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申请号:200380105142.4 公开号:CN1720445 主分类号:G01N23/225(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2003.10.08 公开日:2006.01.11
摘要:现提供数种通过带电粒子束(例如电子或离子)所引诱的X-射线发射为基础而用于制程监控的系统及方法,其概念在文中有描述。
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申请号:200380105144.3 公开号:CN1720446 主分类号:G01N23/225(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2003.10.08 公开日:2006.01.11
摘要:本发明提供数种通过带电粒子束(例如电子或离子)所诱引的X-射线发射为基础而用于制程监控的系统及方法,其中用于制程监控的系统及方法可在空孔被填充之前先分析该空孔,并接着在该空孔以导电材料填充后分析来自空孔的发散X-射线。用于制程监控的系统及方法也包括将定量分析校正技术应用于已检测X-射线发射上。
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申请号:200380110408.4 公开号:CN1820194 主分类号:G01N23/00(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2003.10.22 公开日:2006.08.16
摘要:本发明公开了一种使用多个检测器(14,40)检测电子的方法和系统,所述方法包括下述步骤:引导原电子束通过一柱(column)以接触被检测对象(晶元);通过引入强静电场,将由被检测对象(晶元)反射或散射的电子引向多个内部检测器(14,40),同时至少一些被引导的电子以相对于所述被检测对象(晶元)较小的角度反射或散射;以及接收来自至少一个内部检测器的检测信号。
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申请号:200480022822.4 公开号:CN1833174 主分类号:G01R31/307(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2004.06.07 公开日:2006.09.13
摘要:本发明是有关于一种用于检测晶片检测的方法和设备。该设备能够检测一样品,该样品具有一至少部分导电的第一层,以及形成于所述第一层上方的第二介电层,接着并在所述第二层内生成接触开口,该设备包括:(i)一适于导引一荷电粒子高电流束以同时照射分布在该样品一区域上多个位置处的大量接触开口的电子束源;(ii)一适于测量流过所述第一层的样品电流的测量装置,以响应在所述多个位置处大量的接触开口上的照射;以及(iii)一适于提供一可代表至少一缺陷通孔的指示的控制器,以响应所述测量结果。
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申请号:200480025993.2 公开号:CN1849497 主分类号:G01B15/04(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2004.07.12 公开日:2006.10.18
摘要:本发明涉及一种系统和方法,其用于测定具有次微米横断面的被测元件的横断面特征,该横断面是由位于第一断面(first traverse section)及第二断面(first traverse section)之间的中间面(intermediate section)所定义。该方法的第一步骤是以第一倾斜状态扫描一参考结构元件的第一部分及被测元件的至少第一断面,用以决定该参考结构元件与该第一断面之间的第一关系。第二步骤是以第二倾斜状态扫描参考结构元件的第二部分,及扫描被测元件的至少第二断面,用以决定该参考结构元件与该第二断面之间的第二关系。第三步骤为根据该第一及第二关系决定该被测元件的横断面特征。
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申请号:200480027321.5 公开号:CN1856858 主分类号:H01J37/08(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2004.09.17 公开日:2006.11.01
发明人:亚设·珀尔
摘要:本发明提供一种用来控制液态金属离子源的方法,该液态金属离子源包含一尖端,一第一电极及一第二电极,该方法包括的步骤为:(i)将第一电极保持在第一电压等级范围及将第二电极保持在第二电压等级范围,用以在源的操作中主动模式期间撷取形成在尖端上的金属离子;(ii)将第一电极保持在第三电压等级范围及将第二电极保持在第四电压等级范围,用以在源的操作中闲置模式期间实质上减少从尖端撷取金属离子。第三电压等级和第四电压等级中至少其一并不包括零电压等级。第一电压等级不同于第三电压等级。
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申请号:200510003486.5 公开号:CN1837745 主分类号:G01B11/02(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2005.10.08 公开日:2006.09.27
摘要:本发明揭示了用于减少非随机噪声效应的测量系统和方法,包括,一种系统包括适用于存储至少一个中间图像的存储单元,和处理器,其被连接至该存储单元且适用于(i)确定在中间图像内的感兴趣区域之间和在至少一个参考图像内的相应感兴趣区域之间的空间关系,及(ii)产生图像以响应空间关系和多个中间图像的内容。该中间图像可包含多个中间图像部分和多个感兴趣的区域。
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申请号:200510109823.9 公开号:CN1782690 主分类号:G01N1/28(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2005.07.14 公开日:2006.06.07
发明人:K·艾坦;S·德罗
摘要:公开了用于形成物体的样品、从物体提取样品以及在真空腔室中对所述样品进行包括表面分析和电子透明度分析的微观分析的方法和装置。在一些实施例中,提供一种成像提取样品的物体横截表面的方法。可选择地,在真空腔室中重复地变薄和成像样品。在一些实施例中,样品位于具有可选择缝隙的样品支持上。可选择地,样品位于样品支持的表面之上,以使物体横截表面基本上平行于样品支持的表面。一旦装配于样品支持之上,在真空腔室中对样品进行微观分析或装载于装载位置。在一些实施例中,利用基本上垂直地入射至物体横截表面的电子束成像样品。
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申请号:200510109859.7 公开号:CN1776412 主分类号:G01N21/956(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2005.07.29 公开日:2006.05.24
摘要:用于表面检测的装置,包括适于用照射光束照射所述表面的照射光学器件,所述照射光束具有可调偏振。该装置还包括至少一个检测器,每个检测器和各个分析器相连,所述分析器具有方向性,并且适于产生响应于通过分析器接收的表面上的被照射区的光的信号,至少一个检测器之一适于接收来自被照射区的散射光。该装置还包括一个控制器,其适于指导照射光学器件去照射被照射区,以及响应于由此在至少一个检测器中产生的校准信号,所述控制器适于设置可调偏振和每个检测器各个分析器的方向。
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申请号:200510113299.2 公开号:CN1766592 主分类号:G01N23/04(2006.01)I
申请人:应用材料以色列公司 申请日:2005.07.14 公开日:2006.05.03
发明人:K·艾坦;S·德罗
摘要:公开了在真空室中形成目标物样品、从该目标物提取样品和对该样品进行微量分析的方法和设备,该微量分析包括表面分析和电子透明度分析。在一些实施例中,提供了一种用于对提取的样品的目标横截面成像的方法。可选择地,在该真空室内反复薄化和成像该样品。在一些实施例中,该样品位于包括可选择的孔的样品支撑件上。可选择地,该样品位于该样品支撑件的表面上以使得该目标横截面基本上平行于样品支撑件表面。一旦安装在样品支撑件上,就或在该真空室中对该样品进行微量分析,或将其装载到装载站上。在一些实施例中,通过基本上垂直地入射到目标横截面的电子束来对该样品成像。
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