摘要：一种液晶显示装置包括一上偏光片、一与该上偏光片相对的下偏光片及一位于该上下偏光片之间的液晶面板，该下偏光片与该液晶面板之间设有一多层光学膜，该多层光学膜具有一光轴，该多层光学膜的各层光学膜对平行于该光轴的线偏振光折射率相同，该多层光学膜相邻两层的对垂直于该光轴的线偏振光折射率不同。

摘要：一种正交频分多址系统的业务集成调度方法，根据各业务连接的调度参数值：信道状况、历史平均流量和调度间隔时间，及各调度参数值对应的调度影响系数确定该连接的集成调度优先级，在服务质量优先级相同的业务连接中优先对集成调度优先级高的业务连接进行调度；当对应的调度影响系数不为0时，业务连接的信道状况值越大则集成调度优先级越高，调度间隔时间越长则集成调度优先级越高，历史平均流量越小则集成调度优先级越高。采用本发明的集成调度方法只需在后台对调度影响系数进行配置即可实现多种不同的调度方法或多种调度方法的组合，便于不同调度方法的切换和维护；减少计算量，有效提高调度算法的运行效率。

摘要：一种宽带无线接入的非实时可变速率NRTVR业务的调度系统，包括调度信息模块、多优先级调度数据库以及调度决策模块；其中，调度信息模块将其内保存的MS含有连接的NRTVR业务的业务优先级的调度信息及时更新；多优先级调度数据库存储按业务优先级将新连接排列的调度队列；调度决策模块据系统目标选择严格优先级调度或集成优先级调度策略及WFQ或PFS调度方法，并据调度信息模块中的调度信息，对调度队列中的连接进行调度优先级的选择，并对被选择的连接进行数据调度和带宽分配。本发明能够实现带宽分配的长期公平性或兼顾系统数据吞吐量与公平性的目标。

摘要：本发明公开了一种实时业务的调度方法和装置，其中，该方法包括：通过第一调度方法和第二调度方法调度至少一个待调度队列中的业务数据，其中，第一调度方法用于调度至少一个待调度队列中的部分业务数据，第二调度方法用于调度至少一个待调度队列中的另一部分业务数据。借助于本发明的技术方案，通过引入了多个调度方法对调度队列中的业务数据进行调度，可以在完成数据调度的同时保证时延以及长期的公平性，同时还可以灵活实现调度策略的更新，从而能够根据系统的需求进行多目标调度，在保证调度效率的前提下有效改善了业务的服务质量，提高了用户体验。

摘要：本发明公开了一种WIMAX系统的带宽资源分配方法和装置，获取所有业务连接的信道条件，为所有配置了最小预留速率的业务连接分配基本带宽资源，然后根据信道条件对所有业务连接进行不区分业务类型的优化带宽资源分配。与现有技术相比较，本发明调度方法使用分级调度的方式，首先为满足所有连接的最小预留速率需求进行第一次资源分配，然后在带宽充裕的情况下选取信道条件好的业务连接进行第二次资源分配，既提供最小预留速率的QoS保证，又实现系统吞吐量的最大化以及带宽资源的有效利用。

摘要：本发明提供了一种用于基站的拥塞控制的方法和装置，属于无线通信领域。该方法包括：将拥塞状态划分为不同的等级，为每一等级的拥塞状态预先设置对应的拥塞控制模式；获取拥塞状态的判断参数；根据所述拥塞状态的判断参数判断当前周期的拥塞状态等级；根据判断得到拥塞状态等级执行所述拥塞状态等级对应的拥塞控制模式。该装置包括：设置模块、获取模块、判断模块和执行模块。本发明提供的技术方案可以解决现有技术中只有服务质量框架而缺乏相应的拥塞控制的实现方法的问题，有利于业务的发展。

摘要：本发明公开了一种WiMAX系统中实现接纳控制的方法和装置，当接收到移动台发起的新业务流接入请求，该方法包括：A、计算系统中每帧的可用时隙资源Cavailable和所述新业务流所需的时隙资源Cnew；B、如果M％×Cavailable≥Cnew，其中M％为系统中的预留百分率，则接纳该新业务流，否则转入步骤C；C、如果Cavailable＜Cnew，则拒绝该新业务流，否则转入步骤D；D、计算该新业务流的用户优先级Pnew，计算系统中已有业务流的平均用户优先级，记为Paverage，如果Pnew＞Paverage，则接纳该新业务流，否则拒绝该业务流。应用本申请提供的方法和装置体现了接纳控制的优先级，并且还提供了业务流最小速率的QoS保证。

摘要：本发明公开了一种接入控制方法及装置，本发明提供的方法包括：计算平均每帧中可用于新业务流的物理带宽；确定计算出的物理带宽能否满足新业务流的QoS最小预留速率所需的物理带宽；当新业务流属于实时业务时，若计算出的物理带宽满足新业务流的QoS最小预留速率所需的物理带宽，且该新业务流和已连接的实时业务流的QoS最大时延的要求都被满足时，接入该新业务流；否则，拒绝接入该新业务流。本发明实施例提供的接入控制方法及装置，在充分利用系统带宽资源的前提下，既能够保证系统所接纳的业务流的QoS最小预留速率的要求，又能够保证系统所接纳的实时业务的QoS最大时延的要求。

摘要：本发明提供磨削装置，该磨削装置能够对磨削磨轮的基台进行清洗。磨削装置具有超声波清洗单元。超声波清洗单元包含：一对侧壁，它们围绕基台和磨削磨具的内侧和外侧；底面，其连接一对侧壁；喷射口，其形成于侧壁或底面的至少任意一方，朝向基台或磨削磨具的至少任意一方喷射清洗液；清洗液提供部，其向喷射口提供清洗液；超声波振子，其对从清洗液提供部提供的清洗液赋予超声波；以及电力提供部，其对超声波振子施加电力。

摘要：本发明公开一种半导体装置及其制作方法，其中该半导体装置包括一基板、一鳍状结构、一栅极结构以及一第一阱。鳍状结构设置于基板之上。栅极结构设置于基板之上。鳍状结构的一延伸方向交叉于栅极结构的一延伸方向。第一阱设置于栅极结构之下，对应于半导体装置的一射极区，且第一阱具有一第一导电型，其中第一阱邻近于一阱阻挡层，阱阻挡层设置于射极区中的栅极结构之下。其中阱阻挡层具有一阱掺杂质的一第一掺杂浓度，第一阱具有阱掺杂质的一第二掺杂浓度，且第一掺杂浓度小于第二掺杂浓度。