摘要：本发明是揭露一种修正布局图案的方法。首先输入一布局图案，且该布局图案包含至少一线段，然后由该线段形成一规则检测矩形，且该规则检测矩形包含至少一正方形。接着检测该正方形是否重迭其它布局图案的其它部分，并移除该正方形重迭其它布局图案的区域以取得一修正后的布局图案。最后输出该修正后的布局图案至一光罩。

摘要：一种感知式卫星定位装置及其方法，该装置设置于载具上，用以接收卫星所发送的定位数据，以判断该载具的行为状态并进行该载具的定位数据的误差修正，包括：用于接收该卫星所发送的该载具的定位数据的感测模块，用于储存该感测模块所接收的定位数据以及预先设定的该载具的行为转换阵列的数据库，对该定位数据与该行为转换阵列进行分析，以取得该载具的预测行为数据的分析模块，以及比对载具的该预测行为数据与该定位数据，以进行该载具的定位数据误差修正的修正模块。据此，可解决公知卫星定位装置的定位数据不够精确的问题。

摘要：本发明公开一种半导体结构及其制作方法以及制作半导体布局的方法，该方法首先提供第一布局与第二布局，该第一布局包括有多个布线图案，而该第二布局包括有多个连接图案。接下来于该第一布局的这些布线图案中定义多个第一待切割图案，这些第一待切割图案分别与这些连接图案重叠。而在定义出这些第一待切割图案后，于该第一待切割图案与该连接图案的重叠处切分这些第一待切割图案，以分解该第一布局形成第三布局与第四布局。最后，分别输出该第三布局与该第四布局至第一光掩模与第二光掩模上。

摘要：一种可替换的锁固结构组装组件，适用于一电子装置。电子装置具有一第一结构件及一第二结构件。组装组件包括一主体部及一卡勾部。主体部固定于第一结构件。卡勾部连接于主体部。卡勾部卡扣于第二结构件以将第一结构件以卡合的方式卡合至第二结构件。此外，一种电子装置结构件的组装方法亦被提及。

摘要：本发明涉及服装剪裁技术领域，具体涉及一种服装生产剪裁方法及系统；服装生产剪裁系统包括支撑台、压布辊和吸收件，吸收件设置于支撑台的外侧，且吸收件与支撑台配合；压布辊包括辊筒、调节支架和识别件，调节支架与支撑台配合，且设置于支撑台的上侧，辊筒套设于调节支架的外侧，且与调节支架转动连接，识别件设置于调节支架的外侧，且识别件与调节支架电性连接，改进剪裁系统，增设辊筒和调节支架，从而提升对待剪裁的布料的夹持稳定性，从而满足生产质量的需求，并适应性提出生产剪裁方法，在生产剪裁系统的基础上改进生产步骤，使得生产剪裁系统能得到合理的使用。

摘要：本发明涉及服装生产技术领域，具体涉及一种复合织物服装及服装生产方法及系统，复合织物服装包括天然丝层、棉层和尼龙层，天然丝层与尼龙层缝接，棉层与尼龙层粘接，棉层位于天然丝层和尼龙层之间，用于生产上述的复合织物服装的系统包括安装座、粘剂箱、转动辊和传送带，传送带设置在安装座的顶部，粘接箱与安装座固定连接，粘接箱位于传送带的上方，粘接箱的底部设置有开口，转动辊与传送带转动连接，转动辊的顶部位于开口处，能够将水溶性胶黏剂自动涂抹在面料上，从而提高生产效率。

摘要：本发明涉及纺织技术领域，具体公开了一种防磨损服装生产方法及其生产线，包括纺织桌、传送槽、转筒、传送带、安装板、第一电机、卡扣和夹子，传送槽设置于纺织桌的一侧，两个转筒的两端分别与传送槽转动连接，传送带套设于两个转筒的外表壁，卡扣的数量为多个，多个卡扣分别与传送带固定连接，并分别位于传送带的外表壁，夹子的数量为多个，每个夹子分别与对应的卡扣相互套接，安装板与传送槽固定连接，并位于传送槽的一侧，第一电机设置于安装板的上方，且第一电机的输出端贯穿传送槽并与其中一个转筒固定连接。以上结构的设置，可以防止服装对传送带造成卡滞，同时可以有效的防止以加工和未加工的服装混合。

摘要：本公开提供了一种用于衬底穿孔湿法沉积的预润湿方法和装置，涉及半导体生产和制造领域，尤其涉及衬底穿孔制程领域。实现方案为：在待沉积的衬底的种子层上形成金属氧化物，该种子层的至少一部分位于所述衬底的穿孔中；使用包含氢原子或氢离子中至少一者的活性气体或等离子体将所形成的金属氧化物还原为金属和水。

摘要：本发明提供一种金属硬掩膜及其制备方法和刻蚀方法，该金属硬掩膜的制备方法采用氧气等离子体处理将氮化钛硬掩膜层的预设厚度转化为氮氧化钛硬掩膜层，从而使氮化钛硬掩膜层及氮氧化钛硬掩膜层共同形成为金属硬掩膜，并在刻蚀过程中采用溅射刻蚀工艺先对氮氧化钛硬掩膜层进行物理刻蚀，然后再采用干法刻蚀工艺刻蚀氮化钛硬掩膜层，由于氮氧化钛硬掩膜层为薄且均匀的材料层，基于其与氮化钛硬掩膜层具有高的选择刻蚀比，所以可以选择溅射刻蚀工艺实现对氮氧化钛硬掩膜层的完全刻蚀，在此基础上选择采用干法刻蚀工艺可以在不存在氮氧化钛材料残留的情形下实现对氮氧化钛硬掩膜层的刻蚀，从而可以有效保证刻蚀孔的纯净性，保证刻蚀孔的形状。

摘要：本发明提供一种铝填孔设备的工艺腔室及铝填孔方法，工艺腔室包括：腔体、沉积屏蔽罩、升降机构、静电吸盘、支撑结构和回流加热部件；所述沉积屏蔽罩设置于工艺腔室的上部区域，所述回流加热部件设置在所述沉积屏蔽罩下方的工艺腔室内部，所述回流加热部件用于形成加热区域；所述支撑结构设置在所述静电吸盘中，所述支撑结构能够支撑衬底并将所述衬底送入所述加热区域内。本申请还提供一种铝填孔方法，该方法基于具有上述的一种铝填孔设备的工艺腔室的铝填孔设备进行。本申请通过在工艺腔中额外增加一个加热部件，能够实现在衬底和静电吸盘分离的情况下，对衬底进行单独的加热，以此提供金属铝的回流效果。