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申请号:202311083980.1 公开号:CN119562558A 主分类号:H10D30/60
申请人:联华电子股份有限公司 申请日:2023.08.28 公开日:2025.03.04
发明人:李信宏
摘要:本发明公开一种中压晶体管结构及其制作方法,其中该中压晶体管结构包含一基底,一栅极结构设置于基底上,一源极轻掺杂区和一漏极轻掺杂区埋入于栅极结构的两侧的基底中,一导电结构接触漏极轻掺杂区,一第一间隙壁环绕栅极结构以及一第二间隙壁环绕导电结构,第一间隙壁接触第二间隙壁。
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