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发明专利:43实用新型: 2外观设计: 2
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申请号:201210084665.6 公开号:CN102891263A 主分类号:H01L51/52(2006.01)I
申请人:三星显示有限公司 申请日:2012.03.27 公开日:2013.01.23
发明人:鲁硕原
摘要:供体基板包括:衬底基板、设置于所述衬底基板上的膨胀层、设置于所述膨胀层上的光热转换层、设置于所述光热转换层上的绝缘层以及设置于所述绝缘层上的有机转印层。所述供体基板可以向有机发光显示装置有效地转印有机转印层。
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申请号:200810089856.5 公开号:CN101280411 主分类号:C23C14/04(2006.01)I
申请人:三星SDI株式会社 申请日:2008.04.03 公开日:2008.10.08
发明人:金善浩;鲁硕原
摘要:提供了一种用于平板显示器的薄膜沉积的掩模框架组件及使用该组件的沉积设备,包括设置有具有多个开口的图样部分的图样掩模;与图样掩模的下边缘部分连接以支撑图样掩模的第一框架;和沿水平或竖直方向与第一框架连接的第二框架。用于薄膜沉积的掩模框架组件安装到沉积设备,所述沉积设备用于沉积有机发光显示器的有机发射层,从而在基底上沉积薄膜的特定图样。此时,第二框架由质量小于形成第一框架的SUS或因瓦材料的质量的金属和合金之一形成,从而实现用于薄膜组件的轻质掩模框架组件。因此,可以易于搬运用于薄膜组件的轻质掩模框架组件,并减少设置在沉积设备中的运输设备的重量载荷,从而提高生产率。
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申请号:202410931153.1 公开号:CN119332211A 主分类号:C23C14/26
申请人:三星显示有限公司 申请日:2024.07.12 公开日:2025.01.21
发明人:李锺奫;鲁硕原
摘要:本申请涉及用于制造显示设备的装置。用于制造显示设备的装置包括:衬底;喷嘴,包括在衬底上喷射沉积材料的喷嘴孔;坩埚,连接到喷嘴,坩埚储存沉积材料;反射器,设置在坩埚上,反射器包括与喷嘴重叠的开口区域;以及角度控制构件,连接到反射器。角度控制构件包括设置成面向喷嘴的第一构件、设置成面向衬底的第三构件以及设置在第一构件和第三构件之间的第二构件。
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申请号:200610148550.3 公开号:CN1982076 主分类号:B41M5/382(2006.01)I
申请人:三星SDI株式会社 申请日:2006.11.16 公开日:2007.06.20
摘要:本发明公开了一种激光诱导热成像方法以及采用该方法的有机发光二极管的制造方法,其中可以利用磁力有效地层压供体膜和受体基板。该激光诱导热成像方法包括:在处理室的基板台上设置受体基板,其中第一磁体形成在该受体基板的一个表面中;在该受体基板上设置包括第二磁体的供体膜;利用作用在该第一和第二磁体之间磁力来层压该供体膜和该受体基板;和通过在该供体膜上扫描激光将成像层的至少一个区域转移到该受体基板上。该激光诱导热成像方法改善了供体膜和受体基板之间的粘附力,从而改善了有机发光二极管的寿命、产量和可靠性。
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申请号:201410267571.1 公开号:CN104275955A 主分类号:
申请人:三星显示有限公司 申请日:2014.06.16 公开日:2015.01.14
摘要:本发明提供了一种供体膜及使用该供体膜的热成像方法,该膜包括:基底层;在所述基底层上的第一光热转换层;以及第二光热转换层,在所述第一光热转换层上并且有机材料被沉积到所述第二光热转换层,其中所述第一光热转换层和所述第二光热转换层分别吸收不同波长的光。
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申请号:202010411795.0 公开号:CN112018151A 主分类号:H01L27/32
申请人:三星显示有限公司 申请日:2020.05.15 公开日:2020.12.01
摘要:本申请提供了显示设备和用于制造显示设备的方法。显示设备包括显示面板和第一模块,显示面板包括具有第一透射率的第一区域以及具有高于第一透射率的第二透射率的第二区域,第一模块在第二区域的下方,其中,显示面板包括基底层、电路层、第一像素电极、第二像素电极、第一堆叠结构和第二堆叠结构,其中,电路层在基底层上,第一像素电极电连接至电路层并且在第一区域中,第二像素电极电连接至电路层并且在第二区域中,第一堆叠结构在电路层上并且邻近第一像素电极,第二堆叠结构在电路层上、邻近第二像素电极并且与第一堆叠结构不同。
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7:[发明] 沉积装置
申请号:202010914917.8 公开号:CN112442656A 主分类号:C23C14/04
申请人:三星显示有限公司 申请日:2020.09.03 公开日:2021.03.05
摘要:沉积装置可以包括腔室、在腔室中的坩埚、覆盖坩埚的盖部件以及从盖部件突出并沿第一方向布置的2n个喷嘴(这里‘n’是正整数)。在2n个喷嘴中,第n个喷嘴和第n+1个喷嘴之间的距离可以大于第2n‑1个喷嘴和第2n个喷嘴之间的距离。
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8:[发明] 沉积源
申请号:202010558692.7 公开号:CN112779502A 主分类号:C23C14/24
申请人:三星显示有限公司 申请日:2020.06.18 公开日:2021.05.11
摘要:本发明提供沉积源。沉积源包括:坩锅,沿一方向延伸且上侧开放;盖板,与坩埚结合且遮蔽坩埚的开放部分;及至少一个喷嘴组,包括与盖板结合且沿坩埚的延伸方向排列的多个单元喷嘴,各单元喷嘴包括:位于上侧的第一吐出口;及第一喷嘴流路,连接第一吐出口和坩埚且由单元喷嘴侧壁包围,第一喷嘴流路包括:位于下部的第一下端部;及第一上端部,与第一下端部连接且位于第一下端部的上部,第一下端部具有均匀的宽度,越靠近第一吐出口时,第一上端部的宽度会变得越宽,单元喷嘴侧壁包括:第一外侧壁,设置在第一最外围单元喷嘴的一侧;第二外侧壁,设置在第二最外围单元喷嘴的另一侧;及共用侧壁,设置在相邻的单元喷嘴之间。
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9:[发明] 沉积设备
申请号:202311141338.4 公开号:CN117660876A 主分类号:C23C14/04
申请人:三星显示有限公司 申请日:2023.09.06 公开日:2024.03.08
摘要:提供了一种沉积设备,所述沉积设备包括:沉积构件,提供沉积材料;台,包括第一后表面、与第一后表面相对的第一前表面以及第一内侧表面,第一内侧表面延伸到第一后表面和第一前表面并且限定第一开口;掩模框架,包括面对第一前表面的第二后表面、与第二后表面相对的第二前表面以及第二内侧表面,第二内侧表面延伸到第二前表面和第二后表面并且限定第二开口;掩模,设置在第二前表面上并且均设置有通过掩模限定的多个沉积开口以对应于第二开口;以及散热板,设置在沉积构件与台之间,并且覆盖第一后表面、第一内侧表面和第二内侧表面。
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10:[发明] 沉积装置
申请号:202311072753.9 公开号:CN117626256A 主分类号:C23C26/00
申请人:三星显示有限公司 申请日:2023.08.24 公开日:2024.03.01
摘要:一实施例涉及的沉积装置包括:腔体;沉积源,位于所述腔体内,包括排列在第一方向上的多个喷嘴;以及沉积角度限制部,在所述腔体内位于所述沉积源上。所述沉积角度限制部包括:多个低入射角限制板,分别位于在所述多个喷嘴之中每两个相邻的喷嘴之间,所述每两个相邻的喷嘴包括第一喷嘴与第二喷嘴,所述低入射角限制板与所述第一喷嘴或所述第二喷嘴间隔开第一高度;以及多个高入射角限制板,分别包围所述喷嘴的至少一部分,与所述第一喷嘴或所述第二喷嘴间隔开第二高度。
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