和拉曼放大器。

摘要：提供一种光纤，用于使传输波长带中的色散率平坦化，并适用于在宽范围内高位速率和高容量的WDM传输。在这种光纤中，当第一纤芯层相对于金属包层的相对折射率差设为Δ1，第二纤芯层相对于金属包层的相对折射率差设为Δ2，第三纤芯层相对于金属包层的相对折射率差设为Δ3时，满足0.8％≤Δ1≤3.0％，－0.7％Δ2≤－0.4％，0.2％≤Δ3≤0.5％的条件。光缆截止波长处于在自1520纳米的短波长一侧。此外，当在1.5微米的波长带内的一特定波长的色散设为D(微微秒/纳米/千米)以及色散率设为S(微微秒/纳米2/千米)时，在一宽度范围不小于20纳米的特定设置的波长带中，满足各关系式：D＜0，S＜0，0＜(D/S)≤200。

摘要：本发明提供了一种光纤，具有补偿学传输线路在S波段的色散特性的补偿作用，并最好具有截止S波段以外波长的滤波功能。本发明的光纤具有三层玻璃层，相邻层的组分不同。当形成在光纤的最里面的第一玻璃层(1)相对于第三玻璃层(3)(参考层)的最大相对折射率差用Δ1表示，从光纤最里面数为第二层的第二玻璃层(2)相对于参考层的最小相对折射率差用A2表示时，满足下列不等式：1.0％≤Δ1≤3.0％和-1.0％≤Δ2≤-0.4％。在S波段的给定波长的色散值设置成-8ps/nm/km。例如，色散值除以色散斜率所获得的数值等于小于300的正值，在波长1520nm的传输损耗设置成比波长1500nm的传输损耗大1dB或更多。

摘要：本发明公开了一种光纤以及使用它的喇曼放大系统和光通信系统。在使用了分布型喇曼放大系统的光通信系统中，作为该光通信系统的传送路使用的光纤其电缆截止波长是1430nm以下，波长1450nm的波形滤波径是7μm以上9μm以下，且传送损失是0.285dB/km以下，分散是0.1～4ps/nm/km。这样使C带和L带的分布喇曼放大系统的特性提高，用低激励功率实现有效的放大。

摘要：本发明涉及的除电装置，不仅在对被处理基板的处理正常结束时，而且在对被处理基板的处理非正常结束时，也可以对被处理基板充分除电。在使吸附保持在载置台例如下部电极(120)的静电卡盘(122)的状态下，进行规定处理的被处理基板例如晶片(W)从静电卡盘(122)脱离情况下进行除电处理的基板处理装置中，判断在进行晶片(W)的除电前晶片(W)的规定处理是否正常结束，在判断为正常结束时，根据来自正常时除电条件信息存储部件的正常时除电条件信息设定除电条件，在判断为非正常结束时，根据来自非正常时除电条件信息存储部件的非正常时除电条件信息设定除电条件，根据设定的除电条件进行晶片(W)的除电处理。