摘要：本发明公开一种浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法。在所述浸没式光刻设备中，液体去除装置布置成：例如在曝光期间，通过沿一条线布置且与该线形成角度的多个细长的狭槽从衬底去除液体。液体去除装置用作浸没罩(hood)中的弯液面钉扎装置，或用在干燥装置中以从衬底上去除液滴。

摘要：本发明提供一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法。公开的流体处理结构设计用于全浸湿浸没光刻术。流体处理结构具有用于将流体提供到投影系统和衬底和/或衬底台之间的空间的第一开口、阻挡液体流出流体处理结构和衬底之间的空间的阻挡件、以及第二开口，所述第二开口通入所述空间的径向外侧处的区域，用于将来自流体处理结构的流体提供到在所述空间的径向外侧处的衬底台和/或衬底的顶部表面上。控制器可以设置成使得朝向衬底台中心的流体的流量大于在远离衬底台中心的方向上的流体的流量。