摘要：本发明公开了一种枕体升降感应控制装置及带有该控制装置的升降睡眠枕。枕体升降感应控制装置的枕体升降控制开关包括若干个并联连接的常开型的干簧管，干簧管纵向设置、横向排列固定在感应板上；干簧管采用单列或双列；感应板以及干簧管的长度及排列宽度应能覆盖人体颈部在枕上的活动空间，相邻的干簧管之间距离应保证测试范围没有盲区；枕上头部体位信号采集系统包括强磁铁及该强磁铁在人体颈部的固定装置。本发明的优点在于结构简单，运行平稳，操作安全方便，在卧床时能够根据人的体位变化，及时准确地改变枕体的高度，而且还会对于颈椎有一定的磁疗作用。还可以改善颈部血液循环。

摘要：本发明属于机床误差检测仪器技术领域，尤其涉及复合式球杆仪测量装置及数据处理方法和球杆仪校准器，包括：一种复合式球杆仪测量装置，设置在工作台和电主轴之间，电主轴的转动端固接有回转连接板的一端，回转连接板的另一端连接第一球杆仪的一端，第一球杆仪的另一端与工作台连接；第一球杆仪的中部连接有与第一球杆仪空间垂直设置的第二球杆仪，第二球杆仪连接有基座杆的一端，基座杆的另一端固接在电主轴的转动端；基座杆与第二球杆仪空间垂直；电主轴的转动端传动连接有转动驱动结构。以及一种复合式球杆仪测量装置的数据处理方法和球杆仪校准器。本发明改变了单一球杆仪测量结果受非期待Z轴的轴向误差影响，使原始测量结果更为精准的。

摘要：本发明公开了一种半导体产业的介电层抛光液，其技术方案为：二氧化硅磨料2-50％；pH调节剂0.2-10％；螯合剂0.1-5％；铵盐0.1-5％；表面活性剂0.01-5％；其余为去离子水，混合，搅拌而形成，采用本技术方案能提供不含金属离子而且不具有臭味的弱碱性介电层抛光液，使用后不但不会污染介电层，并没有令人讨厌的臭味。

摘要：本发明公开了一种浅沟槽隔离抛光液，其技术方案为：氧化铈磨料1-50％，pH调节剂0.2-10％，螯合剂0.1-5％，表面活性剂0.01-5％，特殊添加剂0.1-10％，其余为去离子水，混合，搅拌而形成。采用本技术方案能对氧化物的反应性极强，具有高抛光速率，而且容易取得氧化物与氮化物的高选择比的要求。

摘要：本发明公开了一种晶圆精抛光液，其技术方案为：二氧化硅磨料2-10％，pH调节剂0.2-2％，螯合剂0.1-0.5％，表面活性剂0.01-0.5％，特殊添加剂0.1-2％其余为去离子水，混合，搅拌而形成，采用本技术方案能在晶片抛光应用条件下抛光速率，抛光均匀度和表面质量符合加工要求。同时进一步减少精抛时抛光液磨粒对晶圆表面的损伤，并不严重损失抛光速率。

摘要：本发明公开了一种晶圆粗抛光液，其技术方案为：二氧化硅磨料2-50％，pH调节剂0.2-10％，螯合剂0.1-5％，表面活性剂0.01-5％，其余为去离子水，混合，搅拌而形成，采用本技术方案能在晶片粗抛光应用条件下具有稳定的溶液性能，且抛光速率，抛光均匀度和表面质量符合加工要求。

摘要：本发明公开了一种钨抛光液，其技术方案为：二氧化硅磨料1-40％，PH调节剂0.2-10％，螯合剂0.1-10％，表面活性剂0.01-5％，特殊添加剂0.1-8％，余量为去离子水，混合，搅拌而形成。和抛光垫组合后在工艺参数优化下取得适当的抛光速率，无严重划伤，低表面粗糙度。本发明适用于超大规模集成电路钨插塞化学机械抛光后平坦化。

摘要：本发明公开了一种研磨片清洗液，其技术方案为：醇类1-10％；醚类1-30％；螯合剂0.1-5％；其余为去离子水，混合搅拌而形成，采用本技术方案能快速低温清洗研磨片，并能有效去除硅研磨片表面残留的各种有机物、金属离子和吸附粒子。

摘要：本发明提供了一种基于Zigbee传输模块的红外学习型遥控装置的技术方案，该方案为一种基于Zigbee传输模块的红外学习型遥控装置，包括有控制设备、处理芯片、红外接收模块和红外发射模块，控制设备包括有存储单元和Zigbee传输模块；控制设备通过Zigbee传输模块与处理芯片通信；处理芯片通过I/O接口分别与红外接收模块和红外传输模块连接。该方案能够通过学习模式储存记录红外遥控器的控制信号，并通过控制模式对相应的设备进行控制，可实现一件遥控装置控制多台不同设备。

摘要：一种语言处理方法及设备。所述方法包括：获取源语言和目标语言的n组互译句对，n组互译句对中的每一组互译句对包括互为译文的一个源语言句子和一个目标语言句子，n为大于1的整数；采用源语言的提取规则，从n组互译句对的每个源语言句子中提取源语言片段；从n组互译句对的每个目标语言句子中，分别提取与源语言片段互为译文的目标语言片段；根据从n个目标语言句子中提取的至少n个目标语言片段，生成目标语言的提取规则。本申请实施例提供的方案，通过根据已经确定的源语言的提取规则，能够自动生成目标语言的提取规则，不必通过语言专家总结目标语言的提取规则，节省了人力和时间成本。