摘要：本发明涉及一种混料设备，尤其涉及一种建筑施工用浆体混料设备。本发明要解决的技术问题是提供一种机械化的搅拌过程，可以充分搅拌均匀，人们不会吸入大量刺激性气味的建筑施工用浆体混料设备。本发明提供了这样一种建筑施工用浆体混料设备，包括有底板、减速电机等；底板上左侧设有减速电机和支杆，减速电机位于支杆左方，支杆上端设有导向套，导向套内滑动式设有移动架。本发明达到了机械化的搅拌过程，可以充分搅拌均匀，人们不会吸入大量刺激性气味的效果，混料箱不断的左右移动，使得转动的搅拌片可以对混料箱内的粉状原料和液体进行充分搅拌，

摘要：本发明涉及一种破碎回收装置，尤其涉及一种建筑用水泥块破碎回收装置。本发明要解决的技术问题是提供一种能够避免碎屑溅出、能够防止发生堵塞现象和能够对破碎完成的水泥块收集完全的建筑用水泥块破碎回收装置。为了解决上述技术问题，本发明提供了这样一种建筑用水泥块破碎回收装置，包括有底板、右架、破碎框、滤网、轴承座、转杆、滚筒、破碎齿、连杆、伺服电机、扇形齿轮、安装柱、第一固定套等；底板右端连接有右架，右架左侧上部连接有破碎框，破碎框底壁连接有滤网，破碎框的左右两壁下部均连接有轴承座。本发明达到了能够避免碎屑溅出、能够防止发生堵塞现象和能够对破碎完成的水泥块收集完全的效果。

摘要：本发明涉及一种混匀机，尤其涉及一种建筑用水泥制备混匀机。本发明要解决的技术问题是提供一种能够制备均匀、能够节省人力的完成往框体内注入水和能够方便对制备完成得到的水泥进行收集的建筑用水泥制备混匀机。为了解决上述技术问题，本发明提供了这样一种建筑用水泥制备混匀机，包括有安装架、框体、伺服电机、轴承座、转杆、密封圈、螺旋、混匀杆、转板、连接杆、缸体、活塞、出水管等；安装架左壁顶端连接有框体，框体左壁底端转动式连接有转板，转板右部通过螺栓连接的方式固定在框体右壁底端。本发明达到了能够制备均匀、能够节省人力的完成往

摘要：本发明公开了一种独立双腔室电子枪蒸发镀膜设备，包括上下腔室均可独立打开或封闭的独立上下腔室；上下腔室设有独立的上腔室真空系统和下腔室真空系统；上腔室和下腔室之间通过高真空隔离阀连接，隔离阀能够将上腔室和下腔室之间封闭为独立腔室或连通形成镀膜的整体工艺腔室；上腔室内设有工件盘，下腔室内设有电子枪蒸发源，上腔室真空系统为冷泵，下腔室真空系统为分子泵；或上腔室配备有第一分子泵，下腔室配冷泵和第二分子泵，下腔室的分子泵设有泵支撑机构；本设备同时配置有高真空隔离阀设有防护机构、可视化系统和双离子源，缩短了抽真空的时间，提高了工作效率和成品率，保证了蒸发物料的初始纯度，更好的保证镀膜的膜层质量。

摘要：本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种用于真空镀膜设备的船型工艺腔室及带有该腔室的真空镀膜设备，船型工艺腔室包括顶面、底面，垂直于顶面和底面的第一侧面，垂直于顶面的第二侧面，连接第二侧面和底面的斜面，斜面上设计有安装离子源机构的安装口径，通过该口径安装于该斜面上离子源机构安装于该斜面上；离子源安装方式是半嵌入形式，离子源的控制线，电源线，工艺气管，冷却水水管设于船型工艺腔室的外部，即离子源露在空气中的部分。本发明提高了不同批次的设备所镀产品镀膜质量一致性，减少工艺腔室在工艺时其内部的放气源，保证工艺腔室镀膜真空及镀膜产品膜层的纯净度。

摘要：本发明属于一种磁控溅射复合镀膜方法，所述磁控溅射复合镀膜方法采用的磁控溅射复合镀膜设备包括双靶枪系统和光学监控器，所述双靶枪系统包括第一靶枪和第二靶枪，所述第一靶枪用以镀高反射率(HR)膜，所述第二靶枪用以镀增透(AR)膜，使HR和AR膜交替生长调整两种材料的不同厚度组合，和不同层数以得到不同性能的复合光学膜(膜)；光学监控器，用于实时监测和查看镀膜的质量，所述光学监控器包括发射器、陪片和接收器，其中陪片设置位置在工件盘的中心，在复合镀膜时，启动光学控制器，发射器向陪片发射预设波长的光，接收器接收到陪片的反射率的数值，从而判断复合膜层的镀膜质量。

摘要：本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体公开了一种孪生工艺腔室的磁控溅射系统，包括多片进样腔室、第一孪生工艺腔室和第二孪生工艺腔室，所述第一孪生工艺腔室和第二孪生工艺腔室结构相同，多片进样腔室和第一孪生工艺腔室、第二孪生工艺腔室之间分别通过高真空隔离阀连接；多片进样腔室采用前后开门设计，多片进样腔室内设有多片工件装置和传送机械手；第一孪生工艺腔室和第二孪生工艺腔室内部均设有靶枪系统和工件盘。本发明使孪生工艺腔室执行的工艺互不影响，能在保持真空的条件下连续生产，节省时间，提高生产效率，节省时间，提高生产效率，提升维护效率，降低维护难度。

摘要：本发明属于真空蒸发镀膜设备技术领域，具体公开了一种斜推式蒸发源腔室电子束蒸发镀膜设备，包括斜推式蒸发源腔室和样品室，样品室位于斜推式蒸发源腔室上方，中间设有高真空隔离阀，所述斜推式蒸发源腔室整体为圆筒形，该斜推式蒸发源腔室为可分离结构，设计模式为在圆筒形上做斜向的切面设计，将斜推式蒸发源腔室分割成上分割部分和下分割部分两个部分，下分割部分安装在运行导轨柱上，并且通过两侧运行导轨安装在滑轨上，能够通过运行导轨实现下蒸发源腔室上分割部分和下分割部分的关闭或打开；较传统的矩形蒸发源腔室，本发明减小了空间体积，降低了成本，使所需的工艺真空度和对电子束蒸发源腔室和电子束蒸发源的维护更容易实现。

摘要：本发明属于磁控溅射镀膜设备技术领域，具体为一种磁控溅射镀膜设备，至少包括溅射室和进样室；所述溅射室前方设有前开门的溅射室门，溅射室上方设有工件盘系统，溅射室内还设有靶枪、离子源系统；控制器连接靶枪电机并对其进行控制，靶枪电机上安装有阴极结构，阴极结构外边设有阳极罩，阳极罩上方，靶材固定环通过固定螺栓固定靶材；所述工件盘系统设有工件盘和旋转机构，工件盘用以装载工件，旋转机构使工件盘均匀的按照设定转速进行旋转，使离子源提供的反应的离子物和靶材上电离出的离子物进行反应并得到均匀性良好的膜层。本发明增强不同批次的设备镀膜的质量的一致性，减少主工艺腔室放气源，保持工艺环境的纯净度，以保证镀膜质量的纯净度。

摘要：本发明属于PVD真空镀膜设备技术领域，具体公开了一种多功能集成的PVD镀膜设备，包括传送系统，单靶磁控垂直溅射室，多靶磁控共焦溅射室，电子束蒸发室，电阻蒸发室；四个工艺腔室均和传送系统连接。所述传送系统块包括进样室和传送室；进样室内部含有用于承载工件的多片装置，进样室和传送室之间由高真空隔离阀连接；传送室中设有可将工件传送至单个工艺腔室或进样室的机械手；进样室、传送室和四个工艺腔室均设有独立真空系统；四个工艺腔室由高真空隔离阀和传送室进行连接或隔离并可独立进行镀膜工艺，本发明可同时实现磁控垂直溅射、共焦溅射、电阻蒸发、电子束蒸发工艺，可不间断生产，提高了生产效率。