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1:
[发明]
织物色度判断方法
申请号:
202311552100.0
公开号:CN118071844A 主分类号:G06T7/90
申请人:
财团法人纺织产业综合研究所
申请日:2023.11.21 公开日:2024.05.24
发明人:
张辅玲
;
沈乾龙
;
沈培德
;
郁碧娟
摘要:本发明提供一种织物色度判断方法,以降低织物色度的评估难度。织物色度判断方法包含下列步骤,依据多个喷染织物影像、多个浸染织物影像、喷染色度标签以及多个浸染色度标签训练神经网络模型。拍摄目标织物影像并输入至神经网络模型以得到目标织物色度。将目标织物色度输入对色模型得到相应的目标染程配方参数。通过降低织物色度的评估难度,进而减少覆色次数。
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2:
[发明]
等离子体系统以及使用其制造半导体器件的方法
申请号:
201711457340.7
公开号:CN108257843A 主分类号:H01J37/32(2006.01)I
申请人:
三星电子株式会社
申请日:2017.12.28 公开日:2018.07.06
发明人:
孙敏圭
;
成德镛
;
沈承辅
;
郑载园
;
韩丙勋
摘要:一种等离子体系统包括电极和向电极提供射频(RF)功率以在电极上产生等离子体的射频(RF)功率供应单元。RF功率被提供为脉冲,该脉冲在脉冲的脉冲导通间隔期间具有谷形部分。谷形部分由谷角度和谷宽度限定。通过控制谷角度和谷宽度,等离子体可以控制基板的蚀刻。
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3:
[发明]
用于促进经皮吸收的结构、其制造方法和包含其的化妆品组合物
申请号:
202080001096.7
公开号:CN112770711A 主分类号:A61K8/02
申请人:
株式会社靓安9
申请日:2020.04.13 公开日:2021.05.07
发明人:
金凤雨
;
沈洪辅
;
金在焕
;
林志宪
;
柳在德
摘要:本发明涉及用于促进经皮吸收的结构、其制造方法和包含其的化妆品组合物,用于促进经皮吸收的结构包括针状体;与针状体结合的亲水性基团;和与亲水性基团结合的载体。
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4:
[发明]
墨组合物和包括该墨组合物的发光器件
申请号:
202110001723.3
公开号:CN113388289A 主分类号:C09D11/30
申请人:
三星显示有限公司
申请日:2021.01.04 公开日:2021.09.14
发明人:
沈俊辅
;
金德起
;
高孝珍
;
李昌熙
;
河在国
摘要:提供了一种用于喷墨打印机的墨组合物和包括该墨组合物的发光器件。墨组合物可以包括发光二极管和溶剂。溶剂可以具有在第一温度段下的第一粘度和在第二温度下的第二粘度,在第一温度段下的第一粘度可以比在第二温度段下的第二粘度大。溶剂可以包括柠檬酸的酯化合物、二醇、链烷二醇、链烷醇胺、链烯酸、链烯醇、含吡咯烷酮基的化合物、甘油、由式1表示的化合物、由式2表示的化合物或它们的任何组合:<式1><式2>式1和式2中的取代基可以如结合具体实施方式所描述的来理解。发光二极管中的每个可以具有在约0.1μm至约10μm范围内的尺寸。式2>式1>
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5:
[发明]
发光元件墨及制造显示装置的方法
申请号:
202110428714.2
公开号:CN113527945A 主分类号:C09D11/38
申请人:
三星显示有限公司
申请日:2021.04.21 公开日:2021.10.22
发明人:
沈俊辅
;
高孝珍
;
金德起
;
李昌熙
;
河在国
摘要:提供了发光元件墨和制造显示装置的方法。所述发光元件墨包含发光元件溶剂;分散在所述发光元件溶剂中的发光元件,所述发光元件包括多个半导体层和围绕所述半导体层的外表面的绝缘膜;分散在所述发光元件溶剂中的增稠剂,其中所述增稠剂的化合物包含能够与所述发光元件溶剂的化合物或所述增稠剂的另一个化合物一起形成氢键的官能团,并且所述增稠剂的所述化合物由以下化学式1表示:化学式1
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6:
[发明]
墨组合物
申请号:
202110973105.5
公开号:CN114574038A 主分类号:C09D11/38
申请人:
三星显示有限公司
申请日:2021.08.24 公开日:2022.06.03
发明人:
沈俊辅
;
金德起
;
金世勳
;
高孝珍
;
河在国
摘要:本发明涉及一种墨组合物。根据一实施例的墨组合物包括:无机纳米颗粒;以及第一溶剂,汉森溶解度参数值中氢键项(δH)值为5以下,从而可以提高无机纳米颗粒的分散稳定性,并且可以防止喷墨印刷装置的头部内的喷嘴堵塞现象。
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7:
[发明]
配置极紫外(EUV)源的方法以及使用该EUV源的EUV曝光方法
申请号:
202510117462.X
公开号:CN120491392A 主分类号:G03F7/20
申请人:
三星电子株式会社
申请日:2025.01.24 公开日:2025.08.15
发明人:
裵亨钟
;
金洙德
;
沈星辅
;
黄灿
摘要:提供一种能够在曝光过程之前提高光学性能的配置极紫外(EUV)源的方法、以及使用该EUV源的EUV曝光方法。配置EUV源的方法包括:生成用于掩模图案的布局的对象光谱图;生成与对象光谱图相对应的光瞳图;以及通过以下操作来配置EUV照明模式:在光瞳图的满足特定条件的第一区域中的至少一部分中选择镜子;以及对多个镜子施加极点平衡扰动。
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8:
[发明]
运动物体运动估计方法和系统
申请号:
200410075862.7
公开号:CN1651862 主分类号:G01C21/08
申请人:
三星电子株式会社
申请日:2004.11.08 公开日:2005.08.10
发明人:
权雄
;
卢庆植
;
韩宇燮
;
沈营辅
;
博尔德瑞夫·瑟圭
摘要:提供了一种运动物体运动估计方法和系统。该方法包括:从运动物体的罗盘信息中获得磁场信息;比较运动物体的磁场和预定值,并根据比较结果确定运动物体的位置是否属于特定区域;通过根据确定结果确定是否使用罗盘方位角估计运动物体的方位,来估计运动物体的方向。该系统中装有陀螺仪、里程表和罗盘,包括:磁场计算器,计算装有罗盘的运动物体的磁场强度;磁场比较器,获得磁场强度与地磁场强度之间的差值,并比较该差值与第一阈值;地磁场区域确定器,根据比较结果确定运动物体所在位置是否属于地磁磁力起作用的区域;以及运动方向估计器,通过根据确定结果确定是否用罗盘方位角进行运动物体的方向估计,来估计运动物体的运动方向。
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9:
[发明]
一种电磁铆接设备
申请号:
00113765.4
公开号:CN1302701 主分类号:B21J15/24
申请人:
西北工业大学
申请日:2000.03.24 公开日:2001.07.11
发明人:
曹增强
;
佘公藩
;
盛熙
;
夏力农
;
沈德辅
;
陶华
;
李志尧
摘要:本发明涉及一种电磁铆接设备。为解决现有同类设备中存在的电容量小,铆接电压和加载速率高,铆接质量不可靠及操作不便、铆接成本高的问题,本发明的电源系统并联多个额定电压为3千—5千伏的脉冲电容器,操作回路用可编程控制器控制,实时数字显示电压,控制系统中增加过流,过压,过充,漏电监控的保护和铆枪内双层减振,使设备电容量增大,加载速率、铆接后坐力和铆接噪音降低,具有铆接质量高、成本低,使用方便的特点。
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10:
[发明]
等离子体蚀刻的方法
申请号:
201710064379.6
公开号:CN107039263A 主分类号:H01L21/3065(2006.01)I
申请人:
三星电子株式会社
申请日:2017.02.04 公开日:2017.08.11
发明人:
朴皓用
;
姜南俊
;
成德镛
;
沈承辅
;
赵贞贤
;
崔明善
摘要:本发明公开了一种等离子体蚀刻的方法以及包括该方法的制造半导体器件的方法。等离子体蚀刻的方法包括:将包括蚀刻对象的基板装载到腔室中的第一电极上,该腔室包括被布置为彼此面对的第一电极和第二电极;以及蚀刻该蚀刻对象。蚀刻该蚀刻对象包括将多个RF能施加到第一电极和第二电极中的一个。该多个RF能可以包括具有在从约40MHz至约300MHz的范围内的第一频率的第一RF能、具有在从约100kHz至约10MHz的范围内的第二频率的第二RF能、以及具有在从约10kHz至约5MHz的范围内的第三频率的第三RF能。
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