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发明专利:8实用新型: 30外观设计: 6
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申请号:201810317189.5 公开号:CN108312066A 主分类号:B24B47/12(2006.01)I
申请人:深圳赛贝尔自动化设备有限公司 申请日:2018.04.10 公开日:2018.07.24
摘要:本发明公开了一种研磨机或抛光机的下盘传动机构,包括机架,复数个下盘组件、下盘公转机构和下盘自转机构,下盘公转机构包括主托盘、主轴、轴承座、主电机和凸轮分割器,轴承座固定在机架上;主轴竖直地安装在轴承座中,由主电机驱动;主托盘固定在主轴的上端,凸轮分割器由主电机驱动,主轴由凸轮分割器驱动,凸轮分割器的位数与下盘组件的数量相同。本发明主托盘的主轴由凸轮分割器驱动,凸轮分割器是一种高精度的回转装置,不存在传动间隙,而且能够实现自锁,由凸轮分割器带动的主托盘在停止时能够精确定位、工作盘停止后不会周向晃动,工件的加
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申请号:201811108429.7 公开号:CN109015283A 主分类号:B24B27/00(2006.01)I
申请人:深圳赛贝尔自动化设备有限公司 申请日:2018.09.21 公开日:2018.12.18
摘要:本发明公开了一种抛光机或研磨机,包括机架、上盘结构、下盘结构和控制电路,上盘结构包括复数个上盘总成,上盘总成包括上盘、上盘升降机构、上盘驱动机构和上盘支架,上盘支架固定在机架上部的横梁架上。本发明上磨盘的升降高度和转速能分别进行控制,以满足工艺的需求或适应磨盘磨损的需要。
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申请号:201811117730.4 公开号:CN109015373A 主分类号:B24B47/12(2006.01)I
申请人:深圳赛贝尔自动化设备有限公司 申请日:2018.09.21 公开日:2018.12.18
摘要:本发明公开了一种研磨机或抛光机的下盘传动机构,包括机架,复数个下盘组件、下盘公转机构和控制电路,下盘公转机构包括主托盘,主托盘包括与下盘组件数量相同的支承孔;下盘组件包括副托盘、托盘轴、轴承套、电机和由电机驱动的减速器,轴承套安装在所述的支承孔中,托盘轴由轴承套中的轴承支承;副托盘固定在托盘轴的顶端,电机和减速器安装在主托盘的下方,托盘轴的下部由减速器驱动。本发明每个下盘组件都有作为自转机构的电机和的减速器,不仅自转机构传动链短,而且不需要设置离合器,设备结构简单;各下盘组件便于单独调整转速,可以适应不同工艺的需要。
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申请号:201910052766.7 公开号:CN109538881A 主分类号:F16L59/065(2006.01)I
申请人:广东国研新材料有限公司 申请日:2019.01.21 公开日:2019.03.29
发明人:张得意;何峰斌
摘要:本发明公开了一种真空隔热器材及其生产工艺,包括至少两个隔热体和封边材料,其中,相邻的两个隔热体的侧面相隔一距离,以形成一真空区域;封边材料采用真空高温烧结封合所述真空区域的周缘,以隔绝所述真空区域和外界。所述生产工艺采用治具夹持两个由耐高温的隔热材料制成的隔热体,两个隔热体侧面相隔一定距离以形成一隔腔,在隔腔周缘上放置封边材料,放置真空高温烧结炉进行烧结,随后降温以使封边材料凝固,封合住所述隔腔的部分周缘,以形成一真空区域。真空区域阻绝了对流传热和接触传热,使热量难以传递到外界,实现了隔热效果;采用耐高温的隔热材料制成的隔热体,可应用在高温环境的隔热。
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申请号:202111399245.2 公开号:CN114248185A 主分类号:B24B29/02
申请人:深圳赛贝尔自动化设备有限公司 申请日:2021.11.19 公开日:2022.03.29
摘要:本发明实施例公开了一种水冷单面抛光机,包括上磨盘装置和下磨盘装置,上磨盘装置包括上底座、升降座、上磨盘机构和旋转驱动机构,上底座上竖设有滑轨,滑轨上设有滑块,升降座设于滑块上;上底座上设有驱动升降座上下运动的升降驱动机构;上磨盘机构包括治具盘、底盘、调心轴承、法兰盘、转轴管、旋转接头A、气管,下磨盘装置包括内轴管、外轴管、托盘、分水器、旋转接头B、下底座以及下磨盘。本发明采用调心轴承来实现治具盘的万向抛光,使治具盘上不同位置的产品的抛光力度一致;同时采用内外轴管进行进出水,通过旋转接头对接,结构简单,只需要密封旋转接头与内外轴管之间即可。
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申请号:202111399408.7 公开号:CN114161318A 主分类号:B24B55/02
申请人:深圳赛贝尔自动化设备有限公司 申请日:2021.11.19 公开日:2022.03.11
摘要:本发明实施例公开了一种抛光机下磨盘水冷机构,包括下底座、下磨盘、内轴管、外轴管、托盘、分水器、旋转接头,内轴管、外轴管的内部中空,内轴管设于外轴管中间;托盘上设有散热水道,分水器设于托盘中间,分水器连通散热水道的进水口和出水口;下磨盘设于托盘上;旋转接头包含一进一出2个通道;内轴管和外轴管的一端分别和旋转接头的2个通道连通,另一端分别连接分水器,通过分水器分别连通散热水道的进水口和出水口。本发明采用内外轴管进行进出水,通过旋转接头对接,结构简单,只需要密封旋转接头与内外轴管之间即可;长时间后,也不会出现漏水情况。
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申请号:202210049779.0 公开号:CN114633191A 主分类号:B24B29/02
申请人:深圳赛贝尔自动化设备有限公司 申请日:2022.01.17 公开日:2022.06.17
摘要:本发明实施例公开了一种晶圆周抛机及其校正定位方法,所述周抛机包括基座、抛光电机、压紧气缸、第一XZ轴伺服丝杆驱动组件、第二XZ轴伺服丝杆驱动组件,第一、第二XZ轴伺服丝杆驱动组件上分别设有左夹臂和右夹臂,左夹臂和右夹臂分别位于下夹盘的左右两侧,左夹臂底端设有定位部A,右夹臂底端并排设有间隔预设距离的定位部B和定位部C;第一、第二XZ轴伺服丝杆驱动组件上均设有打磨组件,打磨组件包括打磨电机,打磨电机竖直设置,打磨电机的输出轴上设有打磨辊,打磨辊外周对应设有打磨平面以及分别用于打磨上下倒角的上打磨斜面和下打磨斜面。本发明通过三点进行定位,能够始终将晶圆进行居中,校正方便,提升了晶圆的抛光效率。
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申请号:202210072549.6 公开号:CN114473807A 主分类号:B24B29/00
申请人:深圳赛贝尔自动化设备有限公司 申请日:2022.01.21 公开日:2022.05.13
摘要:本发明涉及一种研磨机或抛光机的下盘组件,包括机架,下盘组件、下盘公转组件、下盘自转组件、控制电路、托盘固定机构和取放料定位机构,主托盘的下方两侧安装有托盘固定机构和取放料定位机构,主托盘包括与下盘组件数量相同的支承孔;下盘组件包括副托盘、副盘轴、轴承套、托盘轴驱动齿轮和下盘总成,轴承套设置在支承孔中,下盘总成安装在副托盘上,副托盘固定在托盘轴的上端,副盘轴并由轴承套中的轴承支撑,副盘轴的下端与托盘轴驱动齿轮连接,托盘轴驱动齿轮并由下盘自转组件驱动。本发明托盘定位机构能够将托盘顶住在一个平面位置,在加工时,上盘对工件加压加工时不会对下托盘造成下沉,保证产品加工时的平行度。
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