摘要：一种用于处理第一和第二实体之间的数字电子流的系统和方法，其中确定要应用于该流的流策略，并且然后依据该策略沿路径引导该流。为每个流提供一ID，并且与每个流相关联的标签表示要应用于其相关联流的策略。流之间也相互关联，关联的流具有关联的策略。具体地，可以处理或转发流。该路径可以包括图形设备和虚拟应用。

摘要：提供了一种用于使用MR图像和放射性标记来引导外科手术的系统和方法。所述方法包括针对所述伽玛探头的一个或多个位置中的每个来重建解剖结构的表面和伽玛探头，所述伽玛探头被取向以优化来自被放置在所述解剖结构中的目标位置处的放射性种子的放射性读数。检测所述伽玛探头在每个经重建的表面中的位置和取向以估计所述放射性种子相对于所述经重建的表面的位置。

摘要：一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

摘要：公开制造隔膜组件的方法。在一个布置中，堆叠结构包括平面衬底和至少一个隔膜层。所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区。选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分。在去除之后的所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平面衬底的所述边界区形成；围绕所述边界的边缘区段，所述边缘区段由所述平面衬底的所述边缘区形成；所述边界与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层及所述平面衬底的所述桥接区的第二部分形成。所述方法还包括通过切割或断裂所述桥接件而将所述边缘区段与所述边界分离。

摘要：一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

摘要：描述一种用于光刻设备中的表膜隔膜，所述表膜隔膜的特征在于其组成物在平面内是变化的。还描述一种制造表膜隔膜的方法，所述方法包括以下步骤：a)在衬底上设置牺牲层：b)在所述牺牲层上设置第一材料层；c)在所述第一材料层上设置抗蚀剂层；d)对所述抗蚀剂层进行图案化；e)蚀刻所述第一材料层以形成经图案化的表面；以及f)i)将第二材料的层沉积于所述经图案化的表面上且随后剥离所述第二材料的沉积于经图案化的抗蚀剂层上的部分，或ii)移除其余的抗蚀剂层、将第二材料的层沉积于所述经图案化的表面上并且随后对所述表面进行平坦化。

摘要：公开制造隔膜组件的方法。在一个布置中，堆叠结构包括平面衬底和至少一个隔膜层。所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区。选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分。在去除之后的所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平面衬底的所述边界区形成；围绕所述边界的边缘区段，所述边缘区段由所述平面衬底的所述边缘区形成；所述边界与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层及所述平面衬底的所述桥接区的第二部分形成。所述方法还包括通过切割或断裂所述桥接件而将所述边缘区段与所述边界分离。

摘要：一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

摘要：一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

摘要：一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

摘要： 本发明涉及通式（Ⅰ）化合物，其药学上可接受的加成盐和其立体化学异构体，通式（Ⅰ）中的Ｙ，R¹，R^２，R^３，R^４，R^５，R^６，Ｚ和式－____－的含义如说明书所述；还涉及通式（Ⅰ）化合物的制备方法，这些化合物作为药物的应用和含通式（Ⅰ）化合物的药物组合物。