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发明专利:577实用新型: 359外观设计: 26
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申请号:200710048119.6 公开号:CN101150042 主分类号:H01L21/00(2006.01)I
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2007.11.13 公开日:2008.03.26
发明人:朱岳彬
摘要:本发明提供一种高精度快速调平装置,其包括调平台、安装底座,以及设置于调平台与安装底座之间的多组平行簧片、在线位置测量传感器组件、偏心轮/凸轮组件、预紧拉簧、执行轮组件,其中,所述多组平行簧片、在线位置测量传感器组件、偏心轮/凸轮组件、预紧拉簧、执行轮组件均以同一夹角且彼此对应地设置在安装底座上。本发明采用平行簧片结构满足了调平台侧向较大刚度及垂向较低刚度分配要求,同时通过设计预紧弹簧体的刚度可以优化得出马达驱动扭矩,直接安装于调平台上的测量传感器组件可以有效消除传动机构之间的间隙,提高了调平装置的精度。
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申请号:201010618373.7 公开号:CN102537049A 主分类号:F16C32/06(2006.01)I
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2010.12.30 公开日:2012.07.04
发明人:秦磊;朱岳彬
摘要:本发明提供一种径向气浮导向模块及应用其的光刻机运动平台。径向气浮导向模块设置于微动台,包括圆环定子与多个柔性铰链。圆环定子具有气浮导向部,微动台以气浮导向部为导向运动。多个柔性铰链均匀地固定于微动台,每一个柔性铰链分别具有固定部、柔性部以及气浮部。固定部固定于微动台,柔性部连接固定部与气浮部,气浮部面对气浮导向部,且气浮部与气浮导向部之间能够形成均匀的压缩空气层。本发明提供的径向气浮导向模块中,利用柔性铰链来实现径向气浮导向,既保证了径向气浮导向模块在水平方向的刚度,又有利于降低径向气浮导向模块的设计、加工以及其装配的难度。
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申请号:201610795171.7 公开号:CN107781350A 主分类号:F16F15/027(2006.01)I
申请人:上海微电子装备(集团)股份有限公司 申请日:2016.08.31 公开日:2018.03.09
发明人:刘赟;朱岳彬
摘要:本发明提供了一种减振器气动控制装置及其控制方法以及减振器,所述减振器气动控制装置包括:喷嘴挡板式伺服阀,接收来自控制模块的第一控制信号并根据所述第一控制信号调整对减振器所支撑的负载施加的主动阻尼力;滑阀式伺服阀,接收来自所述控制模块的第二控制信号并根据所述第二控制信号调整减振器的位置。本发明同时使用喷嘴挡板式伺服阀和传统的滑阀式伺服阀对减振器进行控制,能够满足TFT光刻机中减振器对伺服阀快速性和大流量的要求,同时成本较低。
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申请号:200510024172.3 公开号:CN1658074 主分类号:G03F7/20
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2005.03.02 公开日:2005.08.24
发明人:刘育;郭麒;朱岳彬
摘要:一种多自由度运动和定位装置,它由调平轴、柔性块、轨迹板和由立柱框架、提升旋转分离机构、导轨、导轨平台、电机平台、运动平台共同构成的支撑机构所组成;该调平轴旋合在立柱框架上,通过旋转调平轴来精确调整其支撑的调整平台;该轨迹板固定在立柱框架上,而轨迹销则固定在运动平台上,该提升旋转分离机构的上主轴通过压紧螺母固定在导轨平台底部。其结构紧凑,支承荷载大,可减轻冲击,高度、水平可调节,具有多个自由度,并且能按预定轨迹准确运动,且运动平稳,可靠性高,并能实现机构的提升、旋转及分离。特别是在光刻设备制造中,用于支撑光刻机掩模台并使掩模台按预定轨迹运动。
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申请号:200810033381.8 公开号:CN101226345 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2008.01.31 公开日:2008.07.23
发明人:唐海明;朱岳彬
摘要:本发明提供一种光刻机投影物镜安装调平装置,用于调平带有安装法兰的投影物镜。它包括安装基板,三个柔性块,安装件和固定件。柔性块前端通过固定件与投影物镜的安装法兰连接,柔性块底座通过安装件安装在安装基板;柔性块前端中部开有第一狭长槽,柔性块后端与第一狭长槽相向方向开有第二狭长槽,柔性块后端装有一调节杆。该调平装置采用三个等圆周均布的柔性块,调节柔性块的调节杆实现柔性块前端的翘起和压下以调节投影物镜水平度,并利用两狭长槽形成的弹性支点避免外界的振动和冲击给投影物镜带来的损害。
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申请号:200910044991.2 公开号:CN101526657 主分类号:G02B7/02(2006.01)I
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2009.01.07 公开日:2009.09.09
发明人:谭长永;朱岳彬
摘要:一种可动镜片调节装置,用于调整可动件相对于固定件的轴向位置。可动镜片调节装置沿光轴依次包括主镜筒、圆周楔形块和多个滚轮。固定件固定在主镜筒内。圆周楔形块为沿主镜筒的圆周方向轴向厚度连续增大的楔形块,圆周楔形块可转动的设置在主镜筒下方。这些滚轮的轴固定在可动件上,这些滚轮放置在圆周楔形块的楔形面上,用于沿楔形面滚动。其中这些滚轮在楔形面上滚动时,可动件沿轴向移动。可动镜片调节装置的调整精度高,重复性好,且活动件运动形成大,线性度好。
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申请号:200910195190.6 公开号:CN102012639A 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2009.09.04 公开日:2011.04.13
发明人:吴荣基;朱岳彬
摘要:本发明提出一种硅片边缘保护方法与装置,该方法包括下列步骤:硅片边缘保护装置将保护环放置到工件台上;利用保护环对硅片曝光时对硅片边缘进行保护,换取新的硅片后再次进行上述流程,其中所述保护环中央为镂空部分,边缘为实体部分,所述保护环保护硅片边缘在曝光时不被曝光。所述硅片边缘保护装置包括位置调整机构,Z向提升机构,三偏心联动过载保护凸轮-往复气动摆缸连杆机构,吹气机构,检测机构,速度控制模块,气动控制模块。本发明提出的硅片边缘保护方法与装置,方法是负胶曝光和边缘保护同步进行,在硅片曝光时对其边缘进行保护,不需要经过二道工序对硅片边缘进行处理,减少了工序,提高了生产效率。
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申请号:201210189442.6 公开号:CN103472681A 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2012.06.08 公开日:2013.12.25
发明人:秦磊;朱岳彬;曹文
摘要:本发明公开了一种光刻机运动台反力抵消装置及应用其的光刻机。光刻机运动台反力抵消装置包括反力框架、配重块、阻尼元件以及弹性元件。配重块设置于光刻机运动台电机定子的一端。阻尼元件一端连接于电机定子的一端,另一端连接于反力框架。弹性元件设置于电机定子的两端。电机定子设置在滑块上,滑块设置在运动台大理石之上的固定直线导轨上,滑块带动电机定子沿固定直线导轨做直线运动。当电机定子与滑块、配重块一起在电机驱动反力作用下沿导轨做直线运动时,电机定子将会沿反力方向运动,其动能在配重块与阻尼元件的作用下逐渐衰减。本发明公开的光刻机运动台反力抵消装置缓冲行程小,并可达到衰减运动台反力的效果。
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申请号:201310734603.X 公开号:CN104749891A 主分类号:
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2013.12.27 公开日:2015.07.01
发明人:黄静莉;朱岳彬
摘要:本发明提出一种抓手自锁的硅片边缘保护装置,包括伺服电机、减速机构、垂向运动机构以及抓手装置,其特征在于:所述抓手装置包括一向下的锥面凸轮以及紧贴锥面凸轮的推杆,所述抓手装置在垂向运动的过程中,所述锥面凸轮的锥面通过推杆推动杠杆带动抓爪打开、合拢。本发明提出的抓手自锁的硅片边缘保护装置,结构简单,工艺性好,加工制造容易,自定心性好,适应性强,且具有自锁功能,并能防止保护环夹紧变形。
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申请号:201310734687.7 公开号:CN104749892A 主分类号:
申请人:上海微电子装备有限公司 申请日:2013.12.27 公开日:2015.07.01
发明人:黄静莉;朱岳彬
摘要:本发明提出一种具有碰撞保护功能的硅片边缘保护装置,与交接机械手连接,硅片边缘保护装置包括电气控制模块、垂向运动机构,其特征在于:还包括碰撞保护机构,连接于所述电气控制模块和垂向运动机构之间;当工作过程中发生意外碰撞时,所述碰撞保护机构将所述电气控制模块的伺服电机与所述垂向运动机构的丝杆分离。本发明具有碰撞保护功能的硅片边缘保护装置具有碰撞过载保护功能,杜绝了事故隐患,提高了光刻机的安全可靠性,消除了硅片的破损率。
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