摘要：本发明涉及一种用于光谱气体分析仪的消干涉方法，包括以下步骤的至少一种：破除光学部件表面的平行性，同时维持入射光和透射光的同向性；加强增透膜的透射率，进一步降低光学窗口的反射率；降低光源的相干性；增加一级透射光和二级透射光的空间分离，减少空间重合；改变具有平行表面的光学部件的厚度d；破坏表面的平滑度。本发明所述方法可应用在基于光谱技术的气体分析仪里，通过新型的光学设计，降低由于干涉所造成的基线结构幅度，提高它的机械稳定性，提高对温度变化和机械振动的抗干扰性能。

摘要：本发明涉及一种测量油气成分的随钻光谱仪的测量方法与装置，包括对光源的发光点进行准直的抛物面反射镜，其特征在于：反射镜后面设置采样气室和参考气室及带有四通道和四个独立热电堆的探测器，每个通道各配一个滤波片和透射窗口，探测器安装在半导体制冷片上。本发明主要有以下几个优点：分析速度快；分析成本低；测试重现性好；可在线分析，通过目前成熟的井下信号传输技术；尺寸小，尤其是横截面小，便于集成到随钻设备中；功耗低；新型红外辐射光源的驱动电流尽在100mA左右，考虑20-50%占空比的脉宽调制，实际功率则更低。

摘要：本发明公开了一种基于人工智能的纺织物抗拉伸强度测试装置，包括工作台、液压杆和测力传感器，所述工作台上左右对称固定有液压杆，所述液压杆的输出端固定有测力传感器。该基于人工智能的纺织物抗拉伸强度测试装置，采用夹持限位机构，可以实现纺织物的夹持固定作用，从而保证纺织物的稳定性，配合联动的拉紧机构，可以在放置物夹持固定过程中，同时对纺织物进行拉直，保证纺织物的两端平整性，且在检测过程中，配合联动的抚平机构，可以实现纺织物中间位置的抚平作用，从而有效保证纺织物的平直，进而保证检测数据的准确性，且配合防护机构，可以在纺织物崩断时实现限位，避免纺织物崩断弹出对工作人员造成伤害，从而保证装置的使用安全。

摘要：本发明提供了一种有色金属冶炼用烟气抽离除尘装置，涉及烟气处理技术领域，包括除尘桶，所述除尘桶上端面设有安装架，所述安装架上设有电机，所述除尘桶内中心位置设有固定管，所述固定管末端设有压环；还包括加速混合机构，所述加速混合机构包括混合管，所述混合管侧壁连通有第一管路，所述第一管路内转动连接有卡球，所述卡球与压环相配合，所述卡球下端面设有连接簧，所述混合管内设有固定环，所述连接簧另一端与固定环上端面固定连接，所述混合管另一侧壁连通有第二管路，本发明通过加速混合机构实现了烟气与吸收液的高效充分混合,解决了现有技术中气液接触时间短、接触面积小、混合不充分的问题,提升烟气净化效率。

摘要：一种电子点焊机，包括机架，所述机架上设置有焊枪、控制焊枪移动的第一移动架、固定座、控制固定座移动的第二移动架及控制装置；所述第一移动架控制焊枪在一个纵向平面内自由移动，所述第二移动架控制固定座在横向平面内自由移动，所述固定座包括底座和顶座，所述顶座可拆的设置在底座上，所述顶座包括座体和盖体，晶体及支架设置在固定座上，通过新型结构的电子点焊机，可以将晶体及支架放置在固定座上并通过第一移动架及第二移动架的运作，最终实现固定座上的晶体和支架有效的焊接，每个焊接位置都得到迅速、快捷且精确的焊接，成品率高，而且效率高出数倍，结构简单、操作方便。

摘要：一种自动滚胶机，包括机架，机架上设置有导轨及动力机构，所述机架对应导轨的两侧设置有滚胶架，所述滚胶架之间设置有胶棒，所述胶棒由动力机构控制转动，所述导轨上设置有晶体固定架，所述晶体固定架顺着导轨移动，并通过胶棒下方，新型结构的自动滚胶机，能直接迅速快捷的将装片后的晶体滚胶，只需将晶体放置在晶体固定架上，晶体固定架带动晶体移动并通过胶棒上胶，整个过程精度高，而且有效的提升了上胶的工作效率，减少人力资源，消除人为因素的影响，提高了晶体的成品率。

摘要：一种自动装片机，包括晶片进料装置，晶片传送装置及装配架，所述晶片传送装置倾斜设置，晶片传送装置包括导向杆和晶片导轨，所述导向杆设置在晶片进料装置出料口的下方，所述导向杆上竖直设置有导向片，导向杆与晶片导轨的一端相连，所述装配架设置在晶片导轨的另一端，通过新型的自动装配机，实现从晶片的进料、传送到装配，大大的提高了晶片与基座的装配效率，减少人力资源，消除人为因素对装配的影响，提高了成品率，整个过程操作简单，提高了装配精度。

摘要：一种自动插片机，包括吸附枪、控制器及鼓风机，所述鼓风机、控制器及吸附枪通过软管相连，所述吸附枪上并排设置有吸附孔，所述吸附孔的内径适配晶体直径，所述自动插片机还包括开关，所述开关控制鼓风机的运行，新型结构的自动插片机，能直接迅速快捷的将晶体移动至PCB板上，PCB板上的晶体再进行调频，提升了整个流水线的工作效率，减少人力资源，消除人为因素对移动晶体造成的影响，提高了整个成品率，而且整个过程操作简单，只需简单的通过开关控制鼓风机即可。

摘要：本发明涉及一种光谱分析仪的谱型变化补偿方法及装置，从光谱仪的光源发出的光通过一个已知路径长度和含已知状态参考校验气体的气室，到达检测器，其中参考校验气体含有已知浓度的目标分析物，其背景成份或与过程测量采样气体的背景相同，然后通过对参考校验气体的定时测量数据与校准时存储的参考气室数据比对，分析仪计算出浓度调整因子，其浓度调节因子用于修改过程采样的测量结果，以补偿所述采样气体中的背景成份和状态的变化而造成的光谱谱型的变化。本专利的方法可以让参考校验气体的背景与待测物的过程测量采样气体背景等同，本发明通过技术方案的改进，对背景的变化容忍度扩大到10倍以上，在光谱分析中是一重大创新，值得推广。

摘要：本发明涉及一种自校准分析仪的设计方法及装置，包括以下步骤：零气的产生和纯净谱的采集；复合参考气的产生和参考谱的采集计算；实时过程采样气体的流路控制和过程谱的采集计算；过程谱与参考谱的比对计算获得目标分析物的浓度。本发明通过新的技术设计方案，可适用于完全不同的背景，只要采样气体和复合参考气的光谱在电子器件的线性反应区内，不引起饱和效应。它不需要出厂前的预校准，更不需要对过程采样气和校验气按照不同的组别存参考曲线，当然也不需要在过程采样测量和校验测量时采用不同的参考曲线。它使用内置的标准气源实时自校准。