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1:
[发明]
液体特性传感器
申请号:
200710166821.2
公开号:CN101169388 主分类号:G01N27/22(2006.01)I
申请人:
株式会社电装
申请日:2007.10.18 公开日:2008.04.30
发明人:
吉田贵彦
;
村田稔
摘要:用于检测液体特性的液体特性传感器(10)包括半导体板(1)、第一电极(4a)和第二电极(4b)、以及保护膜(3)。第一和第二电极(4a、4b)设置在半导体板(1)上,彼此间隔预定距离。保护膜(3)相对于该液体具有抵抗性。第一和第二电极(4a、4b)根据液体的相对介电常数来检测其间的电容作为液体的特性。半导体板(1)的电容-电压转换电路(6)将电容转换成电压值。
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2:
[发明]
蚀刻方法
申请号:
201110032036.4
公开号:CN102154648A 主分类号:C23F1/46(2006.01)I
申请人:
住友精密工业株式会社
申请日:2011.01.28 公开日:2011.08.17
发明人:
村田贵
;
柏井俊彦
摘要:本发明公开一种蚀刻方法,其含有蚀刻步骤及金属除去步骤,该蚀刻步骤从储存有含草酸的蚀刻液的储存槽,将蚀刻液供给至喷嘴体并使其吐出,来将形成有氧化铟锡膜的基板蚀刻,同时将从喷嘴体吐出的蚀刻液回收至储存槽内;而该金属除去步骤使在储存槽内所储存的蚀刻液通液至填充有钳合剂的吸附容器内,来将因蚀刻而被包含在蚀刻液中的铟离子及锡离子吸附、除去后,使其回流至储存槽内;将被储存在储存槽内的蚀刻液的铟离子浓度维持在260ppm以下。本发明能够将在蚀刻液所含有的铟离子及锡离子之中、特别是铟离子的浓度维持在适当的浓度。
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3:
[发明]
螯合材料再生方法及基板处理装置
申请号:
201210306729.2
公开号:CN103065958A 主分类号:H01L21/306(2006.01)I
申请人:
住友精密工业股份有限公司
申请日:2012.08.24 公开日:2013.04.24
发明人:
柏井俊彦
;
村田贵
摘要:本发明提供一种不使用碱性水溶液即可有效地去除吸附在具有阴离子吸附作用的吸附材上的氯化物离子的螯合材料再生方法、及具有螯合材料再生功能的基板处理装置。基板处理装置包括贮存蚀刻液L的贮存槽、进行蚀刻处理的基板处理机构、及蚀刻液再生装置等,蚀刻液再生装置包括:吸附金属成分的吸附塔;使蚀刻液L在贮存槽与吸附塔之间循环的去除处理用循环机构;将洗脱液、清洗液及置换液分别供给至吸附塔的洗脱液供给机构、清洗液供给机构及置换液供给机构;以及控制去除处理用循环机构、洗脱液供给机构、及置换液供给机构等的动作的控制装置。
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4:
[发明]
粉体搅拌装置、显影装置和装有显影装置的图像形成装置
申请号:
200710152510.0
公开号:CN101154077 主分类号:G03G15/08(2006.01)I
申请人:
京瓷美达株式会社
申请日:2007.09.27 公开日:2008.04.02
发明人:
村本秀也
;
植村聪
;
久保智彦
;
村田贵彦
摘要:本发明提供粉体搅拌装置、显影装置和装有该显影装置的图像形成装置。所述显影装置包括:显影容器,装入调色剂;显影辊,把调色剂提供给形成有静电潜影的像载体;以及搅拌输送构件,绕轴线转动,对所述显影容器内的调色剂进行搅拌,并向所述显影辊输送。所述搅拌输送构件包括:作为转动中心的轴部;以及薄片状的第一搅拌叶片和第二搅拌叶片,被固定在所述轴部,从所述轴部向直径方向外侧延伸。所述第一搅拌叶片把所述调色剂向第一输送方向输送,所述第二搅拌叶片把所述调色剂向与所述第一输送方向不同的第二输送方向输送。因此,即使把调色剂补给到显影容器局部区域,也可使调色剂在显影容器内的长度方向足以均匀分散,从而可形成高质量的图像。
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5:
[发明]
充气轮胎的制造方法以及充气轮胎
申请号:
200680007587.2
公开号:CN101137496 主分类号:B29D30/30(2006.01)I
申请人:
横滨橡胶株式会社
申请日:2006.03.06 公开日:2008.03.05
发明人:
桥村嘉章
;
泽田贵彦
摘要:一种充气轮胎的制造方法,其对在以热塑性树脂为主要成分的薄膜层上设有未硫化的橡胶层的生胎进行硫化。在将未硫化的橡胶层成形在薄膜层上时,将至少一根未硫化橡胶带材顺次贴合在薄膜层上来使未硫化橡胶层成形。
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6:
[发明]
冲压成形用铝合金板、其制造方法及其冲压成形体
申请号:
201480018802.3
公开号:CN105102645A 主分类号:
申请人:
株式会社神户制钢所
申请日:2014.04.08 公开日:2015.11.25
发明人:
中村贵彦
;
增田哲也
摘要:本发明提供一种冲压成形用铝合金板、其制造方法及其冲压成形体,其由含有Si:0.4~1.5质量%、Mg:0.3~1.0质量%,余量由Al和不可避免的杂质组成的铝合金构成,在维氏硬度计形成的压痕的对角线的长度中,相对于轧制方向为0°的对角线的长度L0与相对于轧制方向为45°的对角线的长度L45之差ΔL,相对于所述L0的比率P(%)为2.0%以下。
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7:
[发明]
1‑芳基亚氨基‑2‑乙烯基环丙烷羧酸衍生物的制造方法
申请号:
201580017064.5
公开号:CN106164044A 主分类号:C07C251/16(2006.01)I
申请人:
株式会社钟化
申请日:2015.03.23 公开日:2016.11.23
发明人:
村田贵彦
;
舟桥诚
;
西山章
摘要:本发明提供一种1‑芳基亚氨基‑2‑乙烯基环丙烷羧酸衍生物的制造方法,其在以工业规模实施时不会产生障碍,通过使用乙醇钠,以接近于使用叔丁醇锂时的收率、优选以使用叔丁醇锂时以上的优异收率使式(1)表示的N‑(芳基亚甲基)甘氨酸酯和(E)‑1,4‑二溴‑2‑丁烯反应,制造式(2)表示的1‑芳基亚氨基‑2‑乙烯基环丙烷羧酸衍生物。进而,本发明也包含通过在光学活性的催化剂的存在下,使用乙醇钠使式(1)表示的N‑(芳基亚甲基)甘氨酸酯和(E)‑1,4‑二溴‑2‑丁烯反应,制造式(4)表示的(1R,2S)‑1‑芳基亚氨基‑2‑乙烯基环丙烷羧酸衍生物的方法。
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8:
[发明]
热敏记录体
申请号:
201480080590.1
公开号:CN106536210A 主分类号:B41M5/337(2006.01)I
申请人:
大阪希琳阁印刷株式会社
申请日:2014.07.14 公开日:2017.03.22
发明人:
木村贵之
;
吉田雅彦
摘要:本发明的热敏记录体,在基材上至少具备热敏记录层和外涂层,所述基材由透明薄膜构成,至少所述热敏记录层及所述外涂层包含漫反射抑制成分,所述漫反射抑制成分抑制构成各层的粒子的漫反射。
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9:
[发明]
冲压成形用铝合金板、其制造方法及其冲压成形体
申请号:
201811202625.0
公开号:CN109385560A 主分类号:C22C21/02(2006.01)I
申请人:
株式会社神户制钢所
申请日:2014.04.08 公开日:2019.02.26
发明人:
中村贵彦
;
增田哲也
摘要:本发明提供一种冲压成形用铝合金板、其制造方法及其冲压成形体,其由含有Si:0.4~1.5质量%、Mg:0.3~1.0质量%,余量由Al和不可避免的杂质组成的铝合金构成,在维氏硬度计形成的压痕的对角线的长度中,相对于轧制方向为0°的对角线的长度L0与相对于轧制方向为45°的对角线的长度L45之差△L,相对于所述L0的比率P(%)为2.0%以下。
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10:
[发明]
液晶介质
申请号:
201680042417.1
公开号:CN107849453A 主分类号:C09K19/20(2006.01)I
申请人:
默克专利股份有限公司
申请日:2016.07.12 公开日:2018.03.27
发明人:
武田贵德
;
冈村维彦
;
田中纪彦
;
杉山靖
摘要:本发明涉及介电正性液晶介质,其包含一种或多种式I和式II化合物,其中参数具有如权利要求1中所示的各个含义,且涉及含有这些介质的液晶显示器,尤其是有源矩阵显示器和特别是垂直配向模式的显示器。
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