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发明专利:1774实用新型: 240外观设计: 2
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申请号:201710111604.7 公开号:CN106653661A 主分类号:H01L21/67(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.02.28 公开日:2017.05.10
发明人:徐冬;刘东
摘要:本发明公开了一种热处理设备的工艺门冷却系统,包括设于热处理设备工艺门上的热交换件和控制单元。热交换件包括冷却液进口、冷却液出口、同心设置的外环冷却管路和内环冷却管路、以及开关元件。控制单元在热处理工艺中根据热处理工艺不同工艺步骤的设定温度控制开关元件的导通或关断,以使外环冷却管路和/或内环冷却管路中流通冷却液,从而相应切换内外环冷却管路的工作方式使得内外环冷却管路同时工作或单独工作,从而提高设备的工艺适用性和稳定性,扩展设备竞争力。
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申请号:201710111744.4 公开号:CN106824901A 主分类号:B08B3/10(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.02.28 公开日:2017.06.13
摘要:本发明公开了一种卧式石英舟清洗机及清洗方法,通过利用花篮承载石英舟,并在机械手带动下进行反复升降或/和水平运动,以搅动超纯水工艺槽、化学工艺槽内的清洗液体,使石英舟可得到有效的振动清洗,并可伴随溢流及鼓气清洗工艺,从而实现了对石英舟的自动、全面、稳定的清洗;同时,通过在超纯水工艺槽外围设置超纯水工艺外槽及在化学工艺槽外围设置化学工艺外槽,可利用管路系统对超纯水工艺槽、超纯水工艺外槽及化学工艺槽、化学工艺外槽内的废液进行分类排放及回收,从而减少了废液处理过程中的大量浪费,节省了回收成本。
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申请号:201710120348.8 公开号:CN106933581A 主分类号:G06F9/44(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.03.02 公开日:2017.07.07
摘要:本发明公开了一种半导体软件模板系统,包括界面模板模块、界面编辑模块和界面动态布局模块,其中,界面模板模块生成了软件界面模板,能被各个功能单元共用,界面编辑模块与界面模板模块存在一一对应的关系,便于软件开发人员通过统一的界面模板进行编辑和显示,解决了传统一个功能一个代码设计造成的软件界面层次混乱、开发效率低,界面风格不统一的问题,实现了统一的软件界面平台,共享数据信息,规范管理,提升界面设计多样性和高效性。因此,本发明具有显著特点。
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申请号:201710122313.8 公开号:CN106959674A 主分类号:G05B19/418(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.03.02 公开日:2017.07.18
摘要:本发明公开了一种半导体工艺配方的管理系统和方法,其包括配方编辑管理模块、配方数据管理模块、配方传输管理模块和配方控制管理模块,其中,配方编辑管理模块采用对配方参数图形对象化的编辑方式生成工艺配方,实现了配方参数的编辑可视化、直接明了,便于编辑;配方控制管理模块生成工艺队列,并对工艺队列进行管理,实现了以PLC执行配方文件的控制方式,实现了实时动态修改工艺队列的参数,解决了上位机实时跟踪扫描PLC数据信息的笨重方式,大大提升数据传输效率和实时性,减少依赖PLC驱动读写的方式获取工艺数据。
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申请号:201710140799.8 公开号:CN106816401A 主分类号:H01L21/67(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.03.10 公开日:2017.06.09
发明人:徐冬;刘东
摘要:本发明公开了一种微环境与晶圆盒之间接口的密封装置,包括:框形密封圈固定板,密封叠设于接口面向晶圆盒的一侧;框形密封圈支撑板,可调节叠设于密封圈固定板外侧;框形密封圈,固定在密封圈支撑板上,并至少将其内外两侧壁的部分环绕覆盖;其中,当晶圆盒向接口移动并压紧密封圈支撑板时,通过使密封圈支撑板产生弹性形变,使密封圈支撑板两侧的密封圈对应压缩产生形变,形成晶圆盒与密封圈支撑板之间以及密封圈支撑板与密封圈固定板之间的密封,从而对接口进行有效密封。本发明还对应公开了一种密封方法。
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申请号:201710144321.2 公开号:CN106824929A 主分类号:B08B9/023(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.03.10 公开日:2017.06.13
发明人:李广义
摘要:本发明公开了一种立式多工位石英管清洗机,包括:清洗平台,转动设于本体内,清洗平台表面绕其中心贯通设有若干安装孔,安装孔内侧设有转盘,石英管固定在转盘上,受其带动进行自转,并在清洗平台带动下进行公转;一至若干外喷管,竖直设于本体内,并位于石英管外侧,沿外喷管侧壁设有多数个喷口,用于喷射清洗液或气体,以清洗或干燥石英管外壁;若干内喷管,与转盘一一对应,并由转盘下方穿过进入石英管内,沿内喷管侧壁及顶部也设有多数个喷口,用于喷射清洗液或气体,以清洗或干燥石英管内壁;并公开了一种相应的清洗方法;可一次性对多个石英管进行全面有效清洗,同时可实现对清洗后废液的分类回收,其结构简单、易实现。
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申请号:201710327078.8 公开号:CN107068599A 主分类号:H01L21/67(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.05.10 公开日:2017.08.18
摘要:本发明公开了一种用于硅通孔填充的磁控溅射腔室和半导体处理设备。本发明的磁控溅射腔室包括腔体、设置于腔体顶部的靶材、设置于靶材上方的磁控管、以及设置于腔体内部且位于靶材下方的基座,磁控管在靶材上的投影面积小于五分之一的靶材面积,以提高介质气体的离化率,从而提高对硅通孔的填充速率。根据本发明的半导体处理设备包括本发明的磁控溅射腔室。本发明的磁控溅射腔室和半导体处理设备,均提高了对硅通孔的填充速率。
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申请号:201710464284.3 公开号:CN107130226A 主分类号:C23C14/56(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.06.19 公开日:2017.09.05
发明人:张彦召;陈鹏
摘要:本发明提供一种等离子体腔室和用于物理气相沉积的预清洗设备。本发明公开的等离子体腔室包括腔体、等离子体发生器、以及设置于腔体内用于支撑被加工工件的基座;还包括等离子体调节装置,等离子体调节装置设置在基座上方;且当工艺时,等离子体调节装置的表面形成有鞘层,等离子体中的离子密度大的区域中的部分离子被鞘层中的电子中和为中性粒子,从而使到达被加工工件表面的等离子体中的离子密度趋于均匀。本发明公开的用于物理气相沉积的预清洗设备包括本发明的等离子体腔室。本发明的等离子体腔室及预清洗设备内的等离子体的密度分布均匀,对被加工工件的加工质量高。
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申请号:201710464985.7 公开号:CN107093545A 主分类号:H01J37/32(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.06.19 公开日:2017.08.25
摘要:本发明提供的反应腔室的下电极机构及反应腔室,其包括用于承载被加工工件的基座,以及设置在基座下方的下电极腔,该下电极腔包括相互隔离的电磁屏蔽空间和非电磁屏蔽空间,二者分别通过贯穿下电极腔的腔体与反应腔室的侧壁的第一引入通道和第二引入通道与外界连通;以防止电磁屏蔽空间内的第一部件受到来自非电磁屏蔽空间内的第二部件的干扰。本发明提供的下电极机构,其不仅可以避免因射频干扰导致的电场均匀性受到影响,而且还可以减少射频泄漏。
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申请号:201710518535.1 公开号:CN107090574A 主分类号:C23C14/35(2006.01)I
申请人:北京北方华创微电子装备有限公司 申请日:2017.06.29 公开日:2017.08.25
摘要:本公开提供了一种馈入结构、上电极组件以及物理气相沉积腔室和设备。射频功率经馈入结构的引入杆中心馈入,并由多个分配杆均匀分配到靶材。
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