摘要：本发明涉及保健饮品领域，具体提供了一种保健固体饮料及其制备方法。该保健固体饮料主要由黑豆35～40重量份、红豆35～40重量份、黑米20～30重量份的原材料制备而成。其制备方法为称取黑豆、红豆和黑米，混合后加水煮熟；煮熟之后浓缩干燥除水；干燥除水后制粉即得。达到的有益效果是：有效顺应了红豆黑豆黑米三者的协同作用效应，获得的保健固体饮料在增进视力、活化心血管、缓解疲劳以及提振精力等保健方面效果显著；同时口感清甜甘爽，易于为消费者所接受；提供的保健固体饮料的制备方法操作步骤简洁，能够最大限度的保留原材料的营养成分不流失，适于工业化推广应用。

摘要：一种氧化铝生产过程中的分解过滤方法，属于氧化铝生产技术领域，采用的装置的立盘过滤机、真空受液槽和气液分离器设置在分解槽系统的分解首槽上方；方法为：分解槽系统的分解末槽的氢氧化铝浆液进入立盘过滤机过滤，对立盘过滤机抽吸和反吹，分离出滤饼和分解母液；向立盘过滤机通入冷精液将卸下的滤饼冲稀，将冲稀后的滤饼利用位差排放到分解槽系统的分解首槽内，立盘过滤机的溢流进入分解末槽。本发明利用位差将冲稀后的滤饼从立盘过滤机直接传送到分解首槽内，流程简化，节省了占地，设备投资以及电力消耗。

摘要：本申请公开了一种用于光刻胶剥离的剥离液。本申请剥离液包括重量份2-15％有机胺化合物、75-97.5％有机溶剂和0.2-10％添加剂；有机胺化合物为MEA、DEA、TEA、MMEA和MDEA中至少两种；有机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂组成，前者选自BDG、甲基卡必醇、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚的至少一种，后者选自NMF、DMF和DMAC的至少一种；添加剂为环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、BTA、1-HBTA、TACM和DMNA的至少一种。本申请的剥离液，用两种以上有机胺与混合溶剂配合使用，剥离快；添加剂能防止金属腐蚀，和机溶剂都有较好的亲水性，可避免光刻胶再附着、残留，且环境污染小。

摘要：一种带无线充电装置的家具，可对电子产品进行无线充电，包括家具本体、无线充电装置和设置于家具本体内部的电源装置，所述家具本体上开设有凹槽，所述凹槽的底部设有电源线孔，所述无线充电装置嵌入到所述凹槽中，所述电源装置通过电源线孔与无线充电装置连接供电。本发明的无线充电装置嵌入设置于家具本体内，设置隐蔽，减少了室内空间的占用，也防止了在充电时手机的滑落，结构简单，安全性高，进一步提高了家具的适用性，为用户提供了便利。

摘要：一种智能化妆镜，包括镜框和嵌入在镜框中的镜面，所述镜框的背面连接有电源装置，还包括置物板、设置于置物板两端的一对挡板、设置于置物板上方外边缘的若干出风口和控制电路模块，所述置物板与镜框的下方固定，所述控制电路模块与电源装置连接，所述控制电路模块还连接有灯带、显示屏、触摸控制屏和出风系统，所述灯带固定在镜面正面的四周边缘，所述显示屏安装于镜面正面的上方且与灯带抵接，所述触摸控制屏设置于所述镜面正面，所述出风系统与出风口固定连接。本发明能除去镜面上的水雾，具有时钟、倒计时功能，三种模式的灯光调节，满足不同用户的需求，结构简单便于清洗，智能化程度高。

摘要：为克服现有LTPS技术中对M3层和LS层蚀刻效率低、成本高的问题，本发明提供了一种钼铝共用蚀刻液，包括磷酸、硝酸、醋酸、添加剂和水；以所述蚀刻液的总重量为基准，所述磷酸的含量为55‑65wt％、硝酸的含量为3‑5wt％、醋酸的含量为12‑18wt％、添加剂的含量为2.5‑4.0wt％，余量为水；所述添加剂包括金属盐、无机铵盐和助剂；所述蚀刻液中，无机铵盐的含量为0.1‑0.3wt％；所述助剂选自4‑羟基苯磺酸、二乙基三胺五乙酸、植酸中的一种或多种。同时，本发明还提供了采用该蚀刻液进行蚀刻的方法。本发明提供的钼铝共用蚀刻液可同时用于对M3层和LS层进行蚀刻，简化了工艺，提高了效率，降低了成本。

摘要：为克服现有蚀刻液对于不同金属以及金属氧化物的适配性差以及对铟氧化物存在蚀刻锥角形态失控的问题，本发明提供了一种蚀刻液组合物，其特征在于，包括以下组分：氧化剂、氟离子源、金属螯合剂、蚀刻调节剂、pH调节剂和水；所述蚀刻调节剂包括碳杂环化合物及其盐和无机酸及其盐；所述蚀刻液组合物满足以下条件：当0.01％≤mA+mB≤0.5％时，0.33≤mB/mA≤3；关系式(1)当0.5％＜mA+mB≤1.5％时，2≤mB/mA≤4；关系式(2)。同时，本发明还公开了上述蚀刻液组合物的应用。本发明提供的蚀刻液组合物适用于不同金属以及金属氧化物的蚀刻，能够稳定控制金属氧化物的蚀刻结构，蚀刻形成的底部锥角结构完整。

摘要：本发明涉及一种烟灰缸，包括用于存放烟灰的缸体；整流罩，整流罩设于缸体中并与缸体配合形成进气口和排灰口；在进气口和排灰口之间设置的排气口，用于将整流罩和缸体之间的气体向外排出；对应排气口设置的烟灰阻挡部，用于阻挡烟灰从排气口直接排出；负压单元，用于形成吸入外部的气体和烟灰的负压；烟灰缸吸入烟灰时，外部的气体和烟灰通过进气口吸入整流罩和缸体之间的区域，气体通过排气口排出，烟灰通过排灰口掉出后被收集于缸体内；其中，进气口的开口面积大于排灰口的开口面积以使进气口处的气流大于排灰口处的气流。能够有效地吸入飘散的烟灰，使得烟灰最终落入缸体中易于清理。

摘要：本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种不含氟的、对铟镓锌氧化物(IGZO)底材几乎无损伤的铜及其合金蚀刻液组合物。本发明的蚀刻液组合物，包括含有羟基或氨基的膦酸类化合物、过氧化氢、含氮杂环类化合物、羟基酸或羰基酸类化合物、有机碱或无机碱、水；所述蚀刻液组合物满足以下条件：2≤M+N≤4，3≤N/M≤7。本发明包括上述原料，并进一步限定含有羟基或氨基的膦酸类化合物和含氮杂环类化合物的含量关系，通过原料之间的协同作用，能够在对底层IGZO膜几乎无损伤的同时，对铜及其合金的布线材料进行良好蚀刻，保证了器件良好的电性和结构的完整性，提高了产品良率，降低制造成本；同时本发明蚀刻液组合物不含氟，对环境友好。

摘要：本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种铜系金属膜与非晶硅膜同步蚀刻的蚀刻液组合物，包括过氧化氢、氟化物、含氟表面活性剂、酰胺类化合物、含氮杂环类化合物、羟基酸或羰基酸类化合物、醇胺类化合物和水；所述蚀刻液组合物满足：0.1≤M+N≤1，2≤N/M≤5。本发明以过氧化氢、氟化物、含氟表面活性剂、酰胺类化合物、含氮杂环类化合物、羟基酸或者羰基酸类化合物、醇胺类化合物为主要成分，并限定氟化物和含氟表面活性剂的含量关系，通过原料之间的协同作用，使得蚀刻液组合物在使用寿命的初、中、末期均可保持优良的蚀刻特性，起到控制半导体非晶硅膜蚀刻的作用，省去常规制造工艺中后续一步的干刻非晶硅膜步骤，大大提高了生产制造效率，降低制造成本。