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发明专利:43实用新型: 0外观设计: 2
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申请号:200780049535.6 公开号:CN101578391 主分类号:C23C16/455(2006.01)I
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2007.12.26 公开日:2009.11.11
发明人:D·H·莱维
摘要:本发明公开一种在基片上沉积薄膜物质的方法,所述方法包括从薄膜沉积系统的输送头的输出面朝向基片的表面同时引导一系列气流,其中所述系列的气流包括至少第一气态反应物质、惰性吹扫气体和第二气态反应物质,其中第一气态反应物质能够与用第二气态反应物质处理的基片表面反应,其中一个或多个气流提供至少有助于使基片表面从输送头的面分离的压力。本发明还公开一种能够实施此方法的系统。
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申请号:01811054.1 公开号:CN1436315 主分类号:G03C1/498
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2001.06.06 公开日:2003.08.13
摘要:本发明涉及能够根据每位使用者的选择通过以下方法可选冲洗的整包装照相胶片:(1)传统湿法化学方法,即用显影液处理之后是在一种或多种后续药液中进行脱银,以获得彩色底片,(2)不采用水性药液的干法热敏方法,其中位于照相元件内部的受保护显影剂被热活化或解除保护,任选随后电子扫描已显影的胶片而不用脱银。本发明使单个生胶片既能在常规深槽方法中又能在干法热敏方法中显影。
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申请号:01811149.1 公开号:CN1436317 主分类号:G03C1/498
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2001.06.01 公开日:2003.08.13
摘要:本发明涉及一种非感光有机银盐混合物在彩色光热敏成像系统中的应用,该系统包括用于彩色影像的阻塞显影剂。至少一种有机银盐是热显影过程中唯一的主银供体,至少一种其他有机银盐用量有效抑制光热敏成像元件在热显影过程中的灰雾,其用量是30000-60000mg/摩尔卤化银。在一个优选实施方案中,该系统包括至少两种有机银盐的混合物,其中第一种有机银盐cLogP为0.1-10,pKsp为7-14,而第二种有机银盐cLogP为0.1-10,pKsp为14-21。
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申请号:200880109154.7 公开号:CN101809196A 主分类号:C23C16/455(2006.01)I
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2008.09.24 公开日:2010.08.18
摘要:在ALD系统中维持至少两个涂布组件之间对准或位置关系的设备,该设备包括:在涂布部分中的多个涂布组件;用于支撑涂布组件的至少第一杆和第二杆;和用于支撑杆的至少第一杆装配结构和第二杆装配结构;其中各个涂布组件由第一杆和第二杆支撑,并且其中至少两个组件和第一杆和第二杆的结合确定涂布组件输出面的涂布部分型面。还公开制造该设备的方法。
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申请号:01121291.8 公开号:CN1329280 主分类号:G03C1/42
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2001.06.13 公开日:2002.01.02
摘要:本发明涉及一种在同一乳剂层含有封端显影剂混合物的光热敏成像彩色元件。通过在不同彩色层具有不同封端显影剂或至少两种封端显影剂的混合物,可以控制各层的影像分辨率(在冲洗温度下),和平衡不同彩色层的密度生成或颜色。在不同成像层中可使用不同封端显影剂混合物,以平衡不同成像层或彩色单元中的γ,Dmin和宽容度。
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申请号:01121292.6 公开号:CN1329271 主分类号:G03B27/46
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2001.06.13 公开日:2002.01.02
摘要:处理热胶片(5)的一种方法和装置包括一个处理顺序,它包含对胶片的一部分执行预处理,以确定对胶片上的影像显影的后续处理的最佳条件。
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申请号:200880109091.5 公开号:CN101809192A 主分类号:C23C16/455(2006.01)I
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2008.09.24 公开日:2010.08.18
摘要:用于薄膜材料沉积的输送装置至少具有分别接收第一、第二和第三气态材料的公共供给源的第一、第二和第三进入口。该第一、第二和第三伸长输出通道中的每一个允许与相应的第一、第二和第三入口之一气体连通。该输送装置可以由孔板形成,所述孔板叠置而界定将供应室和导向通道互连的网络,以便将气态材料中的每一种从其相应的入口传递到相应的多个伸长输出通道。该输送装置包括由护面板之间的浮雕图案形成的扩散通道。还公开了薄膜沉积的方法。最后,一般地说,公开了流动扩散器和相应的流动扩散方法。
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申请号:200880109104.9 公开号:CN101809193A 主分类号:C23C16/455(2006.01)I
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2008.09.16 公开日:2010.08.18
摘要:公开了一种在基材上沉积薄膜材料的方法,包括向基材表面同时引导来自薄膜沉积系统的输送头的输出面的一系列气流,其中一系列气流包括至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料,其中第一反应性气态材料能够与用第二反应性气态材料处理的基材表面反应,其中一个或多个该气流提供至少有助于将基材表面与输送头表面分离的压力。还公开了一种能够实施这种方法的系统。
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申请号:200880108808.4 公开号:CN101821427A 主分类号:C23C16/455(2006.01)I
申请人:伊斯曼柯达公司 申请日:2008.09.24 公开日:2010.09.01
摘要:公开了在基材上沉积薄膜材料的方法,包括从薄膜沉积系统的输送头的输出面朝基材表面同时引导一系列气流,其中所述一系列气流包括至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料,其中第一反应性气态材料能与用第二反应性气态材料处理过的基材表面反应。还公开了能够进行这种方法的系统。
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申请号:00815367.1 公开号:CN1387676 主分类号:H01L21/3105
申请人:联合讯号公司 申请日:2000.09.11 公开日:2002.12.25
摘要:提供了将基片上的电介质膜平面化或形成图案的装置。该装置包括压机,后者将接触压力施加于以可操作方式连接的压缩工具上。压缩工具有平面型或带图案的工作表面。还提供了用于调节位置,定时和调节由压缩工具施加于电介质膜上的力的控制器。还提供了承载体,它带有任选的工件夹具以便在与压缩工具接触过程中支持基片和电介质膜。也提供了使用该装置的方法,以及平面化和/或形成图案的电介质膜。
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