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[发明]
【中文】一种直流磁控溅射制备耐腐蚀纯钛薄膜的方法 【EN】Method for preparing corrosion-resistant pure titanium film by direct-current magnetron sputtering
申请号:
201911099485.3
公开号:CN110952067A 主分类号:C23C14/35
申请人:
【中文】中国船舶重工集团公司第七二五研究所【EN】NO.725 RESEARCH INSTITUTE OF CHINA SHIPBUILDING INDUSTRY Corp.
申请日:2019.11.12 公开日:2020.04.03
发明人:
【中文】吴晓飞
;
杨学东
;
蒋鹏【EN】Wu Xiaofei
;
Yang Xuedong
;
Jiang Peng
摘要:【中文】本发明公开一种直流磁控溅射制备耐腐蚀纯钛薄膜的方法,包括基底表面处理、基底放置镀膜腔室、反向沉积清理基底表面、溅射镀膜以及取出镀膜基底制得成品等步骤,可针对阀门、反应釜等产品,采用合理的表面处理、工装固定及溅射镀膜工艺,在其表面上负载纯钛薄膜,使其满足质量和耐腐蚀要求,且工艺流程简单、效率高,过程可控,无环境污染,易于实现工业化生产。 【EN】The invention discloses a method for preparing a corrosion-resistant pure titanium film by direct-current magnetron sputtering, which comprises the steps of substrate surface treatment, substrate placing of a coating chamber, reverse deposition cleaning of the substrate surface, sputtering coating, taking out of the coated substrate to prepare a finished product and the like.
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