摘要：本文披露了一种调节量测设备的方法，所述方法包括：将量测设备的光瞳平面中的强度分布在空间上划分成多个像素；通过使用计算机调节所述多个像素的强度，减少目标中的结构不对称性对由所述量测设备对所述目标进行的测量的影响。

摘要：光刻设备是一种将期望的图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。针对参考衬底，确定跨衬底的局部高度偏差与聚焦信息(诸如所确定的聚焦量)之间的函数关系。随后针对另一衬底(例如，生产衬底)测量高度偏差。使用后续衬底的高度偏差和函数关系确定后续衬底的预测的聚焦信息。然后使用预测的聚焦信息来控制光刻设备以将产品图案施加到产品衬底。

摘要：一种匹配来自多个数据源(302，304)的记录的方法，多个数据源之间在它们的数据的匹配质量方面具有变化，该方法包括重复地匹配和过滤(314‑318)来自数据源的记录以使用连续较不严格匹配规则获得匹配记录(320，322)，匹配规则是基于匹配质量的变化而定义的。

摘要：本发明涉及一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(WT)。衬底支撑件包括主体(MB)、夹紧装置(VC；VSO)和抖动装置(DD)。主体包括用于支撑衬底(W)的支撑表面(S)。夹紧装置被布置为提供夹紧力以将衬底夹紧在支撑表面上。抖动装置被配置为抖动夹紧力。抖动装置可以被配置为在衬底W被装载到支撑表面上时抖动夹紧力。

摘要：一种方法，包括：获得使用图案化工艺处理的衬底上的量测目标的测量，该测量是使用测量辐射获得的；以及从测量导出图案化工艺的感兴趣参数，其中感兴趣参数由堆叠差异参数校正，堆叠差异参数表示目标的相邻周期性结构之间或量测目标与衬底上的另一相邻目标之间的物理配置中的非设计差异。

摘要：向真空室的内部提供第一目标，朝向第一目标引导第一光束以从第一目标的目标材料形成第一等离子体，第一等离子体与沿着第一发射方向从第一目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联，第一发射方向由第一目标的定位确定；向真空室的内部提供第二目标；并且朝向第二目标引导第二光束以从第二目标的目标材料形成第二等离子体，第二等离子体与沿着第二发射方向从第二目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联，第二发射方向由第二目标的定位，第一和第二发射方向不同。

摘要：例如用x射线或EUV波段中的辐射来照射感兴趣结构(T)，并且通过检测器(19、274、908、1012)检测散射的辐射。处理器(PU)例如通过仿真(S16)辐射与结构的交互并且比较(S17)仿真交互与检测辐射来计算诸如线宽(CD)或覆盖(OV)的特性。该方法被修改(S14a、S15a、S19a)来考虑由检查辐射引起的结构中的改变。这些改变例如可以是材料的收缩或者光学特性的改变。可以在当前观察或先前观察中由检测辐射引起改变。

摘要：一种确定图案化工艺的参数的方法，该方法包括：获得检测到的由在标称物理配置下具有几何对称性的结构重定向的辐射的表示，其中通过用辐射光束照射衬底使得所述衬底上的光束斑点被所述结构填充来获得检测到的辐射的表示；以及由硬件计算机系统基于来自所述检测到的辐射的表示中的不对称光学特性分布部分的光学特性值来确定所述图案化工艺的参数的值，所述检测到的辐射的表示中的不对称光学特性分布部分具有比所述检测到的辐射的表示中的另一部分更高的权重，所述不对称光学特性分布源自所述结构的与所述标称物理配置不同的物理配置。

摘要：一种配置参数确定过程的方法，该方法包括：获得结构的数学模型，所述数学模型被配置为预测在用辐射光束照射所述结构时的光学响应，所述结构在标称物理配置下具有几何对称性；由硬件计算机系统使用所述数学模型来模拟所述结构的所述物理配置中的一定量的扰动，以确定多个像素中的每个像素中的所述光学响应的对应变化，从而获得多个像素灵敏度；以及基于所述像素灵敏度，确定多个权重，所述多个权重用于与衬底上的所述结构的经测量的像素光学特性值组合，以产生与所述物理配置中的变化相关联的参数的值，每个权重对应于一个像素。

摘要：一种确定图案化工艺的套刻的方法，该方法包括：用辐射光束照射衬底，使得所述衬底上的光束斑点被单位单元的一个或多个物理实例填充，所述单位单元在套刻的标称值下具有几何对称性；使用检测器检测由所述单位单元的所述一个或多个物理实例重定向的主要零阶辐射；以及由硬件计算机系统从检测到的辐射的光学特性值确定所述单位单元的套刻的非标称值。