全部专利 发明专利 实用新型专利 外观设计专利
排序方式:
当前查询到5条专利与查询词 "河村知男"相关,搜索用时0.140625秒!
发明专利:5实用新型: 0外观设计: 0
5 条,当前第 1-5 条 返回搜索页
申请号:03140681.5 公开号:CN1494983 主分类号:B24B37/00
申请人:JSR株式会社 申请日:2003.06.03 公开日:2004.05.12
摘要:本发明目的在于提供能有效抑制擦伤发生的抛光垫和多层抛光垫。本发明的抛光垫,其特征在于其中具有在抛光面侧形成的、且从呈环状、格状和螺旋状中选出至少一种形状的沟(a)、凹部(b)和贯穿抛光垫表里的通孔(c)中的至少一个部位,该部位内表面的表面粗糙度(Ra)处于20μm以下,用于化学机械抛光。
详细信息 下载全文

申请号:200410003134.5 公开号:CN1519894 主分类号:H01L21/304
申请人:株式会社东芝;JSR株式会社 申请日:2004.02.06 公开日:2004.08.11
摘要:本发明涉及一种抛光垫及制造半导体器件的方法。本发明公开的CMP中使用的抛光垫没有研磨料并且包括可形成微孔和/或凹坑部分的材料,二者均具有0.05μm到290μm范围的平均直径并且占据基于所述垫整个体积为0.1体积%到5体积%的区域(11);以及有机材料(10)。
详细信息 下载全文

3:[发明] 抛光垫
申请号:200510119986.5 公开号:CN1760240 主分类号:C08J5/14(2006.01)I
申请人:JSR株式会社 申请日:2005.10.14 公开日:2006.04.19
摘要:一种具有抛光层的抛光垫,该抛光层具有特定的组成并且在30℃的储存弹性模量与在60℃的储存弹性模量的比为2-15,在30℃的储存弹性模量与在90℃的储存弹性模量的比为4-20,其由聚氨酯或聚氨酯-脲制成。该抛光垫抑制了对被抛光的表面的刮擦并且有效地将表面平面化。具有含有水溶性颗粒的抛光层的抛光垫可以实现较高的去除速率。
详细信息 下载全文

申请号:200580025418.7 公开号:CN1989695 主分类号:H03M1/08(2006.01)I
申请人:独立行政法人科学技术振兴机构 申请日:2005.07.14 公开日:2007.06.27
摘要:提供在采样点间隔不均等的离散信号的再生中,可以进行平滑的信号再生的信号处理装置及信号处理方法。该装置具备:系数计算部(4),输入表示采样点间隔不均等的离散信号E1的采样点的时间的采样点信号E2,求得对应于离散信号的采样函数的系数;和再生信号计算部(5),其根据离散信号与系数计算部输出的所述系数值,计算并输出所述采样点间隔内的函数值,由此得到连续的再生信号E3。
详细信息 下载全文

申请号:201910281899.1 公开号:CN111857111A 主分类号:G05D1/02
申请人:商汤集团有限公司;本田技研工业株式会社 申请日:2019.04.09 公开日:2020.10.30
摘要:本公开的实施方式公开了一种对象三维检测方法、智能驾驶控制方法、装置、电子设备、计算机可读存储介质及计算机程序,其中的对象三维检测方法,包括:获取待处理图像中的目标对象的至少一预定关键点的二维坐标;根据所述预定关键点的二维坐标,构建所述目标对象在二维空间中的伪三维检测体;获取所述伪三维检测体多个顶点的深度信息;根据所述伪三维检测体多个顶点的深度信息,确定所述目标对象在三维空间中的三维检测体。
详细信息 下载全文

5 条,当前第 1-5 条 返回搜索页
©2025 Patent9.com All rights reserved.蜀ICP备06009422号