全部专利 发明专利 实用新型专利 外观设计专利
排序方式:
当前查询到23条专利与查询词 "朴斗喜"相关,搜索用时0.203125秒!
发明专利:23实用新型: 0外观设计: 0
23 条,当前第 1-10 条 下一页 最后一页 返回搜索页
申请号:200510132004.6 公开号:CN1808266 主分类号:G03F1/00(2006.01)I
申请人:三星电子株式会社 申请日:2005.12.16 公开日:2006.07.26
摘要:本发明公开了一种光掩模。该掩模包括:透光区域和半透明区域,其中,半透明区域包括多个阻挡光的阻光部分,其中,阻光部分具有阻挡不同量的光的多个区域。通过使用这种类型的光掩模,光阻剂膜的基本上平坦的层能平坦地沉积在不平坦表面的顶部上。平坦的光阻剂膜降低了工艺成本并且提高了面板制造过程的可靠性。
详细信息 下载全文

申请号:200710138129.9 公开号:CN101114657 主分类号:H01L27/12(2006.01)I
申请人:三星电子株式会社 申请日:2007.07.26 公开日:2008.01.30
摘要:一种显示面板包括:基板、信号线、薄膜晶体管、像素电极和伪开口。基板具有显示区域和围绕显示区域的外围区域。信号线位于基板上,并彼此相交以限定单位像素。薄膜晶体管与信号线电连接,并位于单位像素处。像素电极与薄膜晶体管电连接。像素电极形成在单位像素中。伪开口位于外围区域处,并与信号线分隔开。
详细信息 下载全文

申请号:200810009906.4 公开号:CN101241918 主分类号:H01L27/12(2006.01)I
申请人:三星电子株式会社 申请日:2008.02.13 公开日:2008.08.13
摘要:本发明公开了一种显示基底及该显示基底的制造方法。该显示基底包括:接触电极,设置在开关元件的端部上,开关元件设置在基体基底上;半导体图案,包括突出,所述突出设置在接触电极的下面并突出超过接触电极;透明电极,与接触电极和所述突出接触。
详细信息 下载全文

申请号:200810091113.1 公开号:CN101281369 主分类号:G03F7/004(2006.01)I
申请人:三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社 申请日:2008.04.02 公开日:2008.10.08
摘要:本发明涉及光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法,该光刻胶组合物包括约0.5-约20重量份的光致产酸剂、约10-约70重量份的含有羟基的酚醛清漆树脂、约1-约40重量份的交联剂、以及约10-约150重量份的溶剂,其中该交联剂包括烷氧基甲基三聚氰胺化合物。
详细信息 下载全文

申请号:200810127707.3 公开号:CN101295135 主分类号:G03F7/021(2006.01)I
申请人:三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社 申请日:2008.04.14 公开日:2008.10.29
摘要:本发明涉及光刻胶组合物和使用其制造薄膜晶体管基底的方法。在一实例中,光刻胶组合物包括约1到约70重量份的含有由右面化学式1代表的重复单元的第一粘合剂树脂、约1到约70重量份的含有由右面化学式2代表的重复单元的第二粘合剂树脂、约0.5到约10重量份的光致产酸剂、约1到约20重量份的交联剂和约10到约200重量份的溶剂,在式中R1和R2独立地代表具有1到5个碳原子的烷基,n和m独立地代表自然数。该光刻胶组合物可改善光刻胶图案的耐热性和粘附能力。
详细信息 下载全文

申请号:200810136087.X 公开号:CN101359718 主分类号:H01L45/00(2006.01)I
申请人:三星电子株式会社 申请日:2008.07.15 公开日:2009.02.04
摘要:一种制造相变存储器器件的方法,包括:在第一层中形成开口,在该开口中和第一层上形成相变材料,将相变材料加热到足以使开口中的相变材料回流的第一温度,其中第一温度小于相变材料的熔融点,并且在将相变材料加热到第一温度之后,对相变材料构图,以限定开口中的相变元件。
详细信息 下载全文

申请号:200910004485.0 公开号:CN101526738 主分类号:G03F7/012(2006.01)I
申请人:东进世美肯株式会社 申请日:2009.03.04 公开日:2009.09.09
摘要:本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物,其包含:由苯酚化合物制备的酚醛清漆树脂、双叠氮化合物和有机溶剂,其中间甲酚占所述苯酚化合物重量的约70重量%~约85重量%。
详细信息 下载全文

申请号:201110029299.X 公开号:CN102157451A 主分类号:H01L21/84(2006.01)I
申请人:三星电子株式会社 申请日:2008.02.13 公开日:2011.08.17
摘要:本发明公开了一种显示基底的制造方法。该方法包括:在基体基底上顺序地形成沟道层和源极金属层;形成包括第一厚度部分和第二厚度部分的第一光致抗蚀剂图案,第一厚度部分形成在源极金属层的接触区域中,第二厚度部分形成在源极金属层的端部区域中,所述端部区域连接到接触区域,第二厚度部分比第一厚度部分薄;利用第一光致抗蚀剂图案将源极金属层和沟道层图案化,以形成接触电极和突出,接触电极在接触区域上,所述突出突出超过接触电极并从接触区域延伸到所述端部区域;在基体基底上形成钝化层;形成透明电极层,透明电极层与接触电极的被暴露的部分接触,通过去除钝化层的与接触电极和所述突出对应的部分来暴露接触电极的所述被暴露的部分。
详细信息 下载全文

9:[发明] 探头设备
申请号:201810068560.9 公开号:CN108459182A 主分类号:G01R1/073(2006.01)I
申请人:塔工程有限公司 申请日:2018.01.24 公开日:2018.08.28
摘要:根据本发明的示例性实施例的探头设备可以在探针与电极彼此对齐的状态下以最佳的接触压力将探针压靠在电极上,并且探头设备可以包括:移动模块,其配置成朝向基板是可移动的;探头模块,其安装成相对于移动模块是可移动的,并且具有与基板的电极接触的探针;图像捕获单元,其在探针与基板的电极接触时捕获探针的图像;和控制单元,其基于由图像捕获单元捕获的探针的图像来确定探针是否与基板的电极接触。
详细信息 下载全文

申请号:202180072645.4 公开号:CN116456979A 主分类号:A61K31/4155
申请人:株式会社LG化学 申请日:2021.11.02 公开日:2023.07.18
摘要:本发明涉及一种药物组合物,所述药物组合物包含结晶粒子,所述结晶粒子包含式1化合物或其药学上可接受的盐且包含0.2wt%以下的量的下式2化合物。根据本发明的结晶粒子具有优化的大小、形状和分布以输入最终制剂的制备过程中,具有增强的均匀性和流动性以提高最终药物制剂的制备过程中的含量均匀性,并将压成片剂过程中的破损减到最少,因此可以用作适合最终药物制剂的制备过程的原料药物物质。
详细信息 下载全文

23 条,当前第 1-10 条 下一页 最后一页 返回搜索页
©2025 Patent9.com All rights reserved.蜀ICP备06009422号