摘要：本发明提供一种对锂正极材料的粉体效率良好地进行热处理的技术。匣钵具备箱状的陶瓷部和箱状的金属部。陶瓷部具备外底面部及自外底面部向上方突出的外侧壁部。金属部具备内底面部及自内底面部向上方突出的内侧壁部，且以能够装卸的方式配置于陶瓷部的内部。在常温状态下，金属部配置于陶瓷部的内部时，在外侧壁部与内侧壁部之间形成有余隙。外侧壁部至少具备从上端向下端凹陷的一对凹部。在俯视观察金属部时，一对凹部设置于夹着金属部的中心而对置的位置。金属部至少具备从内侧壁部的上端向外侧延伸的一对凸缘部。在金属部配置于陶瓷部的内部时，一对凸缘部位于一对凹部内。

摘要：本发明提供一种与鲎B因子改变体有关的技术，进而提供一种以高灵敏度进行内毒素测定的手段。制造具有在鲎B因子的多肽的氨基酸序列中第193位的氨基酸残基被置换为半胱氨酸(Cys)残基的氨基酸序列的多肽。通过将该多肽和鲎C因子组合而构成鲎试剂，可以以高灵敏度进行内毒素测定。

摘要：一种生产性优异的透明度高的无色的防反射薄膜、以及带防反射层塑料基片。而且，是具有防湿性及气体阻隔性、光学特性优异的防反射薄膜以及带防反射层塑料基片。是在基体上形成硬涂层、在硬涂层上交替层叠透明高折射率氧化物层与透明低折射率氧化物层而构成的防反射薄膜。透明高折射率氧化物层是由反应溅镀法而形成的Nb₂O₅层所构成。而且，在使用有机材料构成的基体的防反射薄膜中，形成与基体的一个面相接、并具有与有机材料近似折射率的无机防湿层。

摘要： 一种清洁处理基片表面的方法，其中，清洁处理基片工艺的包括利用酸溶液、氧化溶液、或碱溶液清洁处理基片表面的步骤的第１步骤，包括清除在基片表面上形成的自然氧化膜的步骤。

摘要：本发明提供了一种能够减少液晶显示装置的黑色显示中的漏光和轻微着色、增大斜向对比度、并且减少斜向色移量的液晶面板、液晶电视和液晶显示装置。液晶面板包括液晶单元，其具有含有在没有电场的情况下均匀配向的向列型液晶的液晶层；第一偏光片，其配置在液晶单元的一侧；第一层积光学元件，其配置在液晶单元和第一偏光片之间；第二偏光片，其配置在液晶单元的另一侧；以及第二层积光学元件，其配置在液晶单元和第二偏光片之间。

摘要：本发明提供一种通过照射短波长激光来进行记录、再生的可记录型光信息记录媒体。此可记录型光信息记录媒体在基板上具有由沟槽所形成的引导槽等轨道、及以有机色素材料为主原料的光记录层，可以通过从所述光记录层侧照射短波长激光来记录信息，且可以在记录所述信息后，读取短波长激光的反射光的变化来再生所述信息，此可记录型光信息记录媒体的记录极性为LTH型，所述光记录层的未记录时的折射率n为1.2～2.1的范围，衰减系数k为0.01～0.7的范围，且n+k为1.4～2.1的范围，此可记录型光信息记录媒体通过照射短波长激光来进行记录及再生。

摘要：本发明提供一种能够简便并且精度良好地测量小的相位差的相位差测量装置。该相位差测量装置包括依次配置有光源、偏振器、试样台、检偏器和分光器的光学系统以及计算单元，在偏振器与检偏器之间配置有波长板，并且在测量波长区域内的2个以上的波长的每一个中，用0.5以上的整数或半整数去除该波长板的延迟值的值与该波长一致。

摘要：本发明提供一种能够准确地确定存在散射、吸收或消除偏振光的试样的相位差的方法。该方法为根据依次配置有光源、偏振器、试样、检偏器和分光器的光学系中测量到的分光光谱确定该试样的相位差的方法，包括以下过程：准备没受该试样的相位差影响的该试样的分光光谱数据；对使该偏振器的透射轴、该试样的光学轴和该检偏器的透射轴的配置为检测该试样的相位差的配置而测量的至少一个分光光谱进行测量；用上述分光光谱数据修正上述分光光谱。

摘要：本发明提供一种电解水生成装置及除菌系统。在对水进行电解而生成电解水的所述电解水生成装置中，供给用于进行电解的电源的电路部被设置成能够防止水或电解水进入、维护性优良且布线处理变得容易。在箱(50)内收纳有：贮水箱(51)、对贮水箱(51)内的水进行电解而生成电解水的电解单元(52)、向外部供给电解水的送水泵(53)以及收纳有向电解单元(52)及送水泵(53)供给电源的电源电路部(33)的电气设备盒(30)，其中电气设备盒(30)以自箱(50)的底面(50D)悬空的状态被固定，在电气设备盒(30)的下方配置有送水泵(53)。

摘要：本发明涉及一种使工具和工件相对移动、对工件进行加工的机床，包括：机床身(13)；竖立地设置在机床身(13)上的立柱(15)；以及托架(27)，所述托架(27)在两侧具有可摆动地支承工作台(35)的支柱(27a、27b)，所述托架以该支柱(27a、27b)中的一个(27b)与立柱(15)邻接、另一个支柱(27a)与立柱(15)相背离的方式取向设置。