摘要：本发明涉及一种光掩膜，将光掩膜分为描绘有图案的中央部分和其周围的力传递部分而制成，然后，进行接合，从而能够降低材料费用及避免新设备投资。光掩膜(1)分为包括图案显示区域(5)的中央部分(3)和包围中央部分(3)的外周缘部的力传递部分(4)而制成。两者由粘附胶带(7)相互接合。力传递部分(4)具有用于与力赋予机构连结的连结部(孔)(8)，该力赋予机构用于使中央部分(3)弹性变形。

摘要：一种塑料部件的涂覆方法包括：将底漆涂料涂覆在由黑色系塑料制成的工件上；将含有彩色颜料的底色涂料涂覆在通过涂覆底漆涂料形成的底漆涂覆膜上；将含有效应颜料的底基涂料涂覆在通过涂覆底色涂料形成的底色涂覆膜上；以及将透明涂料涂覆在通过涂覆底基涂料形成的底基涂覆膜上。在该涂覆方法中，底漆涂料包含这样一种彩色颜料，该彩色颜料在CIE色度系统L^*a^*b^*中的L^*值大于或等于80。

摘要：本发明提供一种能够维持高生产性且减少设备费的曝光装置。曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元(1、2)；该一对曝光单元(1、2)分别共用的光源机构(3)。曝光单元(1、2)分别具备：用于将带状基板(4)沿其长度方向间歇性地传送的传送机构(5、6、7、8)；成为配置在带状基板(4)的传送路径上的曝光部(9)，并至少具有一个光掩膜(10)的曝光部(9)。为了将绘制在光掩膜(10)上的图案向带状基板(4)的曝光面上转印，光源机构(3)形成为能够向一对曝光单元(1、2)中的各曝光部(9)交替地照射光。

摘要：本发明提供一种曝光方法及曝光装置。使基板(1)固定支承于四边基板支承构件(11)。将绘有图形的光掩模(2)配置于基板(1)的覆盖感光层的位置。通过光掩模(2)将光照射到基板(1)的感光层从而将图形转印到基板上。曝光时，光掩模(2)和基板(1)互相均匀地接触，并且使基板支承构件(11)及基板(1)变形为期望的弯曲形状的状态。基板支承构件(11)以沿与互相对置的第一对侧缘部相同的方向上延伸的第一轴，和沿与互相对置的第二对侧缘部相同的方向上延伸的第二轴为中心，一边分别控制弯曲量，基板支承构件(11)一边与基板(1)共同弯曲。由此，图形的尺寸实质地变化而转印到基板(1)上。

摘要：本发明公开一种曝光装置，其中基板(1)支撑于基板支撑构件(2)上。在投影光学系统(3)和基板(1)之间，设置刚性的光透过性构件(4)。光透过性构件(4)具有与基板(1)的曝光面(1a)面对的平面(4a)。平面(4a)按照与投影光学系统(3)的成像面一致的方式定位。设置驱动机构(5)，其用于使基板支撑构件(2)移动，以便相对光透过性构件(4)的平面(4a)，使曝光面(1a)紧贴和离开。从而在不采用对焦功能的情况下，以良好的精度，在表面平坦性差的基板的曝光面上，进行所需的成像。

摘要：本发明是提高曝光技术的生产性的曝光装置和曝光方法。曝光装置具备：第一移动部，其具备保持基板的第一基板保持部，并使第一基板保持部在第一待机位置与供基板以曝光面朝向第一方向的状态配置的第一曝光位置之间移动；第二移动部，其具备保持基板的第二基板保持部，并使第二基板保持部在第二待机位置与将保持在第二基板保持部的基板以曝光面朝向第一方向的状态且与第一曝光位置的基板的曝光面在同第一方向正交的第二方向上并列的状态配置的第二曝光位置之间移动；曝光部，其具备能够沿着引导件在第一曝光位置与第二曝光位置之间移动的曝光头，并对配置在第一曝光位置的基板和配置在第二曝光位置的基板进行选择性曝光，该引导件沿着第二方向配置。

摘要：本发明提供能够以简单的结构遍及基板的曝光面整个区域稳定地成像的曝光技术。对柔性的带状基板S进行曝光的曝光装置具备：两个夹持部(20)，其具备由透光性的构件形成且具有呈平坦面的透过部、并且通过各个平坦面能够夹持基板的第一夹持部(20a)以及第二夹持部(20b)；第一移动部(50)，其使两个夹持部(20)在接近的方向以及远离的方向上移动；第一曝光部(30)，其在第一夹持部(20a)的一侧固定位置；第二曝光部(40)，其配置在第二夹持部(20b)的一侧；以及第二移动部(60)，其在基板的夹持状态下，使两个夹持部与两个曝光部相对移动。曝光装置在夹持状态下，在将两个夹持部(20)的各自的平坦面与两个曝光部的距离保持为固定的同时，使第一以及第二夹持部(20a、20b)移动，从而将基板在长度方向上搬运，并经由两个夹持部(20)的透过部在基板的两面上同时曝光。

摘要：在层压装置中，改善压接辊相对于基板以及薄膜的按压力的均匀性。层压装置具备第一压接辊以及比第一压接辊靠上方配置的第二压接辊，该第二压接辊构成为能够向接近第一压接辊的方向(第一方向)以及远离第一压接辊的方向(第二方向)移动。层压装置还具备：支承辊，其用于在比第一压接辊靠下方的位置支承第一压接辊；加压辊，其设于比第二压接辊靠上方的位置，该加压辊构成为能够向第一方向以及第二方向移动，并且构成为通过向第一方向移动而能够向第一压接辊侧按压第二压接辊；以及驱动机构，其用于使加压辊向第一方向以及第二方向移动。

摘要：提供能够进行高精度的电路描绘的曝光装置及曝光方法。曝光装置具备：描绘头(4X)，其相对于基板载台(5)向规定方向相对移动而在基板(10)上描绘电路；基准标记(9C)，其与所述基板载台(5)一体设置；基板位置检测单元(6)，其相对于所述基板载台(5)向所述规定方向相对移动而读取所述基板(10)上的位置标记(10a)；及描绘头位置检测单元(8)，其与所述基板载台(5)一体设置，所述描绘头位置检测单元(8)基于将所述基准标记(9C)与来自所述描绘头(4X)的光束(4a)重叠地读取的结果来对描绘头坐标系进行校正，所述基板位置检测单元(6)基于读取所述基准标记(9C)的结果对基板位置检测坐标系进行校正，从而使所述描绘头坐标系与所述基板位置检测坐标系相互一致。

摘要：提供能够进行高精度的电路描绘的曝光装置及曝光方法。曝光装置具备：描绘头(4X)，其相对于基板载台(5)向规定方向相对移动而在基板(10)上描绘电路；基准标记(9C)，其与所述基板载台(5)一体设置；基板位置检测单元(6)，其相对于所述基板载台(5)向所述规定方向相对移动而读取所述基板(10)上的位置标记(10a)；及描绘头位置检测单元(8)，其与所述基板载台(5)一体设置，所述描绘头位置检测单元(8)基于将所述基准标记(9C)与来自所述描绘头(4X)的光束(4a)重叠地读取的结果来对描绘头坐标系进行校正，所述基板位置检测单元(6)基于读取所述基准标记(9C)的结果对基板位置检测坐标系进行校正，从而使所述描绘头坐标系与所述基板位置检测坐标系相互一致。

摘要：本发明提供一种将光掩模上描绘的图案转印到基板上的曝光方法和曝光装置。将光掩模配置在覆盖基板的位置。形成光掩模和基板相互均匀地接触，并且光掩模和基板相对于各自变形为凹状或凸状的状态。在该状态下，通过光掩模对基板上的感光层照射光，由此将尺寸实质上已变化的图案转印到基板上。