专利名称
申请号或专利号
公开号
专利摘要
申请人
发明人
全部专利
发明专利
实用新型专利
外观设计专利
排序方式:
按相关度排序
当前查询到
1
条专利与查询词 "
中压晶体管结构及其制作方法
"相关,搜索用时0.171875秒!
发明专利:
1
实用新型:
0
外观设计:
0
共
1
条,当前第
1-1
条
返回搜索页
1:
[发明]
中压晶体管结构及其制作方法
申请号:
202311083980.1
公开号:CN119562558A 主分类号:H10D30/60
申请人:
联华电子股份有限公司
申请日:2023.08.28 公开日:2025.03.04
发明人:
李信宏
摘要:本发明公开一种
中压晶体管结构及其制作方法
,其中该中压晶体管结构包含一基底,一栅极结构设置于基底上,一源极轻掺杂区和一漏极轻掺杂区埋入于栅极结构的两侧的基底中,一导电结构接触漏极轻掺杂区,一第一间隙壁环绕栅极结构以及一第二间隙壁环绕导电结构,第一间隙壁接触第二间隙壁。
详细信息
下载全文
共
1
条,当前第
1-1
条
返回搜索页
©2025
Patent9.com
All rights reserved.
蜀ICP备06009422号