摘要：本发明公开了一种光刻设备和光刻投影方法。该光刻设备包括：照射系统；支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，第一和第二图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予辐射束图案以形成图案化辐射束；衬底台；和投影系统，其中第一和第二支撑结构在扫描方向上可以在沿扫描方向的至少为第二或第一图案形成装置的长度的扫描距离上移动，其中第一和第二支撑结构在第二方向上可以在沿第二方向的至少为第二或第一图案形成装置的宽度的距离上移动，其中第二方向大体垂直于扫描方向，以及光刻设备通过第一支撑结构和/或第二支撑结构在第二方向上的移动选择地将第一支撑结构或第二支撑结构与投影系统对准。

摘要：披露了一种用于在本体上提供耐磨材料的方法。也披露了一种可以通过所述方法获得的复合体。所述复合体可以是用于光刻设备中的衬底保持器或掩模版夹具。所述方法包括：提供由玻璃、陶瓷或玻璃陶瓷所制成的本体；提供具有大于20GPa的硬度的耐磨材料；和将所述耐磨材料钎焊或激光焊接至所述本体。

摘要：本发明公开了一种位置传感器和光刻设备。所述位置传感器配置成测量目标的位置数据。位置传感器包括：辐射源，配置成提供辐射束；第一光栅，配置成将辐射束衍射成在第一衍射方向上的至少第一级衍射束；和第二光栅，布置在第一级衍射束的光学路径上，第二光栅配置成在基本上垂直于第一衍射方向的第二衍射方向上衍射在第一光栅处被衍射的第一级衍射束。第二光栅连接至目标。第一检测器配置成检测由第一光栅衍射的束的至少一部分，至少一个第二检测器配置成检测被第一光栅和第二光栅衍射的束的至少一部分。

摘要：本发明涉及一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括：投影系统、承载装置和驱动系统，驱动系统用于在参考正交的轴线X和Y定义的平面中相对于投影系统移动承载装置，其中：驱动系统包括：穿梭件，构造成且布置成平行于Y轴线移动；穿梭件连接器，用于将穿梭件连接至承载装置，穿梭件连接器被使得允许承载装置沿着平行于X轴线的方向相对于穿梭件移动；和穿梭件驱动器，用于平行于Y轴线驱动穿梭件移动，其中：穿梭件沿着平行于X轴线的方向仅定位至承载装置的一侧，仅穿梭件中的一个连接至承载装置；且穿梭件驱动器和穿梭件连接器配置成供给由驱动系统施加至承载装置的力的Y分量的至少10％。

摘要：本发明公开了一种致动器、定位系统和光刻设备。该致动器用于施加力和扭矩到物体上，包括：第一部分，其相对于致动器的第二部分沿至少第一自由度是可移动的，所述物体安装到所述第一部分，其中所述部分中的一个设置第一电线圈，所述第一电线圈布置成与另一部分的可磁化部协同工作，并且致动器的控制器布置用以产生第一电流通过所述第一电线圈以在所述第一部分和第二部分之间产生力，其中所述一个部分设置有第二电线圈，所述第二电线圈布置用以与另一部分的可磁化部协同工作，所述控制器还布置用以产生第二电流通过所述第二线圈以在所述第一部分和第二部分之间施加力和扭矩，使得所述致动器布置成相对于所述第二部分施加力和扭矩到所述物体上。

摘要：本发明涉及配置成支撑物体的可移动支撑件(1)，包括：用于支撑物体的支撑平面(2)；致动器组件，用于在第一方向和垂直于第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和第二方向在平行于支撑平面的平面中延伸。其中所述致动器组件包括：第一致动器(3)，配置成在第一致动方向(A1)上施加第一致动力(F1)，所述第一致动方向平行于支撑平面；第二致动器(4)，配置在第二致动方向(A2)上施加第二致动力(F2)，所述第二致动方向平行于支撑平面，其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直。

摘要：本公开涉及衬底台和制造用于衬底台的衬底支撑件的方法。在一种布置中，形成通过底座构件的多个孔。突节形成构件被接合至所述底座构件。多个突节结构被形成在所述突节形成构件中。每个突节结构包括在使用中接触被支撑的衬底的远端表面。每个突节结构包括通向被形成为通过所述底座构件的所述孔中的至少一个的开口。

摘要：本发明涉及用于沿支撑方向相对于基部支撑质量体的弹性引导装置，其中沿支撑方向的刚度相比于沿其它方向的刚度明显增加，例如沿竖直方向的刚度相比于沿水平方向的刚度明显增加。本发明还涉及包括至少一个弹性引导装置的定位装置，和包括这样的定位装置的光刻设备。

摘要：本公开提供一种用于衬底边缘曝光的系统，包括：支撑台，所述支撑台用于支撑衬底且具有位于中心的开口，其中，所述支撑台被配置成热调节所述衬底；可旋转支撑单元，所述可旋转支撑单元能够在竖直方向上移动穿过所述支撑台的所述位于中心的开口；传感器，所述传感器被配置成在所述衬底由所述可旋转支撑单元支撑时检测所述衬底的边缘；以及曝光单元，所述曝光单元用于在所述衬底由所述可旋转支撑单元支撑时曝光所述衬底的边缘。所述曝光单元可以被定位成邻近于所述传感器。所述曝光单元可以被配置成相对于所述衬底的平坦表面横向地移动。

摘要：一种用于在轨道与衬底处理设备的处理单元之间交换衬底的轨道接口，包括：第一传送单元和第二传送单元，其被配置成将衬底沿对应的第一装载传送路径和第二装载传送路径从轨道经由一个或更多个衬底轨道接收站传送至处理单元和将衬底沿对应的第一卸载传送路径和第二卸载传送路径从处理单元经由一个或更多个衬底轨道卸料站传送至轨道，其中所述一个或更多个衬底轨道接收站中的每个被布置成从所述轨道接收衬底，并且其中所述一个或更多个衬底轨道卸料站中的每个被布置成将衬底排出至所述轨道，并且其中所述第一装载传送路径和所述第一卸载传送路径与所述第二装载传送路径和所述第二卸载传送路径分隔开。