摘要：本发明公开了一种化合物电池的抗反射镀膜结构，包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层；所述的第一层抗反射层为硫化锌层，所述的第二层抗反射层为氟化镁层；本发明的有益效果是：设计合理，结构简单，降低化合物电池的度电成本，提高了化合物电池的光电转换效率，增加了光能源利用率，减少了光能源浪费及光污染。

摘要：本申请公开了一种干法刻蚀设备及刻蚀方法，该刻蚀设备包括：刻蚀装置，包括电极线圈和调节机构，调节机构与电极线圈连接，用于调整电极线圈与基板之间的距离；检测装置，用于检测基板的刻蚀程度；控制器，耦接调节机构和检测装置，用于获取基板的刻蚀程度，并根据刻蚀程度控制调节机构调整电极线圈与基板之间的距离，以控制刻蚀装置对基板的刻蚀速率。通过上述方式，本申请能够自动控制调节刻蚀装置对基板的刻蚀速率，提升产品良率。

摘要：本申请公开了一种排气装置及干法刻蚀设备，排气装置包括排气泵和排气腔体，排气腔体中空且为一框体，排气泵连通排气腔体的中空部分，框体于待刻蚀件的放置位置的周边设置，框体的表面形成有多个排气孔，排气泵通过排气腔体排出待刻蚀件周围的气体。本申请通过将排气腔体于待刻蚀件的放置位置的周边设置，且框体表面包括多个排气孔，通过排气泵从排气腔体中排气，进而使得气体从待刻蚀件四周的多个排气孔中均匀排出。本申请使得待刻蚀件的四周气体流速均匀，保持刻蚀均一性，进而避免刻蚀残留。

摘要：本发明提供一种显示面板，所述显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，所述扇出走线结构包括若干扇出走线，每一所述扇出走线用于电性连接所述驱动电路与所述阵列基板中的金属线，所有的所述扇出走线的长度相等。本发明的显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，扇出走线结构包括若干扇出走线，每一扇出走线用于电性连接驱动电路与阵列基板中的金属线，由于扇出走线结构中所有的扇出走线的长度相等，因此所有的扇出走线的阻抗相同，从而能够提高显示面板的显示画质。本发明还提供该显示面板的制作方法及具有该显示面板的显示装置。

摘要：本发明公开了一种螺旋管快速倒棱机，涉及螺旋管加工技术领域，包括底架、活动置于其两端的活动座、以及多个支架，活动座内摆动设置有多个定位臂，活动座内旋转设置有驱动多个定位臂同时摆动的调节环；活动座背离支架的一侧开设有环槽，环槽内移动设置有移动车，移动车上摆动设置有支臂且支臂指向环槽中心的端部旋转设置有刀座，刀座上可拆卸设置有铣刀头。本发明可对任意直径的螺旋管进行夹持、定位、倒棱，适用性更高，活动座通过一次移动，即可同时到达夹持位置和倒棱位置，再配合铣刀头转动从而对螺旋管进行倒棱，工序简化，倒棱效率更高。

摘要：本发明公开了一种节能高效的低温纱线染色装置及使用方法，涉及纱线染色装置技术领域，包括染色筒，染色筒的底侧设置有抽泵，抽泵上安装有染液筒，染色筒内设置有托板，托板的顶侧设置有绕线筒，托板的顶侧设置有多个疏孔弧板，绕线筒由多个疏孔弧板环绕组成，托板上安装有用于带动绕线筒间歇转动均匀染色的转动机构，本发明，通过转板、限位筋、疏孔弧板、清理刷等的设置，在染色时，带动纱线卷在染色筒内间歇转动的过程中使得构成绕线筒的多个疏孔弧板依次循环脱离与纱线卷的接触后复位，防止与纱线卷固定接触的位置纱线漏染，且在纱线卷间歇转动过程中清理刷往复滑动对外表面堆积的碎纱进行刮取，防止堵塞，有利于染色过程的进行。

摘要：本发明公开了一种低水位染色设备的喷淋机构，涉及到染色设备配件领域，包括应用该机构的染色设备壳体，所述染色设备壳体内布置有纺织布，染色设备壳体内布置有喷淋组件一、喷淋组件二、喷淋组件三，喷淋组件一包括两个喷淋板，两个喷淋板相互靠近的一侧均布置有喷嘴，两个喷淋板分别布置在纺织布的顶侧与底侧，所述染色设备壳体内还布置有浸泡组件。本发明，利用喷淋组件一、喷淋组件二、喷淋组件三三组喷淋组件，在纺织布浸染之前，利用染料喷雾将纺织布逐步浸润，可以有效减少纺织布接触染料出现气泡的问题，保证纺织布与染料充分接触，染色均匀，同时三组喷淋组件结构简单方便维护拆换，可以减少设备的维护与使用成本。

摘要：本发明涉及传感器，具体地说是一种测定离子的传感器及其检测方法。控制电位仪通过导线分别连接工作电极和外参比电极；工作电极和外参比电极插入容器中，容器下设有磁铁；工作电极由聚氯乙烯管和插于之中的内参比电极组成，聚四氟乙烯管底部设有敏感膜；检测：将功能化磁性纳米材料的检测液与待测样品混合并发生反应，然后抽取混合溶液加入到工作电极中，在磁场的作用下，磁性纳米材料将被吸引到膜上同时产生电位变化，根据电位变化速率检测待测溶液中所测物质的含量。本发明具有灵敏度高、操作成本低、适合现场监测，可以在环境监测、临床检测等应用领域使用。

摘要：本揭示提供了阵列基板的制作方法及阵列基板。所述阵列基板的制作方法包括提供基板，在所述基板上形成第一金属层，所述第一金属层包括多条第一金属线和多条断续的第二金属线，所述断续的第二金属线的延伸方向垂直于所述第一金属线的延伸方向，在所述基板和所述第一金属层上形成层间介电绝缘层，图案化所述层间介电绝缘层以形成多个过孔，所述过孔对应所述断续的第二金属线的二端，以及在所述层间介电绝缘层和所述第一金属层上形成断续的数据线，所述断续的数据线通过所述过孔与所述断续的第二金属线的所述二端接触。本揭示能够提升所述阵列基板的光学性能。

摘要：本申请提供一种阵列基板及其制备方法、触控显示面板，所述阵列基板的制备方法包括：在形成有薄膜晶体管及触控信号线的基板上制备无机绝缘层，在无机绝缘层上形成图案化的公共电极，之后在公共电极上制备一层钝化层，采用同一道光罩工艺对钝化层以及无机绝缘层进行图案化，以形成露出薄膜晶体管的漏极以及触控信号线的第一过孔，以及形成露出公共电极的第二过孔，使得触控信号线与公共电极通过形成于钝化层表面的触控电极桥接。本申请采用该工艺制程能够解决低温多晶硅有源矩阵朝着缩小特征尺寸的方向发展时，造成设备成本增长，且制程工艺复杂的问题。