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发明专利:
9607
实用新型:
6041
外观设计:
299
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1:
[发明]
接触孔的形成方法及接触孔结构
申请号:
202211327486.0
公开号:CN115602624A 主分类号:H01L21/768
申请人:
杭州富芯半导体有限公司(CN)
申请日:2022.10.27 公开日:2023.01.13
发明人:
张宏敏
摘要:本申请提供一种接触孔的形成方法,包括:设置沟槽于衬底,沟槽填充有绝缘层;形成介质层于衬底上;形成具有开口的光阻层于介质层上;部份刻蚀对应沟槽的位置的介质层,及部份刻蚀沟槽的绝缘层,形成聚合物,并使开口贯穿介质层及部份绝缘层并延伸至沟槽的第一位置;执行聚合物清洗工序,以清除聚合物;部份刻蚀经过聚合物清洗工序的绝缘层,使开口贯穿部份绝缘层并延伸至沟槽的第二位置而形成接触孔;去除光阻层。透过聚合物清洗工序清除堆积在沟槽底部的聚合物,可改善接触孔的刻蚀速率。
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2:
[发明]
半导体结构的制备方法
申请号:
202211251990.7
公开号:CN115632039A 主分类号:H01L23/522
申请人:
杭州富芯半导体有限公司
申请日:2022.10.13 公开日:2023.01.20
发明人:
张宏敏
摘要:本申请提供一种半导体结构的制备方法,包括步骤:提供基底;于基底表面依次形成第一刻蚀阻挡层、第一介质层、第二刻蚀阻挡层及第二介质层;形成第一光刻胶层,定义出通孔图形;形成通孔;于通孔内填充底部抗反射层;进行回刻,以使底部抗反射层的高度低于通孔深度;形成第二光刻胶层,于第二光刻胶层中形成沟槽图形,沟槽图形位于通孔正上方,且沟槽图形尺寸大于通孔尺寸;形成沟槽,沟槽位于通孔的上部,且停止于第二刻蚀阻挡层处;去除通孔内剩余的底部抗反射层、第一刻蚀阻挡层和第二刻蚀阻挡层,形成通孔上部形成有沟槽的漏斗结构;于漏斗结构内填充互连金属层。本申请有助于改善互连金属的填充,提高器件性能。
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3:
[发明]
一种机台复机方法、装置及半导体器件制造方法
申请号:
202211736390.X
公开号:CN115863201A 主分类号:H01L21/66
申请人:
杭州富芯半导体有限公司
申请日:2022.12.31 公开日:2023.03.28
发明人:
张宏敏
摘要:本申请公开了一种机台复机方法、装置、半导体器件制造方法、存储介质及电子设备。在机台进行核心部件更换之后,对监测晶圆进行刻蚀前厚度检测,得到第一厚度,进一步的,利用机台对所述监测晶圆进行刻蚀,对监测晶圆进行刻蚀后厚度检测,得到第二厚度,根据第一厚度和所述第二厚度,判断机台的运行状态,运行状态用于反应对机台进行核心部件更换后是否正常运行。由此,通过检测晶圆刻蚀前后的监测晶圆的厚度差,判断对机台进行核心部件更换后机台刻蚀的过刻蚀量是否足够。有效减少通过SEM切片等流程进行机台复机检测带来较高的日常监测支出,并有效缩减工事后机台复机的时间,显著提升生产能力,从而有效减少生产成本,并提高机台生产利用率。
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4:
[发明]
发光元件点测机台
申请号:
201310301324.4
公开号:CN103411667A 主分类号:G01J1/04(2006.01)I
申请人:
致茂电子(苏州)有限公司
申请日:2013.07.18 公开日:2013.11.27
发明人:
高宏达
;
张敏宏
摘要:一种发光元件点测机台,施加电性使发光元件导通发光并收集其光性资料,包括:一承载平台,具有一个形成跨设空间的承载位置,该跨设空间用于承置至少一发光元件;一组探针,接触发光元件并提供所需施加的电性;一第一光性收集装置,对应设置于该承载平台上方,收集发光元件导通后向上方发出的光;以及一第二光性收集装置,对应设置于该承载平台下方,收集发光元件导通后向下方发出的光。也可将其中的第二光性收集装置替换为一光性反射装置,将发光元件向下方所发出的光向上反射至该第一光性收集装置。本发明可使发光元件向下散发的光不透过承载体直接进入光收集器,避免透光率、光行进角度变化等因素影响检测的结果。
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5:
[发明]
混合流膨胀床厌氧生物滤池
申请号:
201010144255.7
公开号:CN101792211A 主分类号:C02F3/28(2006.01)I
申请人:
朱向宏
申请日:2010.04.08 公开日:2010.08.04
发明人:
朱向宏
;
张敏
摘要:一种混合流膨胀床厌氧生物滤池,其壳体为玻璃钢圆柱罐体,该玻璃钢圆柱罐体内中下部设有所述的生物滤池,在该生物滤池的上端设有缩口,在该缩口的外沿设有跌水曝气装置,在该生物滤池的上端口内设有隔网,在该隔网的下面设有厌氧悬浮填料;其布水器为伞形布水器,在该布水器上纵向穿过进水管和吸泥管,该进水管和吸泥管的上端分布穿出所述的玻璃钢圆柱罐体的上部。其优点是占地面积小;钢质外壳不容易腐蚀;厌氧悬浮填料的挂膜量大,提高了厌氧反应效率;进水、布水管的布水均匀度差;增加污泥吸出装置,维护方便;厌氧悬浮填料可预挂膜处理,装填后实现整个系统的即接即用;跌水曝气无动力消耗,容易形成标准化、批量化生产,容易推广应用。
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6:
[发明]
基于Web Pseudo-3D的大规模数据可视化处理方法
申请号:
201110066250.1
公开号:CN102682463A 主分类号:G06T13/20(2011.01)I
申请人:
同济大学
申请日:2011.03.18 公开日:2012.09.19
发明人:
李宏宇
;
张敏
摘要:本发明涉及一种基于Web?Pseudo-3D的大规模数据可视化处理方法,包括以下步骤:1)生成并加载场景数据;2)生成并预存场景快照;3)形成动画。与现有技术相比,本发明具有能够更实时、更流畅的可视化大规模数据处理等优点。
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7:
[发明]
一种低压抽出式开关柜及其防腐工艺
申请号:
201611152707.X
公开号:CN106654957A 主分类号:H02B11/173(2006.01)I
申请人:
苏州纽东精密制造科技有限公司
申请日:2016.12.14 公开日:2017.05.10
发明人:
冉宏敏
;
张超
摘要:本发明公开了一种低压抽出式开关柜,该开关柜按质量百分比计包括以下组分:Zn:3‑6%,Mo:1 ‑1.5%,Ti:1‑1.2%,N:0.02‑0.03%,Cr:8‑11%,C:0.01‑0.03%,Mn:0.5‑0.7%,Nb:0.3‑0.6%,Mg:0.7‑0.9%,Cu:0.3‑0.4 %,W:0.5‑0.7%,Si:0.3‑0.5%,P:0.025‑0.030%,S:0.008‑0.010%,稀土元素:0.1‑0.3%,其余为Fe及不可避免的杂质;本发明还涉及一种低压抽出式开关柜的防腐工艺,该防腐工艺简单易行,能有效的提高开关柜的防腐性能,延长其使用寿命,降低成本。
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8:
[发明]
一种多级EGR涡轮增压系统
申请号:
201611193117.1
公开号:CN106837615A 主分类号:F02M26/08(2016.01)I
申请人:
东风商用车有限公司
申请日:2016.12.21 公开日:2017.06.13
发明人:
徐敏
;
张宏飞
摘要:一种多级EGR涡轮增压系统,包括一号涡轮增压器、二号涡轮增压器、EGR气轨、EGR喷嘴、发动机,一号涡轮增压器包括同轴连接的一号涡轮机、一号压气机,二号涡轮增压器包括同轴连接的二号涡轮机、二号压气机,一号涡轮机的进气口与发动机的排气管相通,排气口与二号涡轮机的进气口相通,二号压气机的进气口依次通过二号排气管、一号压气机、一号排气管与排气管相通,排气口依次通过三号排气管、EGR气轨、EGR喷嘴与发动机的进气道相通。本设计不仅实现了高压EGR直喷,而且提高了发动机效率、实现了直喷EGR温度的精确控制。
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9:
[发明]
一种拨码开关状态识别系统及拨码开关状态识别方法
申请号:
201710464991.2
公开号:CN107271893A 主分类号:G01R31/327(2006.01)I
申请人:
广东志高暖通设备股份有限公司
申请日:2017.06.19 公开日:2017.10.20
发明人:
郭敏
;
张泉宏
摘要:本发明公开了一种拨码开关状态识别系统,包括:第一测量端;多个阻值互不相同的测量电阻,各个测量电阻的第一端均为能够分别与拨码开关的针脚连接的连接端、第二端均与所述第一测量端连接以实现互联;第二测量端,包括多个与所述拨码开关的针脚连接且互联的连接端,所述第二测量端的连接端数量与所述测量电阻的数量相等;测量装置,用于测量获取第一测量端和第二测量端之间的电阻。通过测量装置的一个测量值,可以快速的获取拨码开关的各个开关的接通状态,所以该拨码开关状态识别系统可以有效地解决单一的检测端口只能实现一路开关状态识别的问题。本发明还公开了一种拨码开关状态识别方法。
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10:
[发明]
一种抗震支吊架表面防腐工艺
申请号:
201710915292.5
公开号:CN107740029A 主分类号:C23C4/126(2016.01)I
申请人:
常州容大结构减振股份有限公司
申请日:2017.09.30 公开日:2018.02.27
发明人:
张敏
;
纪宏恩
摘要:本发明涉及一种抗震支吊架表面防腐工艺,包括如下几个步骤:(1)表面碱处理;(2)表面酸处理;(3)表面处理;(4)防腐处理;(5)清洗处理。本发明处理工艺处理效果更好,并且节约时间。
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