Patent9 专利在线
高级搜索 ▼
申请号或专利号
公开号
专利名称
专利摘要
申请人
发明人
全部专利
发明专利
实用新型专利
外观设计专利
高级搜索 - 多字段组合检索
+ 增加条件
查询语句:
(请输入搜索条件)
普通搜索
当前查询到
19
条专利与查询词 "
J·P·M·B·沃缪伦
"相关,搜索用时0.9375538秒!
排序方式:
按相关度排序
按申请日升序↑
按申请日降序↓
按公开日升序↑
按公开日降序↓
发明专利:
19
实用新型:
0
外观设计:
0
共
19
条,当前第
1-10
条
下一页
最后一页
返回搜索页
1:
[发明]
用于定位光学元件的致动器单元
申请号:
202180030344.5
公开号:CN115516379A 主分类号:G03F7/20
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2021.03.19 公开日:2022.12.23
发明人:
S·M·惠伯茨
;
R·J·J·范德默伦
;
J·P·M·B·沃缪伦
摘要:披露了一种用于定位光学元件的致动器单元,包括第一磁阻致动器,所述第一磁阻致动器包括第一定子部分和第一动子部分,所述第一定子部分和第一动子部分沿第一方向由一间隙分离开。所述第一动子部分被构造并且布置成连接到所述光学元件并且用于移动所述光学元件。所述第一定子部分被构造和布置成沿第一致动线施加磁力于所述第一动子部分上。所述第一动子部分能够沿所述第一方向相对于所述第一定子部分移动。所述第一定子部分和所述第一动子部分被构造和布置成使得至少对于所述第一动子部分沿所述第二方向的预定移动范围,所述第一致动线在操作使用时与所述第一动子部分一起沿垂直于所述第一方向的第二方向移动。
详细信息
下载全文
2:
[发明]
高度传感器、光刻设备和用于制造器件的方法
申请号:
201780068065.1
公开号:CN109906410A 主分类号:G03F9/00
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2017.10.12 公开日:2019.06.18
发明人:
H·巴特勒
;
J·P·M·B·沃缪伦
;
M·P·瑞因德斯
摘要:一种光刻设备(LA)将图案施加于衬底(W)。所述光刻设备包括高度传感器(LS)、衬底定位子系统和控制器,所述控制器被配置成使高度传感器测量跨越衬底的部位处的衬底表面的高度(h)。所测量的高度用于控制施加到衬底的一个或更多个图案的聚焦。相对于参考高度(zref)测量高度h。高度传感器可操作以改变参考高度(zref),这允许更宽的有效操作范围。可以放宽在测量期间控制衬底高度的规范。可以通过在高度传感器内移动一个或更多个光学元件(566,572,576,504和/或512)或移动高度传感器来改变参考高度。没有移动部件的实施例包括多元件光电探测器(1212)。
详细信息
下载全文
3:
[发明]
隔振系统和光刻设备
申请号:
201980030316.6
公开号:CN112074785A 主分类号:G03F7/20
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2019.04.23 公开日:2020.12.11
发明人:
R·H·E·M·雅各布斯
;
C·A·L·德胡恩
;
J·P·斯特瑞弗德
;
J·P·M·B·沃缪伦
摘要:本发明提供了一种隔振系统(IS),其包括承载有效载荷的活塞(402)、连接构件(410)、弹簧(404)和柔性构件(408)。弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑活塞。柔性构件被布置成经由连接构件沿所述方向以负刚度向活塞施加力。
详细信息
下载全文
4:
[发明]
光刻设备平台联接件
申请号:
202280073079.3
公开号:CN118176462A 主分类号:G03F7/20
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2022.10.27 公开日:2024.06.11
发明人:
J·P·M·B·沃缪伦
;
J·A·L·德胡耶
;
R·W·A·H·理拿斯
;
B·简森
;
R·G·C·迪布恩
摘要:披露了一种具有可变刚度的联接件。所述联接件包括:被布置成能够相对于彼此移动的可变形部件及支撑件,其中,所述可变形部件包括黏弹性材料,并且其中,所述支撑件具有被配置为收纳所述可变形部件的凹部,其中,所述可变形部件被配置为当在使用中力被施加到所述可变形部件时以体积变形方式变形,并且其中,所述可变形部件的形状及所述支撑件的形状被配置为使得所述可变刚度依据所述力的量逐渐增加。一种平台设备可以包括所述联接件。
详细信息
下载全文
5:
[发明]
流体处理结构、光刻设备和器件制造方法
申请号:
200910168669.0
公开号:CN101666983 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2009.09.02 公开日:2010.03.10
发明人:
G·塔娜萨
;
N·腾凯特
;
J·P·M·B·沃缪伦
;
D·M·H·飞利浦
;
M·A·C·斯凯皮斯
;
L·J·A·凡鲍克霍文
摘要:本发明提供一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法。公开的流体处理结构设计用于全浸湿浸没光刻术。流体处理结构具有用于将流体提供到投影系统和衬底和/或衬底台之间的空间的第一开口、阻挡液体流出流体处理结构和衬底之间的空间的阻挡件、以及第二开口,所述第二开口通入所述空间的径向外侧处的区域,用于将来自流体处理结构的流体提供到在所述空间的径向外侧处的衬底台和/或衬底的顶部表面上。控制器可以设置成使得朝向衬底台中心的流体的流量大于在远离衬底台中心的方向上的流体的流量。
详细信息
下载全文
6:
[发明]
载物台、工作台设备、光刻设备以及将物体装载到载物台或工作台设备上的方法
申请号:
202080030190.5
公开号:CN113826046A 主分类号:G03F7/20
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2020.03.25 公开日:2021.12.21
发明人:
S·J·赫尔曼努森
;
J·P·M·B·沃缪伦
;
H·巴特勒
;
B·简森
;
M·M·A·斯特尔
摘要:本发明提供了一种被配置为将物体保持在保持表面上的载物台,所述载物台包括:主体;从主体延伸的多个突节,突节的端面限定保持表面;致动器组件;其中致动器组件被配置为使主体变形,以基于要被保持的物体的形状信息来生成保持表面的平面外变形。
详细信息
下载全文
7:
[发明]
测量衬底及测量方法
申请号:
201680080037.7
公开号:CN108604064A 主分类号:G03F7/20(2006.01)I
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2016.11.23 公开日:2018.09.28
发明人:
P·J·尼弗斯
;
斯通扬·尼蒂安沃夫
;
R·H·M·J·布洛克斯
;
J·P·M·B·沃缪伦
;
J·P·M·德拉罗塞特
;
T·S·M·劳伦特
;
K·A·A·梅金娃
摘要:一种用于测量关于用于在设备的操作期间处理生产衬底的所述设备中的条件的测量衬底,该测量衬底包括:主体,具有与所述设备相兼容的尺寸;内嵌在所述主体中的多个传感器模块,每一传感器模块包括:传感器,配置成产生模拟测量信号;模数转换器,用以从该模拟测量信号产生数字测量信息;和模块控制器,配置成输出所述数字测量信息;和中心控制模块,配置成接收来自模块控制器中的每一个的所述数字测量信息且将该数字测量信息通信至外部装置。
详细信息
下载全文
8:
[发明]
测量衬底及测量方法
申请号:
202310776778.0
公开号:CN116794938A 主分类号:G03F7/20
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2016.11.23 公开日:2023.09.22
发明人:
P·J·尼弗斯
;
斯通扬·尼蒂安沃夫
;
R·H·M·J·布洛克斯
;
J·P·M·B·沃缪伦
;
J·P·M·德拉罗塞特
;
T·S·M·劳伦特
;
K·A·A·梅金娃
摘要:一种用于测量关于用于在设备的操作期间处理生产衬底的设备中的条件的测量衬底和方法。测量衬底包括:主体,具有与设备相兼容的尺寸;内嵌在主体中的多个传感器模块,每一传感器模块包括:传感器,配置成产生模拟测量信号;模数转换器,用以从该模拟测量信号产生数字测量信息;和模块控制器,配置成输出数字测量信息;和中心控制模块,配置成接收来自模块控制器中的每一个的数字测量信息且将该数字测量信息通信至外部装置。
详细信息
下载全文
9:
[发明]
用于热调节系统的消音器和光刻设备
申请号:
202480022015.X
公开号:CN120898170A 主分类号:G03F7/00
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2024.03.11 公开日:2025.11.04
发明人:
A·雷扎伊哈
;
J·H·W·雅各布斯
;
黄壮雄
;
M·W·L·H·费杰兹
;
J·J·L·H·韦斯派杰
;
R·范德米瑞东克
;
N·H·M·范德韦特林
;
J·P·M·B·沃缪伦
摘要:一种消音器,所述消音器被配置成使热调节流体导管中的热调节流体中的声波消音,并且所述消音器包括:敞开式入口,所述敞开式入口被配置成连接至所述热调节流体导管以与所述热调节流体导管中的所述热调节流体进行流体连通;消音器壳体,所述消音器壳体包括连接至所述敞开式入口的内部空腔;顺应性构件,所述顺应性构件将所述内部空腔划分成热调节流体空腔和基本上封闭的气体空腔,其中,所述热调节流体空腔连接至所述入口;入口导管,所述入口导管被配置成接收所述热调节流体;以及出口导管,其中,所述消音器还包括各自形成流体通道的多个平行导管,所述多个平行导管布置在所述入口导管和所述出口导管中的至少一个中。
详细信息
下载全文
10:
[发明]
用于热调节系统的消音器和光刻设备
申请号:
202480021377.7
公开号:CN120858316A 主分类号:G03F7/00
申请人:
ASML荷兰有限公司
申请日:2024.03.08 公开日:2025.10.28
发明人:
A·雷扎伊哈
;
黄壮雄
;
J·H·W·雅各布斯
;
R·范德米瑞东克
;
J·J·L·H·韦斯派杰
;
M·W·L·H·费杰兹
;
N·H·M·范德韦特林
;
J·P·M·B·沃缪伦
;
M·W·J·E·威吉克曼斯
;
R·G·克拉弗
摘要:一种消音器,被配置为使热调节流体管道中的热调节流体中的声波消音。消音器包括:开放入口,被配置为连接到热调节流体管道以与热调节流体进行流体连通;消音器壳体,包括连接到开放入口的内腔;顺应性构件,被布置在内腔中,其中顺应性构件将内腔分成热调节流体腔和气体腔,其中热调节流体腔连接到开放入口,并且其中气体腔形成实质封闭空间,其中气体腔包括多个气体通道,该多个气体通道在实质上垂直于顺应性构件的面向气体腔的表面的方向上延伸。
详细信息
下载全文
共
19
条,当前第
1-10
条
下一页
最后一页
返回搜索页